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一種低壓熔斷器用熔體的制作方法

文檔序號(hào):41851030發(fā)布日期:2025-05-09 18:10閱讀:1來源:國知局
一種低壓熔斷器用熔體的制作方法

本技術(shù)涉及一種熔體,具體為一種低壓熔斷器用熔體。


背景技術(shù):

1、低壓熔斷器是指當(dāng)電流超過規(guī)定值時(shí),以本身產(chǎn)生的熱量使熔體熔斷,斷開電路的一種電路元件,熔斷器廣泛應(yīng)用于高低壓配電系統(tǒng)和控制系統(tǒng)以及用電設(shè)備中,作為短路和過電流的保護(hù)器,是應(yīng)用最普遍的保護(hù)元器件之一。熔體是低壓熔斷器的重要組成部分。

2、目前,現(xiàn)有的熔體基本都是采用金屬帶沖壓成型,在調(diào)整額定電流的時(shí)候,通常是用不同厚薄的熔體,整根熔體是均勻的,這樣設(shè)計(jì)的缺點(diǎn)就是:1、熔體寬厚比只能在一定范圍內(nèi)變換;2、過薄的帶材難以冶煉加工,例如:0.06mm以下,卷繞搬運(yùn)也有困難,可能因卷繞后的自重導(dǎo)致局部變形和影響熔斷器成品電阻/變截面的截面積;3、過薄的帶材在沖壓成不同變截面形狀的熔體后,除了搬運(yùn)容易變形之外,后續(xù)把熔體焊接在熔斷器本體上的點(diǎn)焊工藝也較為困難,點(diǎn)焊功率過大容易燒穿薄熔體,功率過小影響后續(xù)的使用和可靠性。為此,發(fā)明對(duì)現(xiàn)有的低壓熔斷器用的熔體結(jié)構(gòu)進(jìn)行了改進(jìn)改良。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種低壓熔斷器用熔體,具備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,設(shè)計(jì)合理,通過改變功能區(qū)的形狀和厚度,便可實(shí)現(xiàn)不同載流能力,同時(shí)不會(huì)影響熔體的使用和可靠性的優(yōu)點(diǎn),解決了上述技術(shù)背景所提出的問題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種低壓熔斷器用熔體,該熔體包括熔體本體,所述熔體本體由功能部以及設(shè)置在功能部?jī)啥说陌惭b部構(gòu)成,所述安裝部與功能部一體沖壓成型,所述功能部由中間往兩端逐漸變寬,且功能部上設(shè)置有功能區(qū),所述功能區(qū)上下沉形成一下沉槽,在該下沉槽內(nèi)開設(shè)有鏤空孔。

3、優(yōu)選的,所述熔體本體整體呈“幾”字形狀,且熔體本體采用銅帶或銀帶或銅銀復(fù)合帶材料制造。

4、優(yōu)選的,所述安裝部呈u形狀。

5、優(yōu)選的,所述下沉槽的深度值在0.1mm-0.5mm之間。

6、優(yōu)選的,所述鏤空孔呈矩形狀或正方形狀。

7、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果如下:

8、1、本實(shí)用新型提供了一種低壓熔斷器用熔體,該熔體包括熔體本體,熔體本體由功能部以及設(shè)置在功能部?jī)啥说陌惭b部構(gòu)成,安裝部與功能部一體沖壓成型,整體結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,設(shè)計(jì)合理,其中功能部上設(shè)置有功能區(qū),在功能區(qū)上下沉形成一下沉槽,下沉槽的深度值在0.1mm-0.5mm之間,通過下沉槽可以改變功能區(qū)的厚度值,進(jìn)而可以根據(jù)需求調(diào)整功能區(qū)的橫截面厚度值,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)不同載流的需求,通過在下沉槽內(nèi)開設(shè)鏤空孔,同樣也可以改變功能區(qū)橫截面的面積,從而改變?nèi)垠w的載流值,滿足用戶不同的使用需求,通過改變功能區(qū)的形狀與厚度值來改變?nèi)垠w的載流,可以解決帶材難以冶煉加工以及搬運(yùn)變形的問題。



技術(shù)特征:

1.一種低壓熔斷器用熔體,其特征在于:包括熔體本體(1),所述熔體本體(1)由功能部(11)以及設(shè)置在功能部(11)兩端的安裝部(12)構(gòu)成,所述安裝部(12)與功能部(11)一體沖壓成型,所述功能部(11)由中間往兩端逐漸變寬,且功能部(11)上設(shè)置有功能區(qū)(13),所述功能區(qū)(13)上下沉形成一下沉槽(14),在該下沉槽(14)內(nèi)開設(shè)有鏤空孔(15)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低壓熔斷器用熔體,其特征在于:所述熔體本體(1)整體呈“幾”字形狀,且熔體本體(1)采用銅帶或銀帶或銅銀復(fù)合帶材料制造。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低壓熔斷器用熔體,其特征在于:所述安裝部(12)呈u形狀。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低壓熔斷器用熔體,其特征在于:所述下沉槽(14)的深度值在0.1mm-0.5mm之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低壓熔斷器用熔體,其特征在于:所述鏤空孔(15)呈矩形狀或正方形狀。


技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及一種熔體,具體為一種低壓熔斷器用熔體,該熔體包括熔體本體,所述熔體本體由功能部以及設(shè)置在功能部?jī)啥说陌惭b部構(gòu)成,所述安裝部與功能部一體沖壓成型,所述功能部由中間往兩端逐漸變寬,且功能部上設(shè)置有功能區(qū),所述功能區(qū)上下沉形成一下沉槽,在該下沉槽內(nèi)開設(shè)有鏤空孔。本技術(shù)具備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,設(shè)計(jì)合理,通過改變功能區(qū)的形狀和厚度,便可實(shí)現(xiàn)不同載流能力,同時(shí)不會(huì)影響熔體的使用和可靠性,值得大力推廣運(yùn)用。

技術(shù)研發(fā)人員:趙志成,何炳忠,郭彬,鄺孔才,黃斌
受保護(hù)的技術(shù)使用者:東莞市博鉞電子有限公司
技術(shù)研發(fā)日:20240726
技術(shù)公布日:2025/5/8
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