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一種釋放負離子酵素能量牙膏及其制備方法與流程

文檔序號:11203532閱讀:807來源:國知局

本發(fā)明屬于日用化工、醫(yī)用保健品領域。本發(fā)明的釋放負離子牙膏適用范圍廣,所得產(chǎn)品殺菌、消毒、除臭等功能顯著。



背景技術:

市場上銷售的牙膏種類很多,現(xiàn)有技術中,常規(guī)牙膏是由摩擦劑、保濕劑、增稠劑、發(fā)泡劑、芳香劑、水和其他添加劑組成的。其中主打成分都是摩擦劑,清潔作用主要是由摩擦劑完成。長期使用這種清潔方式,會令牙齒損傷,引起牙周炎等不良后果。含氟牙膏內(nèi)添加有活性物氟化鈉、氟化亞錫等。氟在清潔牙齒的同時也會對牙齒和骨骼產(chǎn)生負面影響,氟斑牙會使恒牙成深黃色?,F(xiàn)有技術中也有利用酵素酶作為添加劑的牙膏產(chǎn)品,但是配方過于復雜,導致成本增加,制備工藝繁瑣,且由于眾多添加劑,酵素發(fā)揮出的效果很差。

一種釋放負離子酵素能量牙膏,其在制作過程中加入天然礦物納米材料成份,使其具有釋放負離子、發(fā)射遠紅外線功能,使用中能夠釋放負離子,激活細胞活性,防電磁波輻射。經(jīng)研究發(fā)現(xiàn):由天然礦物六環(huán)石、蛋白石輕質(zhì)巖石、電氣石創(chuàng)制的釋放負離子添加劑具有一定的除臭、吸味、抗菌、防?。会尫咆撾x子、發(fā)射遠紅外的保健功能。牙膏中所含的草本植物酵素可以有效抑制牙菌斑,舒緩傷口。所含蘆薈多醣體能夠保護口腔黏膜、平衡口腔酸堿值,降低牙齦發(fā)炎。且本發(fā)明中不含三氟沙,降低致癌風險。



技術實現(xiàn)要素:

本發(fā)明的配方:甘油20-30;釋放負離子添加劑:0.1-6.0;非離子表面活性劑:2-10;鹵化鍶:0-16;草本植物酵素:2-10;蘆薈多醣:2-10;檸檬酸鉀:1-10;助劑:0.5-30;羥乙基纖維素:0-10;余量為生命能量水。

工藝:在裝有攪拌器、溫度計、回流冷凝管的反應器中加入一定量的羥乙基纖維素,使之均勻的分散在甘油中作為甲液。在去離子水中加入釋放負離子添加劑、磨料、香料、草本植物酵素、蘆薈多醣、檸檬酸鉀混合研磨均勻作為乙液。將甲液加入到乙液中混合、攪拌均勻、儲存、陳化、檢測、包裝。

實施方式

實施例1

甲液:非離子表面活性劑(吐溫20):3;羥乙基纖維素:2;甘油:25;乙液:釋放負離子添加劑:6;助劑無定型氧化硅:12;鹵化鍶:6;草本植物酵素:3;蘆薈多醣:2;檸檬酸鉀:2;去離子水:39。將甲乙液按上述工藝制的釋放負離子數(shù)為1500cm3以上的酵素能量牙膏。

實施例2

甲液:非離子表面活性劑(吐溫20):5;羥乙基纖維素:2.5;甘油:20;乙液:釋放負離子添加劑:5;助劑無定型氧化硅:10;鹵化鍶:10;草本植物酵素:3;蘆薈多醣:2;檸檬酸鉀:2;去離子水:40.5。將甲乙液按上述工藝制的釋放負離子數(shù)為1500cm3以上的酵素能量牙膏。

實施例3

甲液:非離子表面活性劑(吐溫20):3;羥乙基纖維素:2;甘油:25;乙液:釋放負離子添加劑:0;助劑無定型氧化硅:12;鹵化鍶:6;草本植物酵素:5;蘆薈多醣:3;檸檬酸鉀:2;去離子水:42。將甲乙液按上述工藝制的釋放負離子數(shù)為1500cm3以上的酵素能量牙膏。

實施例4

甲液:非離子表面活性劑(吐溫20):3;留蘭香油:1;甘油:25;乙液:釋放負離子添加劑:10;助劑無定型氧化硅:10;草本植物酵素:5;蘆薈多醣:2;檸檬酸鉀:2;去離子水:42。將甲乙液按上述工藝制的釋放負離子數(shù)為1500cm3以上的酵素能量牙膏。

實施例5

甲液:非離子表面活性劑(吐溫20):3;羥乙基纖維素:2;甘油:25;留蘭香油:1乙液:釋放負離子添加劑:6;助劑無定型氧化硅:12;鹵化鍶:6;草本植物酵素:5;蘆薈多醣:5;檸檬酸鉀:2;去離子水:23。將甲乙液按上述工藝制的釋放負離子數(shù)為1500cm3以上的酵素能量牙膏。



技術特征:

技術總結
一種釋放負離子酵素能量牙膏及其制備方法,其特征是由以下配方組成,發(fā)明配方:甘油20?30;釋放負離子添加劑:0.1?6.0;非離子表面活性劑:2?10;鹵化鍶:0?16;草本植物酵素:2?10;蘆薈多醣:2?10;檸檬酸鉀:1?10;助劑:0.5?30;羥乙基纖維素:0?10;余量為生命能量水。在反應器中加入一定量的羥乙基纖維素,使之均勻的分散在甘油中作為甲液,在去離子水中加入剩下組分混合研磨均勻作為乙液,將甲乙液混合、攪拌均勻、儲存、陳化、檢測、包裝。本發(fā)明不含三氟沙,降低致癌風險。釋放負離子有效抑菌、殺菌、激活細胞活性;所含草本植物酵素抑制牙菌斑,舒緩傷口;所含的蘆薈多醣可以顯著的降低牙齦發(fā)炎,清新口氣、除臭、口感新鮮。

技術研發(fā)人員:姜培;李青山;張超輝;韓國英;廉明洋
受保護的技術使用者:姜培
技術研發(fā)日:2016.03.23
技術公布日:2017.10.10
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