本發(fā)明涉及磚坯施釉,特別涉及一種封閉式低損耗磚坯施釉裝置。
背景技術(shù):
1、磚坯施釉是瓷磚生產(chǎn)過程中一個(gè)關(guān)鍵的環(huán)節(jié),通過在磚坯表面施以釉漿,可以增加瓷磚的美觀性、耐磨性、防污性等多種性能;傳統(tǒng)的施釉方法主要包括淋釉法、噴釉法和甩釉法等,然而,在采用上述施釉方法對(duì)磚坯進(jìn)行施釉的過程中,這些傳統(tǒng)方法存在自動(dòng)化程度低,工作環(huán)境差,生產(chǎn)穩(wěn)定性差等諸多問題。
2、隨著科技的發(fā)展,相關(guān)領(lǐng)域的技術(shù)人員也對(duì)磚坯施釉技術(shù)進(jìn)行了大量的優(yōu)化,為了進(jìn)行更為準(zhǔn)確的對(duì)比,如公開號(hào)為cn117962087a的中國專利公開了一種瓷磚施釉上釉裝置及上釉方法,包括第一上釉結(jié)構(gòu)和第二上釉結(jié)構(gòu),傳導(dǎo)控制結(jié)構(gòu)的前端限位安裝有除塵器,第一上釉結(jié)構(gòu)包括對(duì)接導(dǎo)管,連通控制管的前端連通設(shè)有對(duì)接導(dǎo)管,疏導(dǎo)帶上驅(qū)動(dòng)傳輸設(shè)有瓷磚,所述瓷磚的下端設(shè)有從動(dòng)輥,閥座的下端連通設(shè)有導(dǎo)排噴淋口。
3、其在使用時(shí),首先將瓷磚到達(dá)除塵器上,瓷磚的下端通過從動(dòng)輥進(jìn)行支撐承載,能夠配合進(jìn)行運(yùn)動(dòng),之后瓷磚到達(dá)第二上釉結(jié)構(gòu)位置處,此時(shí)通過對(duì)接導(dǎo)管導(dǎo)入釉料,釉料經(jīng)過導(dǎo)排噴淋口噴淋至瓷磚上,隨后瓷磚繼續(xù)進(jìn)行傳輸,到達(dá)第一上釉結(jié)構(gòu)位置處,通過涂釉轉(zhuǎn)盤對(duì)瓷磚進(jìn)行上釉處理,完成工作。
4、然而,上述現(xiàn)有技術(shù)在對(duì)瓷磚進(jìn)行施釉的過程中還有一些不足之處:
5、1、上述現(xiàn)有技術(shù)在對(duì)瓷磚進(jìn)行施釉的過程中,無法控制導(dǎo)排噴淋口對(duì)瓷磚的施釉寬度,從而導(dǎo)致大于瓷磚寬度位置的釉料無法噴淋在瓷磚上,造成釉料的浪費(fèi),增加成本。
6、2、在釉料的制備過程中會(huì)混入大量空氣,直接進(jìn)行噴涂,這些空氣可能會(huì)在釉層中形成針孔或氣泡,然而上述現(xiàn)有技術(shù)無法消除釉料中的氣泡,容易導(dǎo)致瓷磚釉面出現(xiàn)瑕疵,影響釉面的質(zhì)量。
7、因此,在上述陳述的觀點(diǎn)之下,現(xiàn)有技術(shù)的磚坯施釉手段還有可提高的空間。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、為了解決上述問題,本發(fā)明提供了一種封閉式低損耗磚坯施釉裝置,包括支撐架,支撐架上端安裝有兩個(gè)沿其寬度方向?qū)ΨQ分布的支撐板,其中一個(gè)支撐板遠(yuǎn)離支撐架的一側(cè)安裝有反應(yīng)桶,兩個(gè)支撐板上端共同設(shè)置有保護(hù)箱,兩個(gè)支撐板之間設(shè)置有輸送帶,反應(yīng)桶內(nèi)部安裝有陳腐單元,保護(hù)箱內(nèi)部安裝有用于對(duì)磚坯進(jìn)行噴釉工作的噴釉單元;
2、所述陳腐單元包括安裝于反應(yīng)桶內(nèi)部的攪拌桿,所述噴釉單元包括安裝于保護(hù)箱內(nèi)壁的分隔板,分隔板上端安裝有用于儲(chǔ)存原料的釉料箱,分隔板下方安裝有節(jié)流組件,釉料箱內(nèi)部設(shè)置有開合組件。
3、優(yōu)選的,所述陳腐單元還包括通過電機(jī)座設(shè)置于反應(yīng)桶上端的動(dòng)力電機(jī),動(dòng)力電機(jī)的輸出軸下端安裝有傳動(dòng)軸,傳動(dòng)軸遠(yuǎn)離動(dòng)力電機(jī)一端轉(zhuǎn)動(dòng)穿過反應(yīng)桶,傳動(dòng)軸外壁安裝有多個(gè)呈圓周分布的平行桿,多個(gè)平行桿遠(yuǎn)離傳動(dòng)軸一端共同安裝有連接環(huán),連接環(huán)下端設(shè)置有多個(gè)與傳動(dòng)軸軸線相平行且呈圓周分布的攪拌桿。
4、優(yōu)選的,多個(gè)所述攪拌桿外壁共同滑動(dòng)穿設(shè)有滑動(dòng)環(huán),滑動(dòng)環(huán)的內(nèi)側(cè)壁和外側(cè)壁均設(shè)置有環(huán)形凸塊,滑動(dòng)環(huán)的內(nèi)壁與外壁分別轉(zhuǎn)動(dòng)套設(shè)有過濾塊和過濾環(huán),過濾塊外側(cè)壁和過濾環(huán)內(nèi)側(cè)壁均開設(shè)有環(huán)形凹槽,環(huán)形凸塊與環(huán)形凹槽轉(zhuǎn)動(dòng)接觸,反應(yīng)桶內(nèi)頂壁安裝有多個(gè)呈圓周分布的陳腐液壓桿,陳腐液壓桿的伸縮端與過濾環(huán)相連接。
5、優(yōu)選的,所述動(dòng)力電機(jī)的輸出軸上端安裝有配合軸,配合軸外壁套設(shè)有配合錐齒輪,保護(hù)箱兩側(cè)壁均轉(zhuǎn)動(dòng)安裝有聯(lián)動(dòng)軸,聯(lián)動(dòng)軸遠(yuǎn)離保護(hù)箱一側(cè)外壁套設(shè)有與配合錐齒輪相嚙合的同步錐齒輪,聯(lián)動(dòng)軸靠近保護(hù)箱一側(cè)外壁套設(shè)有間歇齒輪,兩個(gè)支撐板之間轉(zhuǎn)動(dòng)穿設(shè)有多個(gè)等距分布的轉(zhuǎn)動(dòng)軸,支撐板中部的轉(zhuǎn)動(dòng)軸外壁套設(shè)有與間歇齒輪相嚙合的直齒輪,多個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)軸外壁共同套設(shè)有輸送帶,輸送帶外壁均勻安裝有多個(gè)等距分布的抵觸塊。
6、優(yōu)選的,所述釉料箱與反應(yīng)桶之間通過管道相連接,釉料箱下端安裝有多個(gè)施釉組,每個(gè)施釉組均包括設(shè)置于釉料箱下端的多個(gè)沿保護(hù)箱長度方向等距分布的噴釉筒,相鄰兩個(gè)施釉組的多個(gè)噴釉筒交錯(cuò)排布且相互錯(cuò)位,多個(gè)噴釉筒下端均設(shè)置有呈橢圓形的釉料噴嘴。
7、優(yōu)選的,所述輸送帶上方設(shè)置有兩個(gè)沿其寬度方向?qū)ΨQ分布的抵觸板,兩個(gè)抵觸板和保護(hù)箱內(nèi)壁之間共同安裝有多個(gè)等距分布的抵觸彈簧桿。
8、優(yōu)選的,所述節(jié)流組件包括設(shè)置于保護(hù)箱兩內(nèi)側(cè)壁與其長度方向相平行的兩個(gè)滑桿,兩個(gè)滑桿的相對(duì)側(cè)共同安裝有節(jié)流架,節(jié)流架靠近釉料噴嘴一側(cè)設(shè)置有多個(gè)與釉料噴嘴相對(duì)應(yīng)的節(jié)流板,釉料噴嘴靠近節(jié)流板一側(cè)開設(shè)有閥門孔,閥門孔內(nèi)頂壁開設(shè)有弧形槽,弧形槽內(nèi)滑動(dòng)安裝有弧形塊,弧形塊下端為逐漸向中部傾斜的v字型,節(jié)流板上端邊緣設(shè)置有便于插入閥門孔的倒角。
9、優(yōu)選的,所述節(jié)流組件還包括安裝于間歇齒輪遠(yuǎn)離保護(hù)箱一側(cè)的弧形撥條,保護(hù)箱靠近間歇齒輪的兩側(cè)壁均開設(shè)有平行孔,滑桿靠近保護(hù)箱一側(cè)設(shè)置有滑動(dòng)穿過平行孔的方形桿,方形桿遠(yuǎn)離滑桿一端安裝有圓形桿,平行孔內(nèi)頂壁與內(nèi)底壁均設(shè)置有阻尼塊,平行孔遠(yuǎn)離間歇齒輪一側(cè)壁開設(shè)有彈簧槽,彈簧槽內(nèi)由遠(yuǎn)離方形桿一側(cè)到靠近方形桿一側(cè)一次滑動(dòng)安裝有頂出彈簧和頂出塊;
10、保護(hù)箱內(nèi)側(cè)壁開設(shè)有滑動(dòng)槽,滑桿遠(yuǎn)離方形桿一端安裝有位于滑動(dòng)槽內(nèi)的支撐桿,支撐桿與滑動(dòng)槽之間滑動(dòng)接觸。
11、優(yōu)選的,所述開合組件包括設(shè)置于釉料箱內(nèi)底壁沿其寬度方向?qū)ΨQ分布的兩個(gè)伸縮開合板,兩個(gè)伸縮開合板的相對(duì)側(cè)滑動(dòng)對(duì)接,兩個(gè)伸縮開合板的相背側(cè)均安裝有開合拉繩,開合拉繩遠(yuǎn)離伸縮開合板一端依次穿過釉料箱和分隔板后與方形塊相連接,方形塊安裝于抵觸板上端,開合拉繩外壁滑動(dòng)套設(shè)有位于分隔板下端的限位筒,分隔板下端安裝有用于對(duì)限位筒進(jìn)行固定的連接塊,連接塊遠(yuǎn)離分隔板一端與限位筒相連接。
12、優(yōu)選的,所述釉料箱內(nèi)底壁安裝有兩個(gè)沿其長度方向?qū)ΨQ分布的閉合塊,閉合塊與伸縮開合板之間設(shè)置有閉合彈簧桿。
13、綜上所述,本申請(qǐng)包括以下有益技術(shù)效果:
14、一、本發(fā)明通過攪拌桿實(shí)現(xiàn)了對(duì)釉料和消泡劑的充分混合,加速了氣泡的消除,通過陳腐液壓桿、過濾塊和過濾環(huán)之間的相互配合,進(jìn)一步去除了釉料中的氣泡,避免了噴釉過程中氣泡導(dǎo)致的針孔和氣泡問題,從而顯著提升了釉面的質(zhì)量。
15、二、本發(fā)明通過間歇齒輪、直齒輪和輸送帶的配合實(shí)現(xiàn)了磚坯的精準(zhǔn)間歇移動(dòng),并通過抵觸塊和抵觸板的相互配合對(duì)磚坯進(jìn)行校正,確保噴釉位置的準(zhǔn)確性,通過節(jié)流架和節(jié)流板對(duì)釉料噴嘴的開合實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)控制,確保噴釉過程的高效和釉料的節(jié)約。
16、三、本發(fā)明通過開合拉繩、伸縮開合板和抵觸板之間的相互配合,能夠確保施釉的寬度與磚坯的寬度一致,避免釉料的浪費(fèi),降低成本。
1.一種封閉式低損耗磚坯施釉裝置,包括支撐架(1),支撐架(1)上端安裝有兩個(gè)沿其寬度方向?qū)ΨQ分布的支撐板(2),其中一個(gè)支撐板(2)遠(yuǎn)離支撐架(1)的一側(cè)安裝有反應(yīng)桶(3),兩個(gè)支撐板(2)上端共同設(shè)置有保護(hù)箱(4),兩個(gè)支撐板(2)之間設(shè)置有輸送帶(5),其特征在于:反應(yīng)桶(3)內(nèi)部安裝有陳腐單元(6),保護(hù)箱(4)內(nèi)部安裝有用于對(duì)磚坯進(jìn)行噴釉工作的噴釉單元(7);
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種封閉式低損耗磚坯施釉裝置,其特征在于:所述陳腐單元(6)還包括通過電機(jī)座設(shè)置于反應(yīng)桶(3)上端的動(dòng)力電機(jī)(61),動(dòng)力電機(jī)(61)的輸出軸下端安裝有傳動(dòng)軸(62),傳動(dòng)軸(62)遠(yuǎn)離動(dòng)力電機(jī)(61)一端轉(zhuǎn)動(dòng)穿過反應(yīng)桶(3),傳動(dòng)軸(62)外壁安裝有多個(gè)呈圓周分布的平行桿(63),多個(gè)平行桿(63)遠(yuǎn)離傳動(dòng)軸(62)一端共同安裝有連接環(huán)(64),連接環(huán)(64)下端設(shè)置有多個(gè)與傳動(dòng)軸(62)軸線相平行且呈圓周分布的攪拌桿(65)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種封閉式低損耗磚坯施釉裝置,其特征在于:多個(gè)所述攪拌桿(65)外壁共同滑動(dòng)穿設(shè)有滑動(dòng)環(huán)(66),滑動(dòng)環(huán)(66)的內(nèi)側(cè)壁和外側(cè)壁均設(shè)置有環(huán)形凸塊(661),滑動(dòng)環(huán)(66)的內(nèi)壁與外壁分別轉(zhuǎn)動(dòng)套設(shè)有過濾塊(67)和過濾環(huán)(68),過濾塊(67)外側(cè)壁和過濾環(huán)(68)內(nèi)側(cè)壁均開設(shè)有環(huán)形凹槽(662),環(huán)形凸塊(661)與環(huán)形凹槽(662)轉(zhuǎn)動(dòng)接觸,反應(yīng)桶(3)內(nèi)頂壁安裝有多個(gè)呈圓周分布的陳腐液壓桿(69),陳腐液壓桿(69)的伸縮端與過濾環(huán)(68)相連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種封閉式低損耗磚坯施釉裝置,其特征在于:所述動(dòng)力電機(jī)(61)的輸出軸上端安裝有配合軸(15),配合軸(15)外壁套設(shè)有配合錐齒輪(21),保護(hù)箱(4)兩側(cè)壁均轉(zhuǎn)動(dòng)安裝有聯(lián)動(dòng)軸(16),聯(lián)動(dòng)軸(16)遠(yuǎn)離保護(hù)箱(4)一側(cè)外壁套設(shè)有與配合錐齒輪(21)相嚙合的同步錐齒輪(17),聯(lián)動(dòng)軸(16)靠近保護(hù)箱(4)一側(cè)外壁套設(shè)有間歇齒輪(18),兩個(gè)支撐板(2)之間轉(zhuǎn)動(dòng)穿設(shè)有多個(gè)等距分布的轉(zhuǎn)動(dòng)軸(19),支撐板(2)中部的轉(zhuǎn)動(dòng)軸(19)外壁套設(shè)有與間歇齒輪(18)相嚙合的直齒輪(20),多個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)軸(19)外壁共同套設(shè)有輸送帶(5),輸送帶(5)外壁均勻安裝有多個(gè)等距分布的抵觸塊(8)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種封閉式低損耗磚坯施釉裝置,其特征在于:所述釉料箱(10)與反應(yīng)桶(3)之間通過管道相連接,釉料箱(10)下端安裝有多個(gè)施釉組,每個(gè)施釉組均包括設(shè)置于釉料箱(10)下端的多個(gè)沿保護(hù)箱(4)長度方向等距分布的噴釉筒(72),相鄰兩個(gè)施釉組的多個(gè)噴釉筒(72)交錯(cuò)排布且相互錯(cuò)位,多個(gè)噴釉筒(72)下端均設(shè)置有呈橢圓形的釉料噴嘴(73)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種封閉式低損耗磚坯施釉裝置,其特征在于:所述輸送帶(5)上方設(shè)置有兩個(gè)沿其寬度方向?qū)ΨQ分布的抵觸板(74),兩個(gè)抵觸板(74)和保護(hù)箱(4)內(nèi)壁之間共同安裝有多個(gè)等距分布的抵觸彈簧桿(75)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種封閉式低損耗磚坯施釉裝置,其特征在于:所述節(jié)流組件(12)包括設(shè)置于保護(hù)箱(4)兩內(nèi)側(cè)壁與其長度方向相平行的兩個(gè)滑桿(121),兩個(gè)滑桿(121)的相對(duì)側(cè)共同安裝有節(jié)流架(122),節(jié)流架(122)靠近釉料噴嘴(73)一側(cè)設(shè)置有多個(gè)與釉料噴嘴(73)相對(duì)應(yīng)的節(jié)流板(123),釉料噴嘴(73)靠近節(jié)流板(123)一側(cè)開設(shè)有閥門孔(124),閥門孔(124)內(nèi)頂壁開設(shè)有弧形槽(125),弧形槽(125)內(nèi)滑動(dòng)安裝有弧形塊(126),弧形塊(126)下端為逐漸向中部傾斜的v字型,節(jié)流板(123)上端邊緣設(shè)置有便于插入閥門孔(124)的倒角。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種封閉式低損耗磚坯施釉裝置,其特征在于:所述節(jié)流組件(12)還包括安裝于間歇齒輪(18)遠(yuǎn)離保護(hù)箱(4)一側(cè)的弧形撥條(127),保護(hù)箱(4)靠近間歇齒輪(18)的兩側(cè)壁均開設(shè)有平行孔(128),滑桿(121)靠近保護(hù)箱(4)一側(cè)設(shè)置有滑動(dòng)穿過平行孔(128)的方形桿(129),方形桿(129)遠(yuǎn)離滑桿(121)一端安裝有圓形桿(130),平行孔(128)內(nèi)頂壁與內(nèi)底壁均設(shè)置有阻尼塊(131),平行孔(128)遠(yuǎn)離間歇齒輪(18)一側(cè)壁開設(shè)有彈簧槽(132),彈簧槽(132)內(nèi)由遠(yuǎn)離方形桿(129)一側(cè)到靠近方形桿(129)一側(cè)一次滑動(dòng)安裝有頂出彈簧(133)和頂出塊(134);
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種封閉式低損耗磚坯施釉裝置,其特征在于:所述開合組件(14)包括設(shè)置于釉料箱(10)內(nèi)底壁沿其寬度方向?qū)ΨQ分布的兩個(gè)伸縮開合板(141),兩個(gè)伸縮開合板(141)的相對(duì)側(cè)滑動(dòng)對(duì)接,兩個(gè)伸縮開合板(141)的相背側(cè)均安裝有開合拉繩(142),開合拉繩(142)遠(yuǎn)離伸縮開合板(141)一端依次穿過釉料箱(10)和分隔板(9)后與方形塊(143)相連接,方形塊(143)安裝于抵觸板(74)上端,開合拉繩(142)外壁滑動(dòng)套設(shè)有位于分隔板(9)下端的限位筒(144),分隔板(9)下端安裝有用于對(duì)限位筒(144)進(jìn)行固定的連接塊(145),連接塊(145)遠(yuǎn)離分隔板(9)一端與限位筒(144)相連接。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種封閉式低損耗磚坯施釉裝置,其特征在于:所述釉料箱(10)內(nèi)底壁安裝有兩個(gè)沿其長度方向?qū)ΨQ分布的閉合塊(146),閉合塊(146)與伸縮開合板(141)之間設(shè)置有閉合彈簧桿(147)。