本發(fā)明涉及pecvd設(shè)備領(lǐng)域，尤其是一種大腔室pecvd的抽、破空結(jié)構(gòu)及破空方法。

背景技術(shù)：

1、為滿足大產(chǎn)能pecvd的需求，市面上的pecvd腔室正逐步加大，腔內(nèi)容積加大，對(duì)設(shè)備破空、抽空節(jié)拍及良率造成極大影響。

2、現(xiàn)有技術(shù)通常在腔體底部中間設(shè)置兩個(gè)主抽控制閥，主抽控制閥上設(shè)置慢抽控制閥。主抽控制閥上設(shè)置主抽管，慢抽控制閥上設(shè)置慢抽管。在腔體兩側(cè)均設(shè)置兩個(gè)破真空控制閥，控制閥上的破真空管一端與腔體內(nèi)連通，一端與外界連通。腔室抽空時(shí)，先打開(kāi)兩個(gè)慢抽控制閥，氣體經(jīng)慢抽管以小流量抽真空，避免硅片抖動(dòng)掉片，當(dāng)腔內(nèi)氛圍到一定壓力且硅片基于穩(wěn)定時(shí)，打開(kāi)主抽控制閥，氣體經(jīng)主抽管以大流量快速抽真空。腔室破空時(shí)，直接打開(kāi)破真空控制閥，空氣或壓縮空氣經(jīng)過(guò)破真空管通入腔內(nèi)，實(shí)現(xiàn)腔室破空。

3、現(xiàn)有方案雖可實(shí)現(xiàn)抽空、破空的功能，但其抽空、破空節(jié)拍較長(zhǎng)，無(wú)法大產(chǎn)能需求，若加大抽空、破空氣體流量，會(huì)導(dǎo)致壓力變化過(guò)大，影響硅片的穩(wěn)定。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的在于提供一種大腔室pecvd的抽、破空結(jié)構(gòu)及破空方法，通過(guò)改變破空管、抽空管的位置以及增加勻流結(jié)構(gòu)來(lái)減小氣流速度，改善硅片良率；在此基礎(chǔ)上增加破空管、抽空管的數(shù)量，分步抽破空控制，可大幅度縮短大腔室pecvd設(shè)備的抽真空、破真空時(shí)的節(jié)拍。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

3、本發(fā)明公開(kāi)了一種大腔室pecvd的抽、破空結(jié)構(gòu)，其包括腔室主體，所述腔室主體底部中間設(shè)置有若干個(gè)主抽組件，腔室主體底部的前后兩側(cè)均設(shè)置有若干間隔分布的慢抽破空組件和腔底破空組件。

4、所述主抽組件包括主抽管和主抽控制閥；主抽管一端與腔室主體連通，另一端與外部連通，所述主抽控制閥設(shè)置于主抽管上。

5、所述慢抽破空組件包括第一通氣管，第一通氣管與腔體連接，第一通氣管上連接有氮?dú)馄瓶展芎吐楣?，氮?dú)馄瓶展苌显O(shè)置有氮?dú)馄瓶臻y，慢抽管上設(shè)置有慢抽控制閥。

6、所述腔底破空組件包括第二通氣管，所述第二通氣管上連接有氮?dú)馄瓶展芎涂諝馄瓶展埽獨(dú)馄瓶展苌显O(shè)置有氮?dú)馄瓶臻y，空氣破空管上設(shè)置有空氣破空閥和空氣過(guò)濾器。

7、所述第一通氣管和第二通氣管上方還設(shè)置有用于降低出氣口流速的多層勻流組件。

8、當(dāng)腔室主體抽空時(shí)，先打開(kāi)慢抽控制閥，氣體經(jīng)慢抽管以小流量抽真空，當(dāng)腔內(nèi)氛圍到一定壓力時(shí)且硅片基于穩(wěn)定時(shí)，打開(kāi)主抽控制閥，氣體經(jīng)主抽管以大流量快速抽真空。

9、進(jìn)一步地，所述多層勻流組件包括從上到下依次疊加設(shè)置的腔底進(jìn)氣勻流板、中層勻流腔和出氣勻流腔；所述腔底進(jìn)氣勻流板上均勻地設(shè)置有第一勻流孔，并位于第一通氣管和第二通氣管的管道口上，中層勻流腔的頂面上設(shè)置有第二勻流孔，出氣勻流腔的頂面設(shè)置有第三勻流孔，所述第二勻流孔與第三勻流孔錯(cuò)位分布，使得氣流呈“s”型流動(dòng)。

10、進(jìn)一步地，所述慢抽管與主抽管相互連通，與外部抽氣泵連接，所述主抽管的上管口處設(shè)置有用于過(guò)濾的擋板。

11、進(jìn)一步地，所述腔室主體底部的左右兩側(cè)還均設(shè)置有側(cè)面氮?dú)馄瓶战M件；所述側(cè)面氮?dú)馄瓶战M件包括氮?dú)馄瓶臻y、側(cè)面進(jìn)氣勻流腔和氮?dú)馄瓶展埽坏獨(dú)馄瓶展艿囊欢送ㄟ^(guò)側(cè)面勻流管與腔體連通，氮?dú)馄瓶臻y設(shè)置于氮?dú)馄瓶展苌稀?/p>

12、進(jìn)一步地，所述側(cè)面勻流管呈“l(fā)”順時(shí)針旋轉(zhuǎn)90度的形狀，側(cè)面勻流管與氮?dú)馄瓶展苓B接處設(shè)置有側(cè)面勻流板，側(cè)面勻流板上設(shè)置有若干側(cè)面進(jìn)氣勻流孔，側(cè)面勻流管另一端的拐角側(cè)面處設(shè)置有側(cè)面出氣勻流孔，所述側(cè)面出氣勻流孔位于載板下方，且氣流與載板平面平行。

13、進(jìn)一步地，所述側(cè)面氮?dú)馄瓶战M件設(shè)置有四組，分別對(duì)稱設(shè)置于腔室主體底部的左右兩側(cè)。

14、進(jìn)一步地，所述主抽組件設(shè)置有兩組，以腔體前后中心線對(duì)稱分布。

15、進(jìn)一步地，所述慢抽破空組件設(shè)置有四組，分別為第一慢抽破空組件、第二慢抽破空組件、第三慢抽破空組件、第四慢抽破空組件；所述腔底破空組件設(shè)置有六組，分別為第一腔底破空組件、第二腔底破空組件、第三腔底破空組件、第四腔底破空組件、第五腔底破空組件、第六腔底破空組件；

16、所述第一腔底破空組件、第三腔底破空組件分別位于腔體前側(cè)兩端，第二腔底破空組件位于腔體前側(cè)的中間；

17、第四腔底破空組件、第六腔底破空組件位于腔體后側(cè)兩端，第五腔底破空組件位于腔體后側(cè)的中間；

18、所述第一慢抽破空組件位于第一腔底破空組件與第二腔底破空組件之間，第二慢抽破空組件位于第二腔底破空組件與第三腔底破空組件之間；第三慢抽破空組件位于第四腔底破空組件與第五腔底破空組件之間；第四慢抽破空組件位于第五腔底破空組件與第六腔底破空組件之間。

19、本發(fā)明還公開(kāi)了一種上述的大腔室pecvd的抽、破空結(jié)構(gòu)的破空方法，其特征在于包括以下步驟：

20、s1、先同時(shí)打開(kāi)第二腔底破空組件和第五腔底破空組件的氮?dú)馄瓶臻y門，破空氣壓達(dá)到100-500pa之間；

21、s2、再同時(shí)打開(kāi)第一腔底破空組件、第三腔底破空組件、第四腔底破空組件、第六腔底破空組件的氮?dú)馄瓶臻y門，破空氣壓達(dá)到2000-2500pa之間；

22、s3、再同時(shí)打開(kāi)四組慢抽破空組件的氮?dú)馄瓶臻y門，破空氣壓達(dá)到15000-16000pa之間；

23、s4、再同時(shí)打開(kāi)四組側(cè)面氮?dú)馄瓶战M件的氮?dú)馄瓶臻y，破空氣壓達(dá)到30000pa-31000pa之間；

24、s5、再同時(shí)打開(kāi)六組腔底破空組件的空氣破空閥門，破空氣壓達(dá)到大氣壓。

25、本發(fā)明的有益之處為：

26、1、本發(fā)明相比現(xiàn)有技術(shù)，慢抽口數(shù)量增多，且將位置設(shè)計(jì)于載板范圍外，并分步抽空控制，提高慢抽速度的同時(shí)可大程度減小剛抽空時(shí)硅片的抖動(dòng)，改善良率。在慢抽管口設(shè)置多層勻流組件，使得在腔室主體內(nèi)，氣體均會(huì)在多層勻流組件內(nèi)充分碰撞、勻流，延長(zhǎng)氣體路徑，從而以低流速均勻地分散到腔室主體內(nèi)，減小對(duì)硅片的影響。

27、2、本發(fā)明相比現(xiàn)有技術(shù)，破空管口數(shù)量增多，分別設(shè)置氮?dú)馄瓶蘸涂諝馄瓶斩嗖狡瓶眨岣咂瓶账俣鹊耐瑫r(shí)可大程度減小破空時(shí)硅片的抖動(dòng)，改善良率。在破空管口設(shè)置多層勻流組件，使得在腔室主體內(nèi)，氣體均會(huì)在多層勻流組件內(nèi)充分碰撞、勻流，延長(zhǎng)氣體路徑，從而以低流速均勻地分散到腔室主體內(nèi)，減小對(duì)硅片的影響。

28、3、本發(fā)明還增加側(cè)面破空管口進(jìn)一步加快破空速度，在側(cè)面破空口增加側(cè)面勻流管，將通入的氣體從側(cè)面勻流管的管壁側(cè)面的出氣口排出，減小對(duì)硅片的影響。

技術(shù)特征：

1.一種大腔室pecvd的抽、破空結(jié)構(gòu)，其特征在于：包括腔室主體，所述腔室主體底部中間設(shè)置有若干個(gè)主抽組件，腔室主體底部的前后兩側(cè)均設(shè)置有若干間隔分布的慢抽破空組件和腔底破空組件；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大腔室pecvd的抽、破空結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述多層勻流組件包括從上到下依次疊加設(shè)置的腔底進(jìn)氣勻流板、中層勻流腔和出氣勻流腔；所述腔底進(jìn)氣勻流板上均勻地設(shè)置有第一勻流孔，并位于第一通氣管和第二通氣管的管道口上，中層勻流腔的頂面上設(shè)置有第二勻流孔，出氣勻流腔的頂面設(shè)置有第三勻流孔，所述第二勻流孔與第三勻流孔錯(cuò)位分布，使得氣流呈“s”型流動(dòng)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大腔室pecvd的抽、破空結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述慢抽管與主抽管相互連通，與外部抽氣泵連接，所述主抽管的上管口處設(shè)置有用于過(guò)濾的擋板。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大腔室pecvd的抽、破空結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述腔室主體底部的左右兩側(cè)還均設(shè)置有側(cè)面氮?dú)馄瓶战M件；所述側(cè)面氮?dú)馄瓶战M件包括氮?dú)馄瓶臻y、側(cè)面進(jìn)氣勻流腔和氮?dú)馄瓶展?；氮?dú)馄瓶展艿囊欢送ㄟ^(guò)側(cè)面勻流管與腔體連通，氮?dú)馄瓶臻y設(shè)置于氮?dú)馄瓶展苌稀?/p>

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的大腔室pecvd的抽、破空結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述側(cè)面勻流管呈“l(fā)”順時(shí)針旋轉(zhuǎn)90度的形狀，側(cè)面勻流管與氮?dú)馄瓶展苓B接處設(shè)置有側(cè)面勻流板，側(cè)面勻流板上設(shè)置有若干側(cè)面進(jìn)氣勻流孔，側(cè)面勻流管另一端的拐角側(cè)面處設(shè)置有側(cè)面出氣勻流孔，所述側(cè)面出氣勻流孔位于載板下方，且氣流與載板平面平行。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的大腔室pecvd的抽、破空結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述側(cè)面氮?dú)馄瓶战M件設(shè)置有四組，分別對(duì)稱設(shè)置于腔室主體底部的左右兩側(cè)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大腔室pecvd的抽、破空結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述主抽組件設(shè)置有兩組，以腔體前后中心線對(duì)稱分布。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的大腔室pecvd的抽、破空結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述慢抽破空組件設(shè)置有四組，分別為第一慢抽破空組件、第二慢抽破空組件、第三慢抽破空組件、第四慢抽破空組件；所述腔底破空組件設(shè)置有六組，分別為第一腔底破空組件、第二腔底破空組件、第三腔底破空組件、第四腔底破空組件、第五腔底破空組件、第六腔底破空組件；

9.一種權(quán)利要求8所述的大腔室pecvd的抽、破空結(jié)構(gòu)的破空方法，其特征在于包括以下步驟：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及PECVD設(shè)備領(lǐng)域，公開(kāi)了一種大腔室PECVD的抽、破空結(jié)構(gòu)及破空方法，抽、破空結(jié)構(gòu)包括腔室主體，腔室主體底部中間設(shè)置有若干個(gè)主抽組件，腔室主體底部的前后兩側(cè)均設(shè)置有若干間隔分布的慢抽破空組件和腔底破空組件。慢抽破空組件包括第一通氣管，第一通氣管連接慢抽組件和氮?dú)馄瓶战M件。腔底破空組件包括第二通氣管，第二通氣管連接有氮?dú)馄瓶战M件和空氣破空組件。第一通氣管和第二通氣管上方還設(shè)置有用于降低出氣口流速的多層勻流組件。破空方法為采用上述結(jié)構(gòu)采用的破空方法。本發(fā)明不僅能夠改善硅片良率而且能夠縮短抽真空、破真空時(shí)的節(jié)拍。

技術(shù)研發(fā)人員：郭禮賢,余清,劉義軍
受保護(hù)的技術(shù)使用者：福建金石能源有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/8