本發(fā)明涉及自動化設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及電動可調(diào)鍍膜擋板裝置及鍍膜設(shè)備。

背景技術(shù)：

在真空鍍膜設(shè)備的使用過程中，常出現(xiàn)靶材濺射均勻性波動的問題。目前，一般采用工藝氣體進行微調(diào)。但是，工藝氣體調(diào)節(jié)范圍有限，當(dāng)靶材濺射均勻性出現(xiàn)較大的波動時，只能回氣在大氣狀態(tài)處理，調(diào)節(jié)完后再抽真空回到生產(chǎn)狀態(tài)。然而，回氣在大氣狀態(tài)處理的方法僅限于旋轉(zhuǎn)陰極，對平面陰極無能為力。此外，回氣在大氣狀態(tài)處理的方法調(diào)節(jié)周期一般會超過24小時，并且調(diào)節(jié)后不一定能夠達到預(yù)想的效果，有可能再次回氣調(diào)整，這樣不僅浪費時間，還會導(dǎo)致交貨和產(chǎn)量問題，而且生產(chǎn)成本非常高。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種電動可調(diào)鍍膜擋板裝置及鍍膜設(shè)備，旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中鍍膜中采用工藝氣體調(diào)節(jié)的方法調(diào)節(jié)范圍有限以及回氣在大氣狀態(tài)處理的方法浪費時間且生產(chǎn)成本高的技術(shù)問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案是：電動可調(diào)鍍膜擋板裝置，應(yīng)用于鍍膜設(shè)備中，所述鍍膜設(shè)備包括間隔設(shè)置的靶材和基片，所述電動可調(diào)鍍膜擋板裝置包括底板、設(shè)于所述底板上方的擋板組件以及設(shè)于所述底板上方與所述擋板組件連接并用于控制所述擋板組件運動以伸出所述底板外至所述靶材與所述基片之間的調(diào)節(jié)機構(gòu)。

進一步地，所述擋板組件包括若干依序相互活動連接的擋片，且相鄰的所述擋片之間疊層設(shè)置。

進一步地，所述調(diào)節(jié)機構(gòu)包括若干個數(shù)量相同的搖臂、轉(zhuǎn)盤和驅(qū)動電機，所述驅(qū)動電機安裝于所述底板的上方，所述轉(zhuǎn)盤與所述驅(qū)動電機的輸出軸連接，各所述搖臂的第一端與對應(yīng)的一所述轉(zhuǎn)盤的一側(cè)固定連接，各所述搖臂的第二端與對應(yīng)的一所述擋片的一側(cè)鉸接。

進一步地，所述調(diào)節(jié)機構(gòu)還包括若干個數(shù)量與所述搖臂相同的鉸接桿，各所述搖臂的第二端設(shè)有連接孔，所述擋片與所述連接孔對應(yīng)的位置設(shè)有安裝孔，所述底板與所述安裝孔對應(yīng)的位置設(shè)有沿所述擋片的運動方向分布的導(dǎo)向槽，所述鉸接桿穿設(shè)所述連接孔、相鄰的兩所述擋片的所述安裝孔和所述導(dǎo)向槽。

進一步地，所述驅(qū)動電機為步進電機或者伺服電機。

進一步地，所述電動可調(diào)鍍膜擋板裝置還包括設(shè)于所述底板上方并罩設(shè)住所述擋板組件和所述調(diào)節(jié)機構(gòu)的保護罩。

進一步地，所述電動可調(diào)鍍膜擋板裝置還包括套設(shè)于所述驅(qū)動電機外并與所述保護罩固定連接的電機支撐件。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明的電動可調(diào)鍍膜擋板裝置，應(yīng)用于鍍膜設(shè)備中，所述鍍膜設(shè)備包括間隔設(shè)置的靶材和基片，在真空鍍膜過程中，當(dāng)檢測到基片上膜層存在不均勻區(qū)域時，調(diào)節(jié)機構(gòu)控制擋板組件延伸出底板外至靶材與基片之間，使得擋板組件擋住膜層較厚區(qū)域的基片，從而控制該區(qū)域膜層的均勻性。由于本發(fā)明的電動可調(diào)鍍膜擋板裝置中的擋板組件可以大范圍的使用，因此可以解決工藝氣體調(diào)節(jié)方法調(diào)節(jié)范圍有限的技術(shù)問題；此外，本發(fā)明的電動可調(diào)鍍膜擋板裝置可以在真空狀態(tài)下使用，不用回氣在大氣狀態(tài)處理，因此，可以有效避免因回氣調(diào)整均勻性造成的成本和時間浪費。

本發(fā)明的另一技術(shù)方案是：一種鍍膜設(shè)備，包括間隔設(shè)置的靶材和基片，所述鍍膜設(shè)備還包括至少一個位于所述靶材和所述基片同一側(cè)的上述的電動可調(diào)鍍膜擋板裝置。

進一步地，所述鍍膜設(shè)備還包括與所述調(diào)節(jié)機構(gòu)的電動部件連接以用于控制所述調(diào)節(jié)機構(gòu)工作的控制器。

進一步地，所述電動可調(diào)鍍膜擋板裝置有兩個，且兩個所述電動可調(diào)鍍膜擋板裝置分別位于所述靶材和所述基片的兩側(cè)。

本發(fā)明的鍍膜設(shè)備，由于使用有至少一個上述的電動可調(diào)鍍膜擋板裝置，從而不必回大氣進行處理，可以在真空狀態(tài)下對基片的膜層均勻性進行大范圍的調(diào)節(jié)，進而有效地節(jié)約時間和成本。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實施例提供的電動可調(diào)鍍膜擋板裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本發(fā)明實施例提供的電動可調(diào)鍍膜擋板裝置的結(jié)構(gòu)分解示意圖。

圖3為圖2中A處的局部結(jié)構(gòu)放大示意圖。

圖4為本發(fā)明實施例提供的電動可調(diào)鍍膜擋板裝置的局部結(jié)構(gòu)剖切圖。

附圖標(biāo)記包括：

10—底板 11—導(dǎo)向槽 20—擋板組件

21—擋片 30—調(diào)節(jié)機構(gòu) 31—搖臂

32—轉(zhuǎn)盤 33—驅(qū)動電機 34—鉸接桿

40—保護罩 50—電機支撐件 211—安裝孔

311—連接孔。

具體實施方式

下面詳細描述本發(fā)明的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖1～4描述的實施例是示例性的，旨在用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對本發(fā)明的限制。

在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語“長度”、“寬度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。

此外，術(shù)語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個或者更多個該特征。在本發(fā)明的描述中，“多個”的含義是兩個或兩個以上，除非另有明確具體的限定。

在本發(fā)明中，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“安裝”、“相連”、“連接”、“固定”等術(shù)語應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或成一體；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內(nèi)部的連通或兩個元件的相互作用關(guān)系。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。

如圖1～4所示，本發(fā)明實施例提供的電動可調(diào)鍍膜擋板裝置，應(yīng)用于鍍膜設(shè)備中，鍍膜設(shè)備包括間隔設(shè)置的靶材(圖未示)和基片(圖未示)，電動可調(diào)鍍膜擋板裝置包括底板10、設(shè)于底板10上方的擋板組件20以及設(shè)于底板10上方與擋板組件20連接并用于控制擋板組件20運動以伸出底板10外至靶材與基片之間的調(diào)節(jié)機構(gòu)30。

本發(fā)明實施例的電動可調(diào)鍍膜擋板裝置，應(yīng)用于鍍膜設(shè)備中，鍍膜設(shè)備包括間隔設(shè)置的靶材和基片，在真空鍍膜過程中，當(dāng)檢測到基片上膜層存在不均勻區(qū)域時，調(diào)節(jié)機構(gòu)30控制擋板組件20延伸出底板10外至靶材與基片之間，使得擋板組件20擋住膜層較厚區(qū)域的基片，從而控制該區(qū)域膜層的均勻性。由于本發(fā)明實施例的電動可調(diào)鍍膜擋板裝置中的擋板組件20可以大范圍的使用，因此可以解決工藝氣體調(diào)節(jié)方法調(diào)節(jié)范圍有限的技術(shù)問題；此外，本發(fā)明實施例的電動可調(diào)鍍膜擋板裝置可以在真空狀態(tài)下使用，不用回氣在大氣狀態(tài)處理，因此，可以有效避免因回氣調(diào)整均勻性造成的成本和時間浪費。

進一步地，擋板組件20包括若干依序相互活動連接的擋片21，且相鄰的擋片21之間疊層設(shè)置。擋片21形狀可以為長方形、圓角矩形或橢圓形等。由于擋片21為活動連接，相鄰擋片21之間可以相互運動，因此，在基片上膜層不均勻的區(qū)域，可通過調(diào)節(jié)機構(gòu)30控制相鄰擋片21之間的相對運動，從而改變擋片21之間開口大小，實現(xiàn)基片上膜層厚度在同一水平。

如圖2～4所示，進一步地，調(diào)節(jié)機構(gòu)30包括若干個數(shù)量相同的搖臂31、轉(zhuǎn)盤32和驅(qū)動電機33，驅(qū)動電機33安裝于底板10的上方，轉(zhuǎn)盤32與驅(qū)動電機33的輸出軸連接，各搖臂31的第一端與對應(yīng)的一轉(zhuǎn)盤32的一側(cè)固定連接，各搖臂31的第二端與對應(yīng)的一擋片21的一側(cè)鉸接。使用時，根據(jù)基片膜層均勻性確定所需調(diào)節(jié)的位置，然后，啟動相應(yīng)位置的驅(qū)動電機33，通過相應(yīng)位置的驅(qū)動電機33旋轉(zhuǎn)帶動轉(zhuǎn)盤32轉(zhuǎn)動，由于搖臂31與轉(zhuǎn)盤32連接，且搖臂31會跟隨著轉(zhuǎn)盤32運動，那么當(dāng)驅(qū)動電機33控制轉(zhuǎn)盤32作正反轉(zhuǎn)時，即可實現(xiàn)控制搖臂31作前進后后退的運動，從而通過搖臂31推動擋板組件20中的其中至少一個擋片21移動或者整個擋板組件20的整體移動，以此來實現(xiàn)膜層均勻性調(diào)整。

如圖2～4所示，進一步地，調(diào)節(jié)機構(gòu)30還包括若干個數(shù)量與搖臂31相同的鉸接桿34，各搖臂31的第二端設(shè)有連接孔311，擋片21與連接孔311對應(yīng)的位置設(shè)有安裝孔211，底板10與安裝孔211對應(yīng)的位置設(shè)有沿擋片21的運動方向分布的導(dǎo)向槽11，鉸接桿34穿設(shè)連接孔311、相鄰的兩擋片21的安裝孔211和導(dǎo)向槽11。具體地，搖臂31在轉(zhuǎn)盤32的帶動下作前后方向運動，由于搖臂31的前端開設(shè)的連接孔311連接有鉸接桿34，且鉸接桿34同時連接單個擋片21或者疊層設(shè)置的擋片21，這樣，鉸接桿34隨著搖臂31動作時就可以實現(xiàn)帶動擋片21動作。又由于鉸接桿34是穿設(shè)在導(dǎo)向槽11內(nèi)的，那么通過該導(dǎo)向槽11的設(shè)置限制了鉸接桿34的運動行程和方向，如此就可以確保控制擋片21在設(shè)定的區(qū)域內(nèi)動作，確保生產(chǎn)的穩(wěn)定性。

如圖2所示，進一步地，驅(qū)動電機33為步進電機或者伺服電機。優(yōu)選地，驅(qū)動電機33為步進電機。本發(fā)明實施例通過計算步進電機的脈沖數(shù)，可精確控制擋板組件20中的擋片21的移動距離，進而精確控制擋板組件20的開口大小，以實現(xiàn)高效解決真空狀態(tài)下調(diào)節(jié)鍍膜均勻性的問題。

進一步地，步進電機上設(shè)有減速器(圖未示)。減速器可以在降速的同時提高輸出扭矩，并降低負載的慣量。

進一步地，步進電機上設(shè)有扭力放大器(圖未示)。扭力放大器又稱扭矩倍增器，是一種將力矩放大的裝置。

在其他實施例中，調(diào)節(jié)機構(gòu)30還可以是氣缸或者電缸。調(diào)節(jié)機構(gòu)30為氣缸時，可以將氣缸的缸體固定在底板10上，氣缸的活塞桿與擋板組件20連接，這樣通過氣缸的活塞桿的伸縮來控制擋板組件20的運動。調(diào)節(jié)機構(gòu)30為電缸時，電缸的外殼固定在底板10上，電缸的滑塊與擋板組件20通過傳動件連接，那么電缸的滑塊動作時即可帶動擋板組件20動作。

如圖1和圖4所示，電動可調(diào)鍍膜擋板裝置還包括設(shè)于底板10上方并罩設(shè)住擋板組件20和調(diào)節(jié)機構(gòu)30的保護罩40。通過設(shè)置保護罩40，可有效地防止在鍍膜過程中擋板組件20和調(diào)節(jié)機構(gòu)30被污染。其中，保護罩40可以與底板10可拆卸連接，例如采用扣接或者通過緊固件連接。當(dāng)然，還可以將保護罩40與底板10焊接連接。根據(jù)實際情況的需要，選擇合適的連接方式以連接保護罩40和底板10。

如圖2和圖4所示，電動可調(diào)鍍膜擋板裝置還包括套設(shè)于驅(qū)動電機33外并與保護罩40固定連接的電機支撐件50。電機支撐件50可有效地固定驅(qū)動電機33，以使驅(qū)動電機33在運行時平穩(wěn)性高。

本發(fā)明實施例還提供一種鍍膜設(shè)備，包括間隔設(shè)置的靶材(圖未示)和基片(圖未示)，鍍膜設(shè)備還包括至少一個位于靶材和基片同一側(cè)的上述的電動可調(diào)鍍膜擋板裝置。

本發(fā)明實施例的鍍膜設(shè)備，由于使用有至少一個上述的電動可調(diào)鍍膜擋板裝置，從而不必回大氣進行處理，可以在真空狀態(tài)下對基片的膜層均勻性進行大范圍的調(diào)節(jié)，進而有效地節(jié)約時間和成本。本發(fā)明實施例的鍍膜設(shè)備可以是磁控濺射鍍膜系統(tǒng)、脈沖激光沉積系統(tǒng)等。

進一步地，鍍膜設(shè)備還包括與調(diào)節(jié)機構(gòu)30的電動部件電性連接以用于控制調(diào)節(jié)機構(gòu)30工作的控制器(圖未示)。具體地，通過控制器可以協(xié)調(diào)控制各個調(diào)節(jié)機構(gòu)30的驅(qū)動電機33工作，以實現(xiàn)控制各個擋片21的工作。其中，控制器可以是PLC控制器或者計算機等。

進一步地，電動可調(diào)鍍膜擋板裝置有兩個，且兩個電動可調(diào)鍍膜擋板裝置分別位于靶材和基片的兩側(cè)。本發(fā)明實施例通過在靶材和基片的兩側(cè)分別設(shè)置電動可調(diào)鍍膜擋板裝置，使得膜層均勻性調(diào)節(jié)范圍更廣，更靈活。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的思想和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換或改進等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。