本申請涉及單晶爐底盤領(lǐng)域，具體而言，涉及一種可調(diào)型單晶爐底盤組件。

背景技術(shù)：

1、單晶爐是一種用于生產(chǎn)單晶材料的設(shè)備，其核心功能是通過熔融再結(jié)晶的方法將多晶材料轉(zhuǎn)化為單晶，單晶爐底盤是單晶爐的重要組成部分，具體的，單晶爐底盤為單晶爐提供穩(wěn)定的支撐和固定，確保單晶爐在工作過程中不會發(fā)生晃動或傾斜，為了便于單晶爐中晶體的生長等各項操作，單晶爐底盤通常需要配備調(diào)節(jié)功能。

2、現(xiàn)有技術(shù)中，申請?zhí)枮?02221466197.4的實用新型公開了一種可調(diào)型單晶爐底盤組件，底盤連接于頂板開口處，頂板位于開口內(nèi)壁形成環(huán)形槽；底盤外圈可轉(zhuǎn)動連接于環(huán)形槽內(nèi)，底盤外側(cè)面形成第一齒紋；頂板位于環(huán)形槽外圍連通齒輪槽，齒輪槽內(nèi)設(shè)置有可自由旋轉(zhuǎn)的外齒輪；頂板位于環(huán)形槽和齒輪槽頂部設(shè)置拆裝板；該實用新型能沿支架轉(zhuǎn)動底盤調(diào)節(jié)單晶爐的角度，提高使用的靈活性，雖然該技術(shù)方案中，外齒輪和第一齒紋設(shè)計保證旋轉(zhuǎn)的穩(wěn)定性，而十字形的頂桿、固定蓋的設(shè)計保證底盤調(diào)節(jié)后的牢固性和穩(wěn)定性，但是，該單晶爐底盤組件缺少對單晶爐的支護結(jié)構(gòu)，難以保證單晶爐在旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)過程中的穩(wěn)定性，易出現(xiàn)單晶爐旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)過程中傾斜晃動的現(xiàn)象，影響晶體生長以及各項操作，為此，本申請?zhí)岢鲆环N可調(diào)型單晶爐底盤組件。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本申請的內(nèi)容部分用于以簡要的形式介紹構(gòu)思，這些構(gòu)思將在后面的具體實施方式部分被詳細(xì)描述。本申請的內(nèi)容部分并不旨在標(biāo)識要求保護的技術(shù)方案的關(guān)鍵特征或必要特征，也不旨在用于限制所要求的保護的技術(shù)方案的范圍。

2、為了解決以上背景技術(shù)部分提到的技術(shù)問題，本申請的一些實施例提供了一種可調(diào)型單晶爐底盤組件，包括底盤基板；旋轉(zhuǎn)設(shè)置在底盤基板上的旋轉(zhuǎn)盤，所述底盤基板上設(shè)置有用于驅(qū)動旋轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)的第二驅(qū)動機構(gòu)；豎直固定在旋轉(zhuǎn)盤上的一對豎臂，一對所述豎臂之間設(shè)置有用于固定套設(shè)在單晶爐上的擋護環(huán)，所述擋護環(huán)底部設(shè)置有用于對單晶爐底部支撐的托架，一對所述豎臂上設(shè)置有用于驅(qū)動擋護環(huán)升降的第一驅(qū)動機構(gòu)；設(shè)置在一對所述豎臂之間的固定環(huán)，固定環(huán)固定在旋轉(zhuǎn)盤上，用于對單晶爐底部套接限位。

3、進一步地，所述固定環(huán)側(cè)壁上對稱設(shè)置有一對固定臂，一對所述固定臂豎直固定在旋轉(zhuǎn)盤上。

4、進一步地，所述托架包括豎直固定在擋護環(huán)側(cè)壁上的一對連接臂，一對所述連接臂底端共同連接有托環(huán)。

5、進一步地，一對所述連接臂分別于一對所述固定臂滑動嵌套配合。

6、進一步地，所述底盤基板底部豎直固定有支撐架。

7、進一步地，所述第二驅(qū)動機構(gòu)包括開設(shè)在旋轉(zhuǎn)盤圓周面上的齒槽、旋轉(zhuǎn)安裝在底盤基板上的主動齒輪以及固定安裝在底盤基板上用于驅(qū)動主動齒輪旋轉(zhuǎn)的第二電機，主動齒輪與齒槽嚙合。

8、進一步地，所述第一驅(qū)動機構(gòu)包括豎向開設(shè)在豎臂上的滑槽、滑動嵌裝在滑槽內(nèi)的滑塊、豎直旋轉(zhuǎn)安裝在滑塊內(nèi)的絲桿以及安裝在豎臂頂端用于驅(qū)動絲桿旋轉(zhuǎn)的第一電機，所述滑塊與擋護環(huán)固定連接，所述絲桿螺紋貫穿滑塊。

9、進一步地，一對所述豎臂底端之間連接有固定板，所述固定板與旋轉(zhuǎn)盤螺栓連接。

10、本申請的有益效果在于：提供了一種具備旋轉(zhuǎn)和提升功能的可調(diào)型單晶爐底盤組件。

11、通過擋護環(huán)、固定環(huán)以及托架的設(shè)置，單晶爐底端穿過擋護環(huán)和固定環(huán)，擋護環(huán)底部的連接臂和托環(huán)對單晶爐底端支撐，配合第一驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)使擋護環(huán)升降，可對單晶爐進行提升，配合第二驅(qū)動機構(gòu)可驅(qū)使旋轉(zhuǎn)盤帶動一對豎臂整體旋轉(zhuǎn)，單晶爐在提升的同時，可進行旋轉(zhuǎn)操控，通過該旋轉(zhuǎn)和提升調(diào)節(jié)，可便于單晶爐內(nèi)進行單晶生長過程中的各項操作，同時單晶爐底盤的旋轉(zhuǎn)提升裝置有助于促進空氣流動，將風(fēng)引向該單晶爐底盤和單晶爐膛表面，促進降溫，確保單晶生長過程的穩(wěn)定性，此外，在旋轉(zhuǎn)和提升調(diào)節(jié)過程中，固定環(huán)和擋護環(huán)始終套設(shè)在單晶爐上，能夠?qū)尉t底部支撐防護，確保了單晶爐的穩(wěn)定性。

技術(shù)特征：

1.一種可調(diào)型單晶爐底盤組件，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)型單晶爐底盤組件，其特征在于：所述固定環(huán)(3)側(cè)壁上對稱設(shè)置有一對固定臂(10)，一對所述固定臂(10)豎直固定在旋轉(zhuǎn)盤(7)上。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的可調(diào)型單晶爐底盤組件，其特征在于：所述托架(6)包括豎直固定在擋護環(huán)(4)側(cè)壁上的一對連接臂(16)，一對所述連接臂(16)底端共同連接有托環(huán)(17)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的可調(diào)型單晶爐底盤組件，其特征在于：一對所述連接臂(16)分別于一對所述固定臂(10)滑動嵌套配合。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)型單晶爐底盤組件，其特征在于：所述底盤基板(1)底部豎直固定有支撐架(2)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)型單晶爐底盤組件，其特征在于：所述第二驅(qū)動機構(gòu)(9)包括開設(shè)在旋轉(zhuǎn)盤(7)圓周面上的齒槽(18)、旋轉(zhuǎn)安裝在底盤基板(1)上的主動齒輪(19)以及固定安裝在底盤基板(1)上用于驅(qū)動主動齒輪(19)旋轉(zhuǎn)的第二電機(20)，主動齒輪(19)與齒槽(18)嚙合。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)型單晶爐底盤組件，其特征在于：所述第一驅(qū)動機構(gòu)(8)包括豎向開設(shè)在豎臂(5)上的滑槽(12)、滑動嵌裝在滑槽(12)內(nèi)的滑塊(13)、豎直旋轉(zhuǎn)安裝在滑塊(13)內(nèi)的絲桿(14)以及安裝在豎臂(5)頂端用于驅(qū)動絲桿(14)旋轉(zhuǎn)的第一電機(15)，所述滑塊(13)與擋護環(huán)(4)固定連接，所述絲桿(14)螺紋貫穿滑塊(13)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)型單晶爐底盤組件，其特征在于：一對所述豎臂(5)底端之間連接有固定板(11)，所述固定板(11)與旋轉(zhuǎn)盤(7)螺栓連接。

技術(shù)總結(jié)
本申請公開了一種可調(diào)型單晶爐底盤組件，其屬于單晶爐底盤領(lǐng)域。包括底盤基板；旋轉(zhuǎn)設(shè)置在底盤基板上的旋轉(zhuǎn)盤，所述底盤基板上設(shè)置有用于驅(qū)動旋轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)的第二驅(qū)動機構(gòu)；豎直固定在旋轉(zhuǎn)盤上的一對豎臂，一對所述豎臂之間設(shè)置有用于固定套設(shè)在單晶爐上的擋護環(huán)，所述擋護環(huán)底部設(shè)置有用于對單晶爐底部支撐的托架，一對所述豎臂上設(shè)置有用于驅(qū)動擋護環(huán)升降的第一驅(qū)動機構(gòu)；設(shè)置在一對所述豎臂之間的固定環(huán)，固定環(huán)固定在旋轉(zhuǎn)盤上，用于對單晶爐底部套接限位。所述固定環(huán)側(cè)壁上對稱設(shè)置有一對固定臂，一對所述固定臂豎直固定在旋轉(zhuǎn)盤上。本申請的有益效果在于提供了一種具備旋轉(zhuǎn)和提升功能且結(jié)構(gòu)穩(wěn)定的可調(diào)型單晶爐底盤組件。

技術(shù)研發(fā)人員：李星,顏永波
受保護的技術(shù)使用者：杭州蓬博精密機械有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240708
技術(shù)公布日：2025/5/8