一種紊流式整燙裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及紡織后整理設備領(lǐng)域，特別地，是一種紊流式整燙裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在服裝生產(chǎn)過程中，熨燙的主要作用:(一)整理衣片一一通過熨燙使衣片面料得到預縮，消除皺痕，保持面料的平整；(二)服裝的立體造型一一利用紡織纖維的熱塑性，改變其伸縮度及織物的經(jīng)瑋密度和方向，使服裝的造型更符合人體曲線與功能要求，達到外型美觀、穿著舒適的目的；(三)整理服裝一一使服裝外觀平挺，縫口、褶裥等處平整、無皺，彌補縫制工序中的缺陷。
[0003]對于一些面料較厚的服裝，對其進行熨燙處理時，需要加大蒸汽的噴射強度，用以穿透較厚的面料，但是蒸汽在穿透過程中大多數(shù)分子大致按直線穿透面料，因此一切纖維重復阻擋的區(qū)域，蒸汽分子無法到達，造成整燙不均勻，整燙效果不佳。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]為了解決上述問題，本實用新型的目的在于提供一種紊流式整燙裝置，該紊流式整燙裝置能夠提高整燙溫度的均勻度。
[0005]本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:
[0006]該紊流式整燙裝置包括放置面料的加工臺和設置在加工臺上方的噴嘴，所述噴嘴均布在一提供蒸汽的供氣平臺的底部，所述供氣平臺內(nèi)設置有供應噴嘴蒸汽的供氣腔，所述噴嘴內(nèi)部設置有連接靜電發(fā)生器的靜電產(chǎn)生裝置，所述加工臺的兩端設置有對稱設置并相互吸引的電磁線圈。
[0007]作為優(yōu)選，所述靜電產(chǎn)生裝置為雙頭金屬針，所述噴嘴根部的進氣口窄縮配合所述雙頭金屬針的一端，雙頭金屬針的另一端指向所述噴嘴的出氣口。
[0008]作為優(yōu)選，所述噴嘴根部設置有萬向轉(zhuǎn)動裝置。
[0009]作為優(yōu)選，所述噴嘴沿帶靜電的蒸汽受磁場作用偏轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)方向傾斜。
[0010]作為優(yōu)選，所述供氣平臺的周側(cè)設置有環(huán)形軌道，所述環(huán)形軌道上配合有對稱設置有滑塊，所述滑塊內(nèi)設置所述電磁線圈。
[0011]本實用新型的優(yōu)點在于:
[0012]蒸汽由噴嘴噴射后帶靜電，帶靜電的蒸汽在磁場的作用下發(fā)生偏轉(zhuǎn)，由于進入面料的角度可以不斷的變化，因此可以繞過面料內(nèi)復雜的紋路，使面料加熱更加均勻。
【附圖說明】
[0013]圖1是本紊流式整燙裝置的正視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014]圖2是本紊流式整燙裝置的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]圖3是本紊流式整燙裝置的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]圖4是本紊流式整燙裝置噴嘴的正視結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0017]下面結(jié)合附圖和實施例對本實用新型進一步說明:
[0018]參閱圖1和圖3，在本實施例中，該紊流式整燙裝置包括放置面料的加工臺400和設置在加工臺400上方的噴嘴200，所述噴嘴200均布在一提供蒸汽的供氣平臺100的底部，所述供氣平臺100內(nèi)設置有供應噴嘴200蒸汽的供氣腔110，所述噴嘴200內(nèi)部設置有連接靜電發(fā)生器的靜電產(chǎn)生裝置，所述加工臺400的兩端設置有對稱設置并相互吸引的電磁線圈310。
[0019]如圖4，所述靜電產(chǎn)生裝置為雙頭金屬針210，所述噴嘴200根部的進氣口窄縮配合所述雙頭金屬針的一端，雙頭金屬針210的另一端指向所述噴嘴200的出氣口，通過窄縮的進氣口可以聚集蒸汽通過所述金屬針210的一端，提高蒸汽帶走靜電的效率。
[0020]如圖1和圖4，所述噴嘴200根部設置有萬向轉(zhuǎn)動裝置，轉(zhuǎn)動的噴嘴能夠改變噴射蒸汽的方向以穿透不同紋理的面料。
[0021]參閱圖2，所述噴嘴200沿帶靜電的蒸汽受磁場作用偏轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)方向傾斜，使帶靜電的蒸汽在噴射后只需在磁場洛倫茨力作用下偏轉(zhuǎn)較小的角度即可有水平方向的動量，以第一時間穿透面料內(nèi)被纖維遮擋的區(qū)域。
[0022]上述的紊流式整燙裝置，所述供氣平臺100的周側(cè)設置有環(huán)形軌道120，所述環(huán)形軌道120上配合有對稱設置有滑塊300，所述滑塊300內(nèi)設置所述電磁線圈310，轉(zhuǎn)動的磁場可控制帶靜電的蒸汽的偏轉(zhuǎn)方向。
[0023]上述的紊流式整燙裝置的運行原理:
[0024]如圖1、圖2，q為帶電蒸汽、V為運動方向、B為磁場方向、f為受力方向，虛線為偏轉(zhuǎn)方向，蒸汽由噴嘴200噴射后帶靜電，帶靜電的蒸汽在磁場的作用下發(fā)生偏轉(zhuǎn)，由于進入面料的角度可以不斷的變化，因此可以繞過面料內(nèi)復雜的紋路，使面料加熱更加均勻，同時，可以控制磁場的強度和角度，控制蒸汽偏轉(zhuǎn)的角速度和偏轉(zhuǎn)方向。
[0025]所述僅為本實用新型的較佳實施例，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍。
【主權(quán)項】
1.一種紊流式整燙裝置，包括放置面料的加工臺(400)和設置在加工臺(400)上方的噴嘴(200)，其特征在于: 所述噴嘴(200)均布在一提供蒸汽的供氣平臺(100)的底部，所述供氣平臺(100)內(nèi)設置有供應噴嘴(200)蒸汽的供氣腔(110)，所述噴嘴(200)內(nèi)部設置有連接靜電發(fā)生器的靜電產(chǎn)生裝置，所述加工臺(400)的兩端設置有對稱設置并相互吸引的電磁線圈(310)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的紊流式整燙裝置，其特征在于:所述靜電產(chǎn)生裝置為雙頭金屬針(210)，所述噴嘴(200)根部的進氣口窄縮配合所述雙頭金屬針的一端，雙頭金屬針(210)的另一端指向所述噴嘴(200)的出氣口。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的紊流式整燙裝置，其特征在于:所述噴嘴(200)根部設置有萬向轉(zhuǎn)動裝置。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的紊流式整燙裝置，其特征在于:所述噴嘴(200)沿帶靜電的蒸汽受磁場作用偏轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)方向傾斜。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的紊流式整燙裝置，其特征在于:所述供氣平臺(100)的周側(cè)設置有環(huán)形軌道(120)，所述環(huán)形軌道(120)上配合有對稱設置有滑塊(300)，所述滑塊(300)內(nèi)設置所述電磁線圈(310)。
【專利摘要】本實用新型提供一種紊流式整燙裝置，包括放置面料的加工臺和設置在加工臺上方的噴嘴，所述噴嘴均布在一提供蒸汽的供氣平臺的底部，所述供氣平臺內(nèi)設置有供應噴嘴蒸汽的供氣腔，所述噴嘴內(nèi)部設置有連接靜電發(fā)生器的靜電產(chǎn)生裝置，所述加工臺的兩端設置有對稱設置并相互吸引的電磁線圈，本實用新型中蒸汽由噴嘴噴射后帶靜電，帶靜電的蒸汽在磁場的作用下發(fā)生偏轉(zhuǎn)，由于進入面料的角度可以不斷的變化，因此可以繞過面料內(nèi)復雜的紋路，使面料加熱更加均勻。
【IPC分類】D06F69/00, D06B1/02
【公開號】CN204898283
【申請?zhí)枴緾N201520512628
【發(fā)明人】何曉東
【申請人】蘇州市丹紡紡織研發(fā)有限公司
【公開日】2015年12月23日
【申請日】2015年7月15日