本技術(shù)涉及玻璃磁控濺射鍍膜，具體為一種低反低透中性色可鋼化低輻射鍍膜玻璃。

背景技術(shù)：

1、隨著幕墻玻璃深加工行業(yè)競爭日益激烈，產(chǎn)品升級尤為重要，傳統(tǒng)低透可鋼化低輻射鍍膜玻璃，反射率高，可視面顏色偏綠偏藍，安裝在高樓大廈幕墻上會帶來一定的光污染，給人帶來眩暈和視覺疲勞，市場反饋信息效果也不是很理想。本發(fā)明打破傳統(tǒng)的低透過率可鋼化低輻射鍍膜玻璃的特性，使產(chǎn)品具有低透過率的情況下，也具備低反射率的特性并且反射色和透過色為中性顏色。本發(fā)明符合目前及未來市場的需求，必將帶來新的利潤增長點，提升客戶的滿意度及市場競爭力，從而豐富建筑幕墻低透玻璃制品體系。

2、現(xiàn)有技術(shù)中，可鋼化低輻射鍍膜玻璃產(chǎn)品有許多，但市場上的低透可鋼系列產(chǎn)品，透過色偏綠，反射色偏綠偏藍，透過色不能呈中性色，且市場的低透可鋼系列產(chǎn)品，可視面反射高，易讓人產(chǎn)生眩暈和視覺疲勞，市場滿意度差，不能實現(xiàn)低透過率、低反射效果的問題。

3、基于此，本實用新型設(shè)計了一種低反低透中性色可鋼化低輻射鍍膜玻璃，以解決上述問題。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本實用新型的目的在于提供一種低反低透中性色可鋼化低輻射鍍膜玻璃，以解決上述背景技術(shù)中提出市場上的低透可鋼系列產(chǎn)品，透過色偏綠，反射色偏綠偏藍，透過色不能呈中性色，且市場的低透可鋼系列產(chǎn)品，可視面反射高，易讓人產(chǎn)生眩暈和視覺疲勞，市場滿意度差，不能實現(xiàn)低透過率、低反射效果的問題。

2、為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案：一種低反低透中性色可鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片和鍍膜層，所述鍍膜層自玻璃基片向外依次復(fù)合有第一膜層、第二膜層、第三膜層、第四膜層、第五膜層、第六膜層、第七膜層、第八膜層和第九膜層，所述第一膜層設(shè)置為氮化硅層，所述第一膜層鍍膜厚度為20nm～30nm，所述第二膜層設(shè)置為鎳鉻層，所述第二膜層鍍膜厚度為2nm～3nm，所述第三膜層設(shè)置為氮化硅層，所述第三膜層鍍膜厚度為20nm～25nm，所述第四膜層設(shè)置為鎳鉻層，所述第四膜層鍍膜厚度為1.5nm～2nm，所述第五膜層設(shè)置為銀層，所述第五膜層鍍膜厚度為2nm～3nm，所述第六膜層設(shè)置為銅層，所述第六膜層鍍膜厚度為5nm～10nm，所述第七膜層設(shè)置為銀層，所述第七膜層鍍膜厚度為2nm～3nm，所述第八膜層為鎳鉻層，所述第八膜層鍍膜厚度為1nm～2nm，所述第九膜層氮化硅層，所述第九膜層鍍膜厚度為30nm～35nm。

3、優(yōu)選的，所述第一膜層、第二膜層、第三膜層、第四膜層、第五膜層、第六膜層、第七膜層、第八膜層和第九膜層膜層厚度之和不小于90nm且不大于115nm。

4、一種制備所述低反低透中性色可鋼化低輻射鍍膜玻璃的方法，本方法包括如下步驟：真空環(huán)境下用靶材對玻璃基層表面進行真空磁控濺射，依次濺射形成第一膜層、第二膜層、第三膜層、第四膜層、第五膜層、第六膜層、第七膜層、第八膜層和第九膜層；

5、1)、磁控濺射鍍膜層；

6、a、磁控濺射第一膜層:

7、靶材數(shù)量:交流旋轉(zhuǎn)靶3個；靶材配置為硅鋁(sial)；工藝氣體比例:氬氣和氮氣，氬氣和氮氣的比例為1:l.3；濺射氣壓為3～8x10-3mbar；

8、b、磁控濺射第二膜層:

9、靶材數(shù)量:直流平面靶1個；靶材配置為鎳鉻(nicr)；工藝氣體比例:純氬氣；濺射氣壓為2～5x10-3mbar；

10、c、磁控濺射第三膜層:

11、靶材數(shù)量:交流旋轉(zhuǎn)靶3個；靶材配置為硅鋁(sial)；工藝氣體比例:氬氣和氮氣，氬氣和氮氣的比例為1:l.3；濺射氣壓為3～8x10-3mbar；

12、d、磁控濺射第四膜層:

13、靶材數(shù)量:直流平面靶1個；靶材配置為鎳鉻(nicr)；工藝氣體比例:純氬氣；濺射氣壓為2～5x10-3mbar；

14、e、磁控濺射第五膜層:

15、靶材數(shù)量:直流平面靶1個；靶材配置為銀(ag)；工藝氣體比例:純氬氣；濺射氣壓為2～5x10-3mbar；

16、f、磁控濺射第六膜層:

17、靶材數(shù)量:直流平面靶2個；靶材配置為銅(cu)；工藝氣體比例:純氬氣；濺射氣壓為2～5x10-3mbar；

18、g、磁控濺射第七膜層:

19、靶材數(shù)量:直流平面靶1個；靶材配置為銀(ag)；工藝氣體比例:純氬氣；濺射氣壓為2～5x10-3mbar；

20、h、磁控濺射第八膜層:

21、靶材數(shù)量:直流平面靶1個；靶材配置為鎳鉻(nicr)；工藝氣體比例:純氬氣；濺射氣壓為2～5x10-3mbar；

22、i、磁控濺射第九膜層:

23、靶材數(shù)量:交流旋轉(zhuǎn)靶5-6個；靶材配置為硅鋁(sial)；工藝氣體比例:氬氣和氮氣，氬氣和氮氣的比例為1:l.3；濺射氣壓為3～8x10-3mbar；

24、優(yōu)選的，濺射室傳動走速控制在7～8m/min。

25、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果是：本鍍膜玻璃中，將第二膜層、第四膜層、第八膜層設(shè)置為鎳鉻(nicr)層，具有增加太陽光吸收作用，提升陷光效果，可大幅提高本鍍膜玻璃的可見光吸收率，從而使本鍍膜玻璃具備低透率的情況下也具有較低的可見光反射率，同時，第四膜層鎳鉻(nicr)層與第五膜層銀(ag)層緊貼，第八膜層鎳鉻(nicr)層與第七膜層銀(ag)層緊貼起到保護層的效果，可有效避免第五膜層銀(ag)層和第七膜層銀(ag)層被氧化，第六膜層銅(cu)層具有功能層效果的同時也起到調(diào)透過顏色的作用，通過增加第六膜層銅(cu)層，使得本鍍膜玻璃的透過色為市場歡迎度很高的中性色，具體的，6mm產(chǎn)品單片透過率透過色t∈[38，45]，a*∈[0，-1]，b*∈[0，-1]，反射率反射色yg∈[7，8]，a*∈[0，-1]，b*∈[0，-1]，本鍍膜玻璃，透過色呈中性色，實現(xiàn)低透過率、低反射效果的效果，豐富可鋼低透低輻射鍍膜玻璃產(chǎn)品體系。

技術(shù)特征：

1.一種低反低透中性色可鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片和鍍膜層，其特征在于：所述鍍膜層自玻璃基片向外依次復(fù)合有第一膜層、第二膜層、第三膜層、第四膜層、第五膜層、第六膜層、第七膜層、第八膜層和第九膜層，所述第一膜層(1)設(shè)置為氮化硅層，所述第一膜層(1)鍍膜厚度為20nm～30nm，所述第二膜層(2)設(shè)置為鎳鉻層，所述第二膜層(2)鍍膜厚度為2nm～3nm，所述第三膜層(3)設(shè)置為氮化硅層，所述第三膜層(3)鍍膜厚度為20nm～25nm，所述第四膜層(4)設(shè)置為鎳鉻層，所述第四膜層(4)鍍膜厚度為1.5nm～2nm，所述第五膜層(5)設(shè)置為銀層，所述第五膜層(5)鍍膜厚度為2nm～3nm，所述第六膜層(6)設(shè)置為銅層，所述第六膜層(6)鍍膜厚度為5nm～10nm，所述第七膜層(7)設(shè)置為銀層，所述第七膜層(7)鍍膜厚度為2nm～3nm，所述第八膜層(8)為鎳鉻層，所述第八膜層(8)鍍膜厚度為1nm～2nm，所述第九膜層(9)氮化硅層，所述第九膜層(9)鍍膜厚度為30nm～35nm。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低反低透中性色可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述第一膜層、第二膜層、第三膜層、第四膜層、第五膜層、第六膜層、第七膜層、第八膜層和第九膜層膜層厚度之和不小于90nm且不大于115nm。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了玻璃磁控濺射鍍膜技術(shù)領(lǐng)域中的一種低反低透中性色可鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片和鍍膜層，鍍膜層自玻璃基片向外依次復(fù)合有第一膜層、第二膜層、第三膜層、第四膜層、第五膜層、第六膜層、第七膜層、第八膜層和第九膜層，第一膜層設(shè)置為氮化硅層，第二膜層設(shè)置為鎳鉻層，第三膜層設(shè)置為氮化硅層，第四膜層置為鎳鉻層，第五膜層設(shè)置為銀層，第六膜層設(shè)置為銅層，第七膜層設(shè)置為銀層，第八膜層為鎳鉻層，第九膜層氮化硅層，本鍍膜玻璃，透過色呈中性色，實現(xiàn)低透過率、低反射效果的效果，豐富可鋼低透低輻射鍍膜玻璃產(chǎn)品體系。

技術(shù)研發(fā)人員：楊賀,司立彬,潘清濤
受保護的技術(shù)使用者：望美實業(yè)集團有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240724
技術(shù)公布日：2025/5/8