本申請涉及放射治療，具體涉及一種磁共振成像引導的放療系統(tǒng)及磁共振成像設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、磁共振成像(magnetic?resonance?imaging，mri)相較于電子計算機斷層掃描(computed?tomography，ct)成像優(yōu)點在于mri圖像能夠清晰呈現(xiàn)軟組織分布情況，從而可以更精確地確定腫瘤病灶位置，因此，mri越來越廣泛的應(yīng)用于放射治療中的圖像引導，特別是放射治療中的實時圖像引導。

2、然而，結(jié)合mri成像設(shè)備的放療系統(tǒng)的放射治療/成像空間非常小，如此，可能會引起位于該放射治療/成像空間內(nèi)患者的身體不適。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本申請實施例提供一種磁共振成像引導的放療系統(tǒng)及磁共振成像設(shè)備，可以增大放射治療/成像空間的大小，從而緩解患者的身體不適。

2、一方面，本申請?zhí)峁┮环N一種磁共振成像引導的放療系統(tǒng)，包括：旋轉(zhuǎn)機架，可繞預設(shè)旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)；治療頭，可隨所述旋轉(zhuǎn)機架的旋轉(zhuǎn)而轉(zhuǎn)動，用于對目標對象發(fā)出放射治療射線；磁共振成像設(shè)備，包括兩個磁體組件，沿所述旋轉(zhuǎn)機架周向相對設(shè)置于所述機架上，用于形成成像用磁場，所述成像用磁場與所述放射治療射線具有重疊區(qū)域，用以對所述目標對象進行磁共振成像；其中，相對設(shè)置的磁體組件的中心軸線與所述旋轉(zhuǎn)軸呈預設(shè)夾角，且越靠近所述中心軸線所述相對設(shè)置的磁體組件的內(nèi)表面之間的距離越大。

3、在本申請一些實施方式中，所述治療頭位于相對設(shè)置的磁體組件之間；或者，所述相對設(shè)置的磁體組件中至少一個磁體組件在所述中心軸線方向具有通孔，相應(yīng)的，所述治療頭位于所述通孔處，發(fā)出的放射治療射線照射所述目標對象。

4、在本申請一些實施方式中，所述治療頭包括第一治療頭和第二放療頭，所述第一放療頭和所述第二放療頭分別位于相對設(shè)置的磁體組件之間的兩側(cè)。

5、在本申請一些實施方式中，所述治療頭包括第一放療頭和第二治療頭，其中，所述第一放療頭位于兩個相對設(shè)置的磁體組件之間，所述第二放療頭位于所述通孔處，發(fā)出的放射治療射線照射所述目標對象。

6、在本申請一些實施方式中，位于相對設(shè)置的磁體組件之間的治療頭為伽瑪射線治療頭，位于所述通孔處的治療頭為伽瑪射線治療頭或x射線治療頭。

7、在本申請一些實施方式中，所述相對設(shè)置的磁體組件中至少一個磁體組件包括多個磁體，所述多個磁體沿所述中心軸線方向依次排布。

8、在本申請一些實施方式中，所述多個磁體嵌套排布。

9、在本申請一些實施方式中，所述多個磁體中的至少一個磁體與其他磁體的厚度不同。

10、在本申請一些實施方式中，所述多個磁體中至少兩個磁體之間設(shè)置有過渡件，所述過渡件由非磁性材料制成。

11、在本申請一些實施方式中，所述相對設(shè)置的磁體組件中至少一個磁體組件的內(nèi)表面呈曲面或階梯狀。

12、在本申請一些實施方式中，所述放療系統(tǒng)還包括探測器，所述探測器設(shè)置于與所述放療頭相對的位置，用于接收所述治療頭發(fā)出的放射治療射線并生成相應(yīng)的圖像數(shù)據(jù)。

13、在本申請一些實施方式中，所述系統(tǒng)還包括：患者支撐裝置，所述患者支撐裝置可沿所述旋轉(zhuǎn)軸方向移入或移出所述重疊區(qū)域，所述探測器與所述患者支撐裝置連接，可隨所述患者支撐裝置的運動而運動。

14、另一方面，本申請還提供一種磁共振成像設(shè)備，包括：相對設(shè)置的磁體組件，用于形成成像用磁場；所述相對設(shè)置的磁體組件具有一中心軸線，越靠近中心軸線所述相對設(shè)置的磁體組件的內(nèi)表面之間的距離越大。

15、本申請實施例中，可以利用磁共振成像設(shè)備中相對設(shè)置的磁體組件形成的磁場，對待治療的目標對象進行核磁成像，從而基于核磁成像在放射治療前或放射治療過程中對目標對象進行核磁圖像引導。由于越靠近相對設(shè)置的磁體組件的中心軸線相對設(shè)置的磁體組件的內(nèi)表面之間的距離越大，如此，增大了放射治療系統(tǒng)的成像空間和治療空間的大小，減小或緩解位于成像或治療空間內(nèi)目標對象的不適感。

技術(shù)特征：

1.一種磁共振成像引導的放療系統(tǒng)，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述治療頭位于相對設(shè)置的磁體組件之間；或者，

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述治療頭包括第一治療頭和第二放療頭，所述第一放療頭和所述第二放療頭分別位于相對設(shè)置的磁體組件之間的兩側(cè)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述治療頭包括第一放療頭和第二治療頭，其中，所述第一放療頭位于兩個相對設(shè)置的磁體組件之間，所述第二放療頭位于所述通孔處，發(fā)出的放射治療射線照射所述目標對象。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于，位于相對設(shè)置的磁體組件之間的治療頭為伽瑪射線治療頭，位于所述通孔處的治療頭為伽瑪射線治療頭或x射線治療頭。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述相對設(shè)置的磁體組件中至少一個磁體組件包括多個磁體，所述多個磁體沿所述中心軸線方向依次排布。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述多個磁體嵌套排布。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述多個磁體中的至少一個磁體與其他磁體的厚度不同。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述多個磁體中至少兩個磁體之間設(shè)置有過渡件，所述過渡件由非磁性材料制成。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述相對設(shè)置的磁體組件中至少一個磁體組件的內(nèi)表面呈曲面或階梯狀。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述放療系統(tǒng)還包括探測器，所述探測器設(shè)置于與所述放療頭相對的位置，用于接收所述治療頭發(fā)出的放射治療射線并生成相應(yīng)的圖像數(shù)據(jù)。

12.根據(jù)權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括：患者支撐裝置，所述患者支撐裝置可沿所述旋轉(zhuǎn)軸方向移入或移出所述重疊區(qū)域，所述探測器與所述患者支撐裝置連接，可隨所述患者支撐裝置的運動而運動。

13.一種磁共振成像設(shè)備，其特征在于，包括：

技術(shù)總結(jié)
本申請公開了一種磁共振成像引導的放療系統(tǒng)，包括：旋轉(zhuǎn)機架，可繞預設(shè)旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)；治療頭，可隨所述旋轉(zhuǎn)機架的旋轉(zhuǎn)而轉(zhuǎn)動，用于對目標對象發(fā)出放射治療射線；磁共振成像設(shè)備，包括兩個磁體組件，沿所述旋轉(zhuǎn)機架周向相對設(shè)置于所述機架上，用于形成成像用磁場，所述成像用磁場與所述放射治療射線具有重疊區(qū)域，用以對所述目標對象進行磁共振成像；其中，相對設(shè)置的磁體組件的中心軸線與所述旋轉(zhuǎn)軸呈預設(shè)夾角，且越靠近所述中心軸線所述相對設(shè)置的磁體組件的內(nèi)表面之間的距離越大。本申請還公開了一種磁共振成像設(shè)備。

技術(shù)研發(fā)人員：閆浩,劉海峰
受保護的技術(shù)使用者：西安大醫(yī)集團股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/8