本申請(qǐng)涉及真空鍍膜設(shè)備,尤其涉及一種翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和真空鍍膜設(shè)備。
背景技術(shù):
1、真空鍍膜設(shè)備是一種在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜設(shè)備,通過(guò)將基片與靶材同時(shí)放置在真空腔室中,以將靶材鍍到基片上。通常將靶材設(shè)置在靶體的放置面上,通過(guò)靶體的轉(zhuǎn)動(dòng)放置面的翻轉(zhuǎn),當(dāng)靶體的放置面翻轉(zhuǎn)至真空腔室之外,從而進(jìn)行更換或放置新的靶材。
2、相關(guān)技術(shù)中用于靶材更換的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),通常采用鉸鏈的方式,當(dāng)放置面水平朝上時(shí),由于鉸鏈連接于靶材與機(jī)架中間,使得靶材在更換過(guò)程中受到鉸鏈的干涉導(dǎo)致靶材更換不方便,或者通過(guò)多個(gè)氣缸和支架結(jié)構(gòu)將機(jī)架與靶體可轉(zhuǎn)動(dòng)連接,使得翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)比較復(fù)雜。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本申請(qǐng)的實(shí)施例提供一種翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和真空鍍膜設(shè)備,用于達(dá)到兼顧簡(jiǎn)化翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)和方便更換靶材的目的。
2、第一方面,本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),用于真空鍍膜設(shè)備,所述翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括機(jī)架、靶體和氣缸,所述機(jī)架沿所述機(jī)架的高度方向的第一側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有安裝口,所述機(jī)架具有支撐部;所述靶體包括在第一方向上相對(duì)的第一端部和第二端部,所述第一端部通過(guò)第一轉(zhuǎn)軸可轉(zhuǎn)動(dòng)連接于所述第一側(cè)壁上,使得所述靶體在第一位置和第二位置之間轉(zhuǎn)動(dòng)以靠近和遠(yuǎn)離所述安裝口;所述靶體沿所述靶體厚度方向且靠近所述第一側(cè)壁的一邊具有供靶材放置的放置面;所述第一方向垂直于所述靶體的厚度方向;所述氣缸活動(dòng)鉸接于所述機(jī)架的第一表面與所述靶體之間;沿所述高度方向,所述第一表面位于所述第一側(cè)壁與所述第一轉(zhuǎn)軸連接處的下方;所述靶體處于所述第一位置時(shí),所述氣缸的輸出桿伸長(zhǎng)至最長(zhǎng)位置,所述靶體止擋于所述安裝口處,所述放置面豎直位于所述機(jī)架之內(nèi);所述靶體處于所述第二位置時(shí),所述輸出桿收縮至最短位置,所述靶體與所述支撐部相抵接,所述靶體在支撐部向上的支撐力作用下相對(duì)所述機(jī)架固定,所述放置面與所述高度方向相交,所述放置面朝上。
3、在一些實(shí)施例中,所述靶體處于第二位置時(shí),所述放置面與所述高度方向相垂直。
4、在一些實(shí)施例中,所述第二端部的邊緣開(kāi)設(shè)有桿避讓槽;所述桿避讓槽在所述第一方向上的一端開(kāi)口,另一端封閉;所述第一側(cè)壁上設(shè)有定位桿,所述靶體處于所述第一位置時(shí),所述定位桿經(jīng)所述開(kāi)口位于所述桿避讓槽中,以限制所述靶體沿第二方向的移動(dòng),所述第二方向、所述第一方向與所述靶體的厚度方向兩兩相垂直。
5、在一些實(shí)施例中,所述靶體包括靶本體和套設(shè)于所述靶本體上的承載框,所述承載框沿所述第一方向具有所述第一端部和所述第二端部;所述承載框遠(yuǎn)離所述放置面的一側(cè)架設(shè)有支架,所述支架上設(shè)有氣缸頂座,所述輸出桿與所述氣缸頂座通過(guò)第二轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)連接,所述第二轉(zhuǎn)軸與所述第二方向相平行;所述第一表面上設(shè)有氣缸底座,所述氣缸遠(yuǎn)離所述輸出桿的一端與所述氣缸底座鉸接。
6、在一些實(shí)施例中,所述支架沿所述第二方向架設(shè)于所述承載框的所述第一端部與所述第二端部之間的中部位置。
7、在一些實(shí)施例中,所述第二端部與所述第一側(cè)壁通過(guò)緊固件可拆卸固定連接。
8、在一些實(shí)施例中,所述第一側(cè)壁上設(shè)有兩個(gè)連接座,所述連接座沿第二方向間隔設(shè)置,所述連接座上開(kāi)設(shè)有貫穿所述連接座的貫穿孔,所述貫穿孔的軸向與所述第二方向相平行,所述第二方向、所述第一方向與所述靶體的厚度方向兩兩相垂直;所述第一端部位于兩個(gè)所述連接座之間,所述第一轉(zhuǎn)軸與所述第一端部固定連接,所述第一轉(zhuǎn)軸伸入所述貫穿孔中與所述連接座轉(zhuǎn)動(dòng)連接。
9、在一些實(shí)施例中,所述第一端部間隔設(shè)有兩個(gè)連接耳,兩個(gè)所述連接耳與兩個(gè)所述連接座一一對(duì)應(yīng)。
10、在一些實(shí)施例中,所述機(jī)架包括基座和沿所述高度方向設(shè)置于所述基座上的真空腔室,所述真空腔室具有所述第一側(cè)壁;所述基座沿所述高度方向遠(yuǎn)離所述真空腔室的底面所在平面為所述第一表面,所述第一表面與所述高度方向相垂直;所述機(jī)架還包括設(shè)置于所述第一表面上的輔助座,沿所述靶體的厚度,所述輔助座位于所述基座與所述氣缸與所述機(jī)架連接處之間,所述輔助座遠(yuǎn)離所述第一表面的一側(cè)表面為所述支撐部。
11、在一些實(shí)施例中,所述輔助座遠(yuǎn)離第一表面的一側(cè)表面上開(kāi)設(shè)有用于避讓所述氣缸的氣缸避讓槽,所述氣缸避讓槽沿所述靶體的厚度方向貫穿所述輔助座,所述氣缸避讓槽位于所述氣缸的轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡上,所述氣缸避讓槽的槽口端面為所述支撐部。
12、在一些實(shí)施例中,所述靶體遠(yuǎn)離所述放置面的一側(cè)可轉(zhuǎn)動(dòng)連接有支撐桿,所述靶體處于所述第一位置和所述第二位置時(shí),所述支撐桿與所述高度方向相平行;所述靶體處于所述第二位置時(shí),沿所述高度方向,所述輔助座的高度與所述支撐桿的長(zhǎng)度之和等于所述第一轉(zhuǎn)軸與所述第一表面之間的高度。
13、本申請(qǐng)實(shí)施例提供的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),通過(guò)氣缸活動(dòng)鉸接于機(jī)架的第一表面與靶體之間,當(dāng)氣缸的輸出桿在伸長(zhǎng)至最長(zhǎng)位置與縮短至最短位置時(shí),靶體的第一端部能夠繞第一轉(zhuǎn)軸相對(duì)機(jī)架在第一位置和第二位置之間轉(zhuǎn)動(dòng);靶體處于第一位置時(shí),靶體止擋于機(jī)架的安裝口處,同時(shí)放置面位于機(jī)架內(nèi),此時(shí)可以對(duì)放置于放置面上的靶材進(jìn)行加工;當(dāng)需要更換放置面上的靶材時(shí),氣缸的輸出桿回縮,靶體的第一端部能夠在自身重力作用下繞第一轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng),直至靶材與機(jī)架的支撐部相抵接,此時(shí)體在支撐部向上的支撐力的作用下止擋于支撐部使得體相對(duì)于機(jī)架固定,此時(shí)靶體的放置面相對(duì)于高度方向傾斜或者垂直且放置面朝上,這樣用戶可以對(duì)位于靶體放置面上方的靶材進(jìn)行更換。本申請(qǐng)技術(shù)方案中的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,易操作,便于用戶對(duì)靶材進(jìn)行更換。
14、第二方面,本申請(qǐng)實(shí)施例還提供了一種真空鍍膜設(shè)備,包括如第一方面所述的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。
15、本申請(qǐng)實(shí)施例中的真空鍍膜設(shè)備中的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)與第一方面中的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)及所取得的技術(shù)效果相同,在此不再贅述。
1.一種翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),用于真空鍍膜設(shè)備,其特征在于,所述翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,
6.根據(jù)權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,
7.根據(jù)權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,
9.根據(jù)權(quán)利要求2~5中任一項(xiàng)所述的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其特征在于,
12.一種真空鍍膜設(shè)備,其特征在于,包括:如權(quán)利要求1~11中任一項(xiàng)所述的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。