本發(fā)明涉及成膜裝置、檢測裝置及成膜裝置的控制方法。

背景技術(shù)：

1、近年來，作為監(jiān)視器、電視機、智能手機等的顯示畫面，使用有機el顯示裝置等平板顯示裝置。有機el顯示裝置的面板具有在兩個相向的電極（陰極電極、陽極電極）之間形成有引起發(fā)光的有機物層的結(jié)構(gòu)。在使用成膜裝置形成有機el顯示面板時，通過配置在成膜裝置的腔室中的基板保持器保持基板的周緣部，加熱設(shè)置在腔室下部的蒸發(fā)源，放出金屬或有機物的蒸鍍材料，經(jīng)由掩模蒸鍍到基板的下表面。但是，隨著基板尺寸的大型化，基板的中央部的自重引起的撓曲變大，有可能影響蒸鍍精度。

2、因此，為了減輕基板的撓曲，提出了使用靜電吸盤（esc:?electrostatic?chuck）來保持基板的技術(shù)。在專利文獻(xiàn)1（日本特開2019-117926號公報）中，通過以與基板的上表面相向的方式預(yù)先設(shè)置靜電吸盤，在靜電吸盤與基板接觸或接近的狀態(tài)下對靜電吸盤施加吸附電壓，從而吸附保持基板。由此，能夠減輕保持基板時的撓曲。另外，在專利文獻(xiàn)1中，公開了通過使用傳感器檢測基板向靜電吸盤的吸附狀態(tài)來測定靜電吸盤與基板的貼緊度，在靜電吸盤與基板貼緊的狀態(tài)下進(jìn)行成膜的技術(shù)。

3、在先技術(shù)文獻(xiàn)

4、專利文獻(xiàn)

5、專利文獻(xiàn)1：日本特開2019-117926號公報

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的課題

2、但是，如果異物附著在靜電吸盤的表面，則靜電吸盤有可能不能適當(dāng)?shù)匚交?。例如，如果使用附著有蒸鍍材料等?dǎo)電體的靜電吸盤，則即使施加吸附電壓也不能得到所希望的吸附力，靜電吸盤與基板的貼緊度有可能降低。另外，如果在使在室內(nèi)產(chǎn)生的顆粒附著于靜電吸盤表面的狀態(tài)下吸附基板，則有可能損傷基板。因此，要求檢查靜電吸盤的表面狀態(tài)，并檢測有無異物附著。

3、本發(fā)明是鑒于上述課題而完成的，其目的在于提供一種用于檢測在成膜裝置中吸附保持基板的靜電吸盤的表面狀態(tài)的技術(shù)。

4、用于解決課題的方案

5、本發(fā)明采用以下的技術(shù)方案。即，

6、一種成膜裝置，是對基板進(jìn)行成膜的成膜裝置，其特征在于，

7、所述成膜裝置具備：

8、靜電吸盤，具有吸附所述基板的吸附面；以及

9、檢測部件，檢測未吸附所述基板的所述吸附面的狀態(tài)。

10、本發(fā)明還采用以下的技術(shù)方案。即，

11、一種檢測裝置，配置在對被靜電吸盤的吸附面吸附的基板進(jìn)行成膜的成膜裝置中，其特征在于，

12、所述檢測裝置具備檢測未吸附所述基板的所述吸附面的狀態(tài)的檢測部件。

13、本發(fā)明還采用以下的技術(shù)方案。即，

14、一種成膜裝置的控制方法，該成膜裝置對被靜電吸盤的吸附面吸附的基板進(jìn)行成膜，其特征在于，

15、所述控制方法具有檢測部件檢測未吸附所述基板的所述吸附面的狀態(tài)的工序。

16、發(fā)明的效果

17、根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種用于檢測在成膜裝置中吸附保持基板的靜電吸盤的表面狀態(tài)的技術(shù)。

技術(shù)特征：

1.一種成膜裝置，是對基板進(jìn)行成膜的成膜裝置，其特征在于，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的成膜裝置，其特征在于，

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的成膜裝置，其特征在于，

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的成膜裝置，其特征在于，

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的成膜裝置，其特征在于，

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的成膜裝置，其特征在于，

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的成膜裝置，其特征在于，

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的成膜裝置，其特征在于，

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

17.根據(jù)權(quán)利要求14至16中任一項所述的成膜裝置，其特征在于，

18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

19.根據(jù)權(quán)利要求2所述的成膜裝置，其特征在于，

20.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

21.一種檢測裝置，配置在對被靜電吸盤的吸附面吸附的基板進(jìn)行成膜的成膜裝置中，其特征在于，

22.一種成膜裝置的控制方法，該成膜裝置對被靜電吸盤的吸附面吸附的基板進(jìn)行成膜，其特征在于，

技術(shù)總結(jié)
使用對基板進(jìn)行成膜的成膜裝置，所述成膜裝置具備：靜電吸盤，具有吸附基板的吸附面；以及檢測部件，檢測未吸附基板的吸附面的狀態(tài)。

技術(shù)研發(fā)人員：河合慈
受保護的技術(shù)使用者：佳能特機株式會社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/8