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電磁閥的制作方法

文檔序號:41841587發(fā)布日期:2025-05-09 18:00閱讀:10來源:國知局
電磁閥的制作方法

本發(fā)明涉及一種電磁閥,更具體地,涉及一種能夠降低電磁閥操作引起的噪音和振動的電磁閥裝置及其操作方法。


背景技術(shù):

1、一般的車輛制動系統(tǒng)感測車輪打滑并控制施加到車輪側(cè)的制動壓力,以防止車輪在制動過程中抱死,從而確保車輪在制動過程中不打滑并保持方向性,實(shí)現(xiàn)安全制動。

2、這種制動系統(tǒng)中配備有多個電磁閥,用于打開和關(guān)閉制動液壓管路的流道以控制制動壓力。電磁閥包括保持常開狀態(tài)的常開(normal?open)型電磁閥和保持常閉狀態(tài)的常閉(normal?close)型電磁閥。

3、傳統(tǒng)的常開型電磁閥安裝在調(diào)制器塊中以提高集成度,并且切削加工有閥孔,以便將閥安裝在調(diào)制器塊中。

4、該閥孔與調(diào)制器塊中形成的內(nèi)部流道連接,同時閥芯插入并安裝在所述閥孔內(nèi)。

5、上述閥芯的一端結(jié)合有圓筒形閥頂(valve?dome),以使安裝在閥頂內(nèi)部的中空中的電樞(armature)能夠進(jìn)退。所述電樞的一端設(shè)置有一體形成的柱塞,以通過進(jìn)退運(yùn)動來打開和關(guān)閉閥座的孔口(orifice),在柱塞和閥座之間安裝有復(fù)位彈簧。

6、另一方面,為了在線圈通電以操作電磁閥時銜鐵的快速響應(yīng),在電樞的外側(cè)面沿長度方向形成有凹槽。該凹槽降低了油壓,使電樞能夠快速移動柱塞,因此柱塞可以阻斷孔口。然而,電樞的快速響應(yīng)在復(fù)位時也適用,因此電樞或緩沖部件會與閥頂發(fā)生碰撞,由于這種碰撞,駕駛員可能會感覺到電磁閥的操作聲音。

7、近年來,隨著汽車產(chǎn)業(yè)從內(nèi)燃機(jī)轉(zhuǎn)向電動汽車,車輛運(yùn)行時的噪音標(biāo)準(zhǔn)也隨之提高。因此,降低電磁閥的噪音和振動的要求也越來越高。特別是,由于電磁閥的操作聲音是由與閥頂?shù)呐鲎埠蛷?fù)位彈簧的高合力引起的,因此需要采取應(yīng)對措施。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、(一)要解決的技術(shù)問題

2、本實(shí)施例的目的在于提供一種能夠降低電磁閥操作引起的噪聲和振動的電磁閥及其操作方法。

3、本實(shí)施例的目的在于提供一種電磁閥操作引起的沖擊面能夠改變的電磁閥及其操作方法。

4、本實(shí)施例的目的在于提供一種能夠緩沖電磁閥操作引起的沖擊的電磁閥及其操作方法。

5、本實(shí)施例的目的在于提供一種能夠降低電磁閥操作而產(chǎn)生的彈簧合力的電磁閥及其操作方法。

6、(二)技術(shù)方案

7、根據(jù)本發(fā)明的一個方面,提供一種電磁閥,包括:閥芯,形成有入口和出口;閥頂,封閉所述閥芯的一端;電樞,設(shè)置在所述閥頂內(nèi)部并能夠進(jìn)退;以及柱塞,根據(jù)所述電樞的進(jìn)退打開和關(guān)閉所述閥芯的入口,所述電樞包括:容納槽,凹陷形成在所述電樞的上表面;緩沖部件,設(shè)置在所述電樞和所述閥頂之間;以及阻尼彈簧,容納在所述容納槽中,使得所述緩沖部件的上表面與所述閥頂緊密接觸,并將所述緩沖部件彈性支撐在所述閥頂。

8、所述阻尼彈簧可以向上彈性支撐所述緩沖部件的下表面,使得即使所述電樞向下移動,所述緩沖部件的上表面也與所述閥頂緊密接觸。

9、所述緩沖部件可以包括流道孔,所述流道孔用于將流體從所述容納槽的外側(cè)連通到內(nèi)側(cè)。

10、所述流道孔可以設(shè)置多個。

11、所述緩沖部件可以包括:支撐部,插設(shè)在所述電樞的上表面和所述閥頂之間,以緩沖并支撐所述電樞;以及插入部,與所述支撐部連接,并插入所述電樞的容納槽中。

12、所述支撐部可以包括第一流道孔,所述第一流道孔凹陷形成在所述支撐部的下表面,所述插入部包括第二流道孔,所述第二流道孔凹陷形成在所述插入部的外周面,并與所述第一流道孔連接。

13、所述插入部可以設(shè)置為能夠在所述電樞的容納槽中滑動。

14、所述容納槽可以設(shè)置為圓筒形狀,所述插入部可以設(shè)置為圓筒形狀,并且所述容納槽的直徑可以大于所述插入部的直徑。

15、所述緩沖部件的上表面的周圍可以與所述閥頂緊密接觸,所述緩沖部件的上表面的中心和所述閥頂之間可以具有空間。

16、所述緩沖部件的上表面可以平坦地形成,所述閥頂可以凸出地形成以與所述緩沖部件的上表面的周圍接觸并且與所述緩沖部件的上表面的中心間隔開。

17、所述容納槽可以包括:第一容納槽,容納所述插入部;以及第二容納槽,與所述第一容納槽的下端連接,并容納所述阻尼彈簧。

18、所述第二容納槽的直徑可以小于所述第一容納槽的直徑。

19、所述第一容納槽的直徑可以越向所述第一容納槽與所述第二容納槽的連接部分越窄,所述第一容納槽的內(nèi)側(cè)表面傾斜。

20、所述插入部下側(cè)的直徑可以小于所述插入部上測的直徑,使得所述插入部的至少一部分插入所述第二容納槽中。

21、所述電樞可以包括第三容納槽,所述第三容納槽設(shè)置在所述容納槽的下端,以容納通過所述流道孔流入的流體。

22、所述第三容納槽的直徑可以小于容納所述阻尼彈簧的第二容納槽的直徑。

23、所述第二容納槽的直徑可以越向所述第二容納槽與所述第三容納槽連接的部分越窄,所述第二容納槽的內(nèi)側(cè)表面傾斜。

24、根據(jù)本發(fā)明的另一方面,提供一種電磁閥的操作方法,所述電磁閥包括:閥芯,形成有入口和出口;閥頂,封閉所述閥芯的一端;電樞,設(shè)置在所述閥頂內(nèi)部并能夠進(jìn)退;以及柱塞,根據(jù)所述電樞的進(jìn)退打開和關(guān)閉所述閥芯的入口,所述電磁閥的操作方法包括:當(dāng)所述電樞向下移動并遠(yuǎn)離所述閥頂時,凹陷形成在所述電樞的上表面的容納槽中設(shè)置的緩沖部件由容納在所述容納槽中的阻尼彈簧彈性支撐,從而所述緩沖部件的上表面與所述閥頂緊密接觸,當(dāng)所述電樞向上移動并靠近所述閥頂時,所述緩沖部件在所述容納槽中滑動,從而所述電樞的上表面與所述緩沖部件的下表面接觸。

25、可以提供一種電磁閥的操作方法,所述電磁閥包括用于將流體從所述容納槽的外側(cè)連通到內(nèi)側(cè)的流道孔,所述電磁閥的操作方法包括:當(dāng)所述電樞向下移動并遠(yuǎn)離所述閥頂時,所述容納槽外側(cè)的流體通過所述流道孔和所述電樞與所述緩沖部件之間間隔開的空間流入內(nèi)側(cè),當(dāng)所述電樞向上移動并靠近所述閥頂時,所述容納槽內(nèi)側(cè)的流體通過所述流道孔流出到外側(cè),流出的所述流體可以向所述緩沖部件提供向上的壓力。

26、可以提供一種電磁閥的操作方法,所述電磁閥包括設(shè)置在所述容納槽的下端的第三容納槽,所述電磁閥的操作方法包括:當(dāng)所述電樞向上移動并靠近所述閥頂時,沿所述流道孔流入所述容納槽的流體可以流入第三容納槽中。

27、(三)有益效果

28、本實(shí)施例提供一種能夠降低電磁閥操作引起的噪聲和振動的電磁閥及其操作方法。

29、本實(shí)施例提供一種電磁閥操作引起的沖擊面能夠改變的電磁閥及其操作方法。

30、本實(shí)施例提供一種能夠緩沖電磁閥操作引起的沖擊的電磁閥及其操作方法。

31、本實(shí)施例提供一種能夠降低電磁閥操作而產(chǎn)生的彈簧合力的電磁閥及其操作方法。



技術(shù)特征:

1.一種電磁閥,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁閥,其中,

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁閥,其中,

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電磁閥,其中,

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁閥,其中,

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電磁閥,其中,

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電磁閥,其中,

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電磁閥,其中,

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁閥,其中,

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電磁閥,其中,

11.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電磁閥,其中,

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的電磁閥,其中,

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的電磁閥,其中,

14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的電磁閥,其中,

15.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電磁閥,其中,

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的電磁閥,其中,

17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的電磁閥,其中,


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種電磁閥,包括:閥芯,形成有入口和出口;閥頂,封閉閥芯的一端;電樞,設(shè)置在閥頂內(nèi)部并能夠進(jìn)退;以及柱塞,根據(jù)電樞的進(jìn)退打開和關(guān)閉閥芯的入口,電樞包括:容納槽,凹陷形成在電樞的上表面;緩沖部件,設(shè)置在電樞和閥頂之間;以及阻尼彈簧,容納在容納槽中,使得緩沖部件的上表面與閥頂緊密接觸,并將緩沖部件彈性支撐在閥頂。

技術(shù)研發(fā)人員:金主惠
受保護(hù)的技術(shù)使用者:漢拿萬都株式會社
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/5/8
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