本技術(shù)涉及陶瓷吸盤，特別是涉及一種井字形真空陶瓷吸盤。

背景技術(shù)：

1、陶瓷吸盤具有優(yōu)異的高溫穩(wěn)定性，以及良好的比剛度和光學(xué)加工性能，陶瓷吸盤特別適合用于半導(dǎo)體集成電路裝備用精密陶瓷部件，陶瓷材料有良好的抗壓性能，但是陶瓷材料抗拉強(qiáng)度較弱，而陶瓷吸盤使用過程中就一定會(huì)面臨抗拉問題，如何提高陶瓷吸盤的抗拉性，避免在陶瓷吸盤使用過程中出現(xiàn)變形問題，使陶瓷吸盤在使用過程中能夠保持高穩(wěn)定狀態(tài)，因此，需要一種井字形真空陶瓷吸盤。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，本實(shí)用新型的目的在于提供一種井字形真空陶瓷吸盤，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中陶瓷吸盤使用時(shí)抗拉能力差的問題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：

3、一種井字形真空陶瓷吸盤，包括：

4、陶瓷吸盤，所述陶瓷吸盤呈井字形布設(shè)；

5、基座，所述基座配置于陶瓷吸盤上側(cè)，并且，所述基座與陶瓷吸盤擬形設(shè)置；

6、所述基座上配置有呈三角形的三個(gè)頂點(diǎn)位置設(shè)置的連接通孔，所述位于底側(cè)的兩組連接通孔在基座上設(shè)置通孔底座，所述通孔底座凸出基座設(shè)置，所述基座中心處設(shè)置主氣孔。

7、實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)方案，通過將陶瓷吸盤和基座之間擬形設(shè)置，能夠更好的使陶瓷吸盤受力均勻分散至基座上，并且，還能夠降低基座上側(cè)牽引時(shí)對(duì)陶瓷吸盤的拉力集中性，更好的均勻陶瓷吸盤受力，而井字形布設(shè)能夠降低陶瓷吸盤和基座的質(zhì)量的同時(shí)，還能夠保持吸取穩(wěn)定性，將吸力均勻分散，基座上配置有呈三角形的三個(gè)頂點(diǎn)位置設(shè)置的連接通孔，利用三角形均勻分散連接通孔處施加到基座上的拉力，從而提高基座受拉后的受力均勻性，以及使用穩(wěn)定性，通孔底座凸出基座設(shè)置，能夠加強(qiáng)受拉時(shí)通孔底座的連接穩(wěn)定性，還能夠避免連接底座對(duì)基座內(nèi)部空技能的占用。

8、于本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，所述陶瓷吸盤內(nèi)配置有上下貫通陶瓷吸盤的吸盤氣孔，并且，所述吸盤氣孔沿陶瓷吸盤井字形布設(shè)有多組。

9、實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)方案，吸盤氣孔沿陶瓷吸盤井字形布設(shè)有多組，能夠保證陶瓷吸盤在吸取工件時(shí)，產(chǎn)生足夠的吸附力，保證對(duì)產(chǎn)品吸附的穩(wěn)定性。

10、于本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，所述基座內(nèi)部設(shè)置沿水平方向貫通基座的氣道，所述氣道下側(cè)開設(shè)有貫通基座的基座氣孔，所述基座氣孔連通吸盤氣孔與氣道之間。

11、實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)方案，通過氣道能夠連通主氣孔與吸盤氣孔，進(jìn)而使陶瓷吸盤能夠在使用過程中產(chǎn)生足夠的吸力，以及保持吸力的穩(wěn)定性。

12、于本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，在靠近所述連接通孔下側(cè)的氣道呈封閉狀態(tài)。

13、實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)方案，將靠近連接通孔下側(cè)的氣道呈封閉狀態(tài)，能夠保證氣道內(nèi)氣流的穩(wěn)定性，避免由于連接通孔導(dǎo)致基座內(nèi)氣道的氣流紊亂，影響吸附效果。

14、于本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，所述主氣孔連通氣道。

15、于本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，所述基座側(cè)面設(shè)有開放式的氣道口，所述氣道口連通氣道，并且，所述氣道口徑向尺寸大于氣道徑向尺寸。

16、實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)方案，開放式的氣道口能夠保證氣流在氣道內(nèi)的流通穩(wěn)定性，而氣道口徑向尺寸大于氣道徑向尺寸，能夠方便在氣道口處加裝氣管。

17、于本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，所述陶瓷吸盤中心處為封閉狀。

18、實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)方案，提高陶瓷吸盤的使用穩(wěn)定性，使氣道內(nèi)氣體流通更加穩(wěn)定。

19、如上所述，本實(shí)用新型的一種井字形真空陶瓷吸盤，具有以下有益效果：通過將陶瓷吸盤和基座之間擬形設(shè)置，能夠更好的使陶瓷吸盤受力均勻分散至基座上，并且，還能夠降低基座上側(cè)牽引時(shí)對(duì)陶瓷吸盤的拉力集中性，更好的均勻陶瓷吸盤受力，而井字形布設(shè)能夠降低陶瓷吸盤和基座的質(zhì)量的同時(shí)，還能夠保持吸取穩(wěn)定性，將吸力均勻分散，基座上配置有呈三角形的三個(gè)頂點(diǎn)位置設(shè)置的連接通孔，利用三角形均勻分散連接通孔處施加到基座上的拉力，從而提高基座受拉后的受力均勻性，以及使用穩(wěn)定性，通孔底座凸出基座設(shè)置，能夠加強(qiáng)受拉時(shí)通孔底座的連接穩(wěn)定性，還能夠避免連接底座對(duì)基座內(nèi)部空技能的占用。

技術(shù)特征：

1.一種井字形真空陶瓷吸盤，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的井字形真空陶瓷吸盤，其特征在于：所述陶瓷吸盤內(nèi)配置有上下貫通陶瓷吸盤的吸盤氣孔，并且，所述吸盤氣孔沿陶瓷吸盤井字形布設(shè)有多組。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的井字形真空陶瓷吸盤，其特征在于：所述基座內(nèi)部設(shè)置沿水平方向貫通基座的氣道，所述氣道下側(cè)開設(shè)有貫通基座的基座氣孔，所述基座氣孔連通吸盤氣孔與氣道之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的井字形真空陶瓷吸盤，其特征在于：在靠近所述連接通孔下側(cè)的氣道呈封閉狀態(tài)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的井字形真空陶瓷吸盤，其特征在于：所述主氣孔連通氣道。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的井字形真空陶瓷吸盤，其特征在于：所述基座側(cè)面設(shè)有開放式的氣道口，所述氣道口連通氣道，并且，所述氣道口徑向尺寸大于氣道徑向尺寸。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的井字形真空陶瓷吸盤，其特征在于：所述陶瓷吸盤中心處為封閉狀。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及陶瓷吸盤技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種井字形真空陶瓷吸盤，陶瓷吸盤呈井字形布設(shè)，基座與陶瓷吸盤擬形設(shè)置，通過將陶瓷吸盤和基座之間擬形設(shè)置，能夠更好的使陶瓷吸盤受力均勻分散至基座上，并且，還能夠降低基座上側(cè)牽引時(shí)對(duì)陶瓷吸盤的拉力集中性，更好的均勻陶瓷吸盤受力，而井字形布設(shè)能夠降低陶瓷吸盤和基座的質(zhì)量的同時(shí)，還能夠保持吸取穩(wěn)定性，將吸力均勻分散，基座上配置有呈三角形的三個(gè)頂點(diǎn)位置設(shè)置的連接通孔，利用三角形均勻分散連接通孔處施加到基座上的拉力，從而提高基座受拉后的受力均勻性，以及使用穩(wěn)定性，通孔底座凸出基座設(shè)置，能夠加強(qiáng)受拉時(shí)通孔底座的連接穩(wěn)定性，還能夠避免連接底座對(duì)基座內(nèi)部空技能的占用。

技術(shù)研發(fā)人員：華俊義,龔首琳
受保護(hù)的技術(shù)使用者：昆山邁瑞凱精密工業(yè)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240726
技術(shù)公布日：2025/5/8