專利名稱：液晶顯示器的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種液晶顯示器的制造方法，特別是指一種利用流延涂布方式將光阻材料涂布在基板上，同時利用加工條件的配合，來加快生產(chǎn)速度并降低加工成本的制造方法。
背景技術(shù)：
在例如薄膜晶體管(TFT)、彩色濾光片(Color filter)等液晶顯示器的技術(shù)領(lǐng)域中，為了提高生產(chǎn)效益及降低制造成本，應(yīng)用于液晶顯示器的基板有逐漸大型化的趨勢。而早期液晶顯示器所使用的第一代基板尺寸為320mm×400mm，然后發(fā)展到第二代的370mm×470mm、第三代的550mm×650mm、第四代的680mm×880mm～730mm×920mm，目前的主流尺寸則確定是至少一邊的邊長大于1000mm的第五代基板，而常見的第五代基板尺寸有960mm×1100mm、1100mm×1250mm、1100mm×1300mm、1500mm×1800mm、1800mm×2000mm等，但隨著基板尺寸的大型化趨勢，在基板上涂布光阻材料的方式也有所不同。
一般而言，第一～三代的基板在涂布光阻材料的方式大都以回轉(zhuǎn)涂布(spin coating)為主，上述回轉(zhuǎn)涂布的技術(shù)大致如圖1所示，首先將一基板11置設(shè)在一支持體12上，然后將光阻材料滴在基板11的一頂面111上，之后驅(qū)動該支持體12慢速旋轉(zhuǎn)，使光阻材料均勻地散開，然后再加快旋轉(zhuǎn)速度，使光阻劑藉由離心力的作用均勻的涂布在基板11的頂面111，以形成一光阻材料層13。
此種回轉(zhuǎn)涂布的優(yōu)點(diǎn)在于膜厚容易控制，缺點(diǎn)則是支持體12在回轉(zhuǎn)的過程中，光阻材料會被甩離基板11，因此光阻材料的利用率極低(大約是10％)，基板11上涂布的光阻材料層13厚度也不均勻，也即，由于離心力的作用，位于基板11邊緣的膜厚較中央部位厚，因此，會在基板11邊緣殘留極厚的光阻材料(edge bead)，這些殘留在基板11邊緣的光阻材料并非預(yù)期形成的涂布部位，此類部位的光阻材料在預(yù)烤加熱后會變脆，容易在基板11搬運(yùn)過程剝離成小鱗片狀，上述剝離的小鱗片光阻材料不僅會成為裝置內(nèi)異物的原因，更導(dǎo)致液晶顯示器制造良率下降，有時也會在曝光過程中沾附于光罩上，使光罩的清洗頻率提高，因此，以回轉(zhuǎn)方式涂布光阻材料的制程中，在制造后必需利用清洗設(shè)備加以清除，造成制造程序的繁復(fù)。
而第四代基板在光阻材料的涂布上，為了提高光阻材料的利用率，改采用「流延-回轉(zhuǎn)涂布」(slit-spin coating)，而所謂的「流延-回轉(zhuǎn)涂布」是指先以流延涂布(slit coating)方式將光阻材料涂布在基板上，然后再配合回轉(zhuǎn)的方式讓光阻材料均勻地?cái)U(kuò)散在基板上，此種「流延-回轉(zhuǎn)涂布」的優(yōu)點(diǎn)是大幅提高光阻材料的利用率(大約是20％)，但是由于在制程中仍保留有回轉(zhuǎn)的步驟，因此，在基板邊緣仍會殘留極厚且非預(yù)期的光阻材料，制造上仍需要利用清洗設(shè)備來清除，造成制造程序的繁復(fù)，以及清洗液購料成本的無法降低。也即，無論是早期的「回轉(zhuǎn)涂布」或者近期的「流延-回轉(zhuǎn)涂布」，其皆保有回轉(zhuǎn)的制程，而會衍生光阻劑利用率不佳，以及后續(xù)加工步驟繁復(fù)等缺失。
為了更有效地利用光阻材料，并降低光阻材料的使用成本，目前至少一邊的邊長尺寸大于800mm的大型基板已確定采用「非回轉(zhuǎn)涂布」的方式來涂布光阻材料(即所謂spinless，不需回轉(zhuǎn)涂布，只以流延涂布光阻材料，以下簡稱流延涂布)，例如日本「Display」期刊2002年11月號月刊第36頁中即曾提及，以「流延涂布」(Slit coating)的方式，來生產(chǎn)大型化第五代彩色濾光片的基板的技術(shù)及裝置，而2002年6月號日本「電子材料」期刊第107頁中亦有提及，將「流延涂布」的技術(shù)運(yùn)用在平面顯示器的基板的涂布生產(chǎn)上。此種「流延涂布」技術(shù)最大的特點(diǎn)是不需再經(jīng)回轉(zhuǎn)涂布的加工步驟，其優(yōu)點(diǎn)是可以100％的利用光阻材料，藉此大幅降低材料成本，同時在基板邊緣也不再殘留極厚的光阻材料，因此，不需再加設(shè)清洗設(shè)備，也無需購買清洗液，故可有效地降低制造成本。
但只以「流延涂布」方式來涂布光阻材料，由于不再經(jīng)過回轉(zhuǎn)涂布處理，因此，光阻材料在涂布后會產(chǎn)生基板面內(nèi)涂布均勻性不佳、基板邊緣膜厚偏厚或偏薄，以及涂布產(chǎn)生線形殘痕等不良的現(xiàn)象，前述現(xiàn)象會在液晶顯示器組裝后產(chǎn)生各種顯示不良的缺點(diǎn)，并因此導(dǎo)致面板成品的良率偏低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的動機(jī)是針對液晶顯示器的制造方法作改良，以期利用加工條件的配合，使得感旋光性樹脂組成物以「非回轉(zhuǎn)」方式涂布在至少一邊的邊長大于800mm的基板上時，能夠得到較佳的涂布均勻性、基板邊緣膜厚無偏厚或偏薄，并防止產(chǎn)生線形殘痕。
本發(fā)明的目的是在提供一種可提高光阻材料的利用率，同時加快生產(chǎn)速度、降低制造成本，并具有較佳涂布均勻性的液晶顯示器的制造方法。
本發(fā)明的制造方法首先以一流延涂布機(jī)(slit coater)將動態(tài)表面張力介于25～35dyne/cm之間的感旋光性樹脂組成物經(jīng)由狹長模頭(slot die)涂布在一基板上，并形成一膜厚L1的濕涂膜，然后對濕涂膜進(jìn)行預(yù)烤以蒸發(fā)溶媒，以形成一膜厚L2的預(yù)烤涂膜。其中膜厚L1大于8μm，但小于25μm，且膜厚L1/膜厚L2＝3.2～15，該基板及狹長模頭間并以50～120mm/sec的相對速度移動，且上述感旋光性樹脂組成物與基板的接觸角介于8～25度之間。
本發(fā)明的另一特征在于該狹長模頭的一出料口與基板的一頂面間的距離(gap)在50～200μm。
本發(fā)明所述的基板是指至少一邊的邊長大于800mm的板材，該板材可為無堿玻璃、鈉鈣玻璃、硬質(zhì)玻璃(派勒斯玻璃)、石英玻璃等液晶顯示器常見的玻璃板材，或者在該類板材上附著有透明導(dǎo)電膜、鉻膜或鉬膜等鍍膜的板材，亦可例如用于固體攝影裝置等的光電變化裝置基板(如硅基板)等等，此種基板一般是形成隔離各畫素的黑色脫膜。
本發(fā)明所述的感旋光性樹脂組成物可經(jīng)涂布、預(yù)烤、曝光、顯像以及后續(xù)的加工步驟，在基板上形成一光阻材料層，上述感旋光性樹脂組成物的種類會因功能不同而異，就本發(fā)明而言，凡用于彩色濾光片、薄膜晶體管制作所使用的皆屬之。也即，本發(fā)明所使用的感旋光性樹脂組成物包括黑色光阻劑(彩色濾光片的黑色矩陣用的樹脂型光阻劑)、彩色光阻劑、感旋光性間隙體(photospacer)、層間絶緣膜及正型光阻劑等。
其中，用于彩色濾光片的黑色光阻劑及其它彩色光阻劑，一般是將有機(jī)或無機(jī)顏料分散于環(huán)氧(epoxy)系、丙烯酸系、聚酰亞胺(polyimide)系、氨基甲酸酯(urethane)系、聚酯(polyester)系或聚乙烯基(polyvinyl)系等的粘結(jié)性(binder)樹脂中。較佳為采用丙烯酸系自由基聚合型的感旋光性樹脂組成物，其為負(fù)型的光阻劑，具體的成份包括丙烯酸系樹脂(如甲基丙烯酸/苯乙烯/甲基丙烯酸甲酯的共聚物)、乙烯性不飽和基的化合物[如二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯]、顏料、光起始劑、溶劑及添加劑等。
而本發(fā)明所述的感旋光性間隙體(photospacer)的成分通常包括含環(huán)氧基的丙烯酸系樹脂(如甲基丙烯酸環(huán)氧丙酯/甲基丙烯酸/苯乙烯的共聚物)、乙烯性不飽和基的化合物、光起始劑、溶劑及添加劑等。
而薄膜晶體管在制造上所使用的層間絶緣膜的成分通常包括粘結(jié)性樹脂(binder)、感光劑、溶劑及添加劑等。其中粘結(jié)性樹脂例如酚醛清漆(novolac)樹脂、聚酰亞胺(polyimide)樹脂及丙烯酸系樹脂，感光劑主要為鄰萘醌二疊氮磺酸類的酯化物(簡稱NQD)。正型光阻劑通常是由堿可溶樹脂及NQD的感光劑所組成，其中堿可溶樹脂主要系酚醛清漆樹脂。


圖1是以回轉(zhuǎn)涂布方式在基板上涂布光阻材料的流程示意圖；圖2是以流延涂布方式在一基板上涂布光阻材料的示意簡圖；圖3是涂布線形殘痕的示意圖；圖4是測定涂布膜厚的測定點(diǎn)示意圖。
圖中21 支持體 23 狹長模頭22 大型基板231 出料口221 頂面24 濕涂膜具體實(shí)施方式
參閱圖2，本發(fā)明所述流延涂布制程，是在一流延涂布裝置上進(jìn)行，制造時先在一支持體21上置放一基板22，并在支持體21上方架設(shè)一可相對于基板22移動的狹長模頭23，然后利用泵將感旋光性樹脂組成物泵送到狹長模頭23的一容槽內(nèi)，當(dāng)狹長模頭23相對于基板22由一起始端往一終止端移動時，泵流到狹長模頭23的容槽內(nèi)的感旋光性樹脂即可由底端的一出料口231流出，并涂布在基板22的一頂面221上，同時形成一含有溶媒且膜厚L1的濕涂膜24，上述出料口231與頂面221間的距離為G。
然后對濕涂膜24進(jìn)行預(yù)烤，使感旋光性樹脂組成物中的溶媒蒸發(fā)，以形成一膜厚為L2的預(yù)烤涂膜，上述預(yù)烤涂膜在成型時，首先以真空干燥的方式先去除感旋光性樹脂組成物中的大部份溶媒，然后進(jìn)行預(yù)烤(prebake)處理，預(yù)烤的溫度設(shè)定在感旋光性樹脂組成物不會產(chǎn)生急速熱分解的范圍，一般在80～130℃，通過預(yù)熱將感旋光性樹脂組成物中的溶媒去除，即可形成本發(fā)明所述的預(yù)烤涂膜。成型后將涂布該預(yù)烤涂膜的基板22送到指定的光罩內(nèi)進(jìn)行曝光、顯像、后烤等后續(xù)的加工步驟，在曝光的操作上，一般以使用特別的g線、h線、i線等紫外線為佳，而紫外燈較佳為(超)高壓水銀燈及金屬鹵素?zé)?，顯像步驟則是將曝光后的成品浸漬于顯影液中除去不要的部份，即可形成所需的圖像(pattern)，后烤處理則是在設(shè)定溫度下去除感旋光性樹脂圖像中殘存的揮發(fā)份，同時讓感旋光性樹脂組成物產(chǎn)生架橋反應(yīng)，而完全硬化。前述曝光、顯影等并非本發(fā)明改良重點(diǎn)，不再說明。
為了使「流延涂布」的加工更適合用在至少一邊的邊長大于800mm的基板制作上，本發(fā)明前述流延涂布加工必需配合以下條件，才能達(dá)到預(yù)期的功效(1)將濕涂膜24的膜厚L1控制在8～25μm間，較佳為8～20μm，更佳為10～20μm經(jīng)實(shí)驗(yàn)證明，本發(fā)明濕涂膜24的膜厚L1若小于8μm，所涂布的光阻材料容易使基板22(特別是指一邊的邊長大于或等于800mm者)的邊緣膜厚產(chǎn)生偏厚或偏薄，及涂布線形殘痕等不良現(xiàn)象。但當(dāng)濕涂膜24的膜厚L1大于25μm時，會產(chǎn)生面內(nèi)涂布均勻性不佳的現(xiàn)象。
(2)本發(fā)明濕涂膜24的膜厚L1與預(yù)烤涂膜的膜厚L2的比值介于3.2～15間，較佳為3.5～10，更佳為4～8本發(fā)明所形成的預(yù)烤涂膜的膜厚L2是依感旋光性樹脂組成物不同而有不同的要求，一般而言，彩色光阻劑、黑色光阻劑及正型光阻劑在0.8～3μm，并以1～2μm為較佳，而感旋光性間隙體一般為2～10μm，并以3～6μm為較佳。經(jīng)實(shí)驗(yàn)證明，無論光阻劑或者間隙體，當(dāng)濕涂膜24的膜厚L1介于8～25μm，且L1/L2介于3.2～15時，基板面內(nèi)涂布均勻性佳，基板邊緣膜厚無偏厚或偏薄的現(xiàn)象，且無涂布線形殘痕。
(3)本發(fā)明的狹長模頭23與基板22間的相對速度S為50～120mm/sec，更佳為60～110mm/sec上述相對移動速度S可為基板22不動，而狹長模頭23移動的模式，或?yàn)楠M長模頭23不動而基板22移動的模式，或者為大型基板22與狹長模頭23同時相對移動的模式，亦即，在涂布濕涂膜24的過程中，只要讓基板22與狹長模頭23間以設(shè)定的相對速度移動，即可達(dá)到本發(fā)明所預(yù)期的目的。經(jīng)實(shí)驗(yàn)證明，當(dāng)該相對速度大于120mm/sec時，極易在基板22前端產(chǎn)生未涂布(no-wetting)的現(xiàn)象，亦即，涂布均勻性不佳，而當(dāng)相對速度小于50mm/sec時，生產(chǎn)速度大幅下降，會造成產(chǎn)能的下降。
(4)本發(fā)明的狹長模頭23的出料口231與基板22的頂面221間的距離G介于50～200μm間，更佳為60～180μm間當(dāng)前述距離G大于200μm間時，濕涂膜24對應(yīng)于基板22邊緣處的膜厚極易偏厚或偏薄，而當(dāng)前述距離G小于50μm時，涂布的光阻劑層極易產(chǎn)生涂布線形殘痕等不良現(xiàn)象。
(5)本發(fā)明的感旋光性樹脂組成物的動態(tài)表面張力介于25～35dyne/cm的間，更佳為28～33 dyne/cm的間當(dāng)前述動態(tài)表面張力大于35dyne/cm時，極易在基板前端產(chǎn)生未涂布(nowetting)的現(xiàn)象，亦即涂布均勻性不佳，而當(dāng)動態(tài)表面張力小于25dyne/cm時，極易導(dǎo)致基板邊緣處的膜厚偏厚或偏薄。本發(fā)明中該當(dāng)動態(tài)表面張力可藉由溶劑的選擇，粘結(jié)性樹脂的種類以及添加適當(dāng)?shù)慕缑婊钚詣┗蚱渌砑觿?如稀釋劑)來調(diào)整。
(6)本發(fā)明的感旋光性樹脂組成物與基板的接觸角介于8～25度的間，較佳為10～23度的間，更佳為12～22度的間當(dāng)前述接觸角大于25度時，極易在基板前端產(chǎn)生未涂布(nowetting)的現(xiàn)象，亦即涂布均勻性不佳，而當(dāng)接觸角小于8度時，極易導(dǎo)致基板邊緣處的膜厚偏厚或偏薄。本發(fā)明中該接觸角可藉由溶劑的選擇，粘結(jié)性樹脂的種類以及添加適當(dāng)?shù)慕缑婊钚詣┗蚱渌砑觿?如稀釋劑)來調(diào)整。
檢測方法(1)「涂布線形殘痕」的檢驗(yàn)方法將感旋光性樹脂組成物涂布于基板上，經(jīng)預(yù)烤處理后，在鈉燈下，目視檢查是否有“涂布線形殘痕”的現(xiàn)象。
各種涂布不良現(xiàn)象如圖3所示(2)膜厚的檢驗(yàn)方法將感旋光性樹脂組成物涂布于基板上，經(jīng)預(yù)烤處理后，以膜厚檢測裝置(Tencor公司制的alpha-step型)測定膜厚，測定點(diǎn)如圖4所示
膜厚FT(avg)為以下(x，y)＝(240，275)，(480，275)，(720，275)，(240，550)，(480，550)，(720，550)，(240，825)，(480，825)，(720，825)共9點(diǎn)膜厚的平均值。
基板邊緣膜厚FT(edge)為(x，y)＝(10，550)的膜厚，當(dāng)|FT(edge)-FT(avg)|/FT(avg)×100％≤3％，判定為OK。而當(dāng)|FT(edge)-FT(avg)|/FT(avg)×100％＞3％，判定為偏厚或偏薄。
(3)基板面內(nèi)涂布均勻性的檢驗(yàn)方法依上述所取的9點(diǎn)膜厚FT(X，Y)與9點(diǎn)膜厚的平均值FT(avg)的差值的百分比，當(dāng)|FT(X，Y)-FT(avg)|/FT(avg)×100％≤3％，判定為基板面內(nèi)涂布均勻性佳，而當(dāng)|FT(X，Y)-FT(avg)|/FT(avg)×100％＞3％，判定為基板面內(nèi)涂布均勻性不佳。
(4)動態(tài)表面張力的檢驗(yàn)方法以協(xié)和界面科學(xué)股份有限公司制BP-D3型表面張力計(jì)，溫度40℃及200ms/泡的測定條件下測定，單位為dyne/cm。
(5)接觸角的檢驗(yàn)方法將感旋光性樹脂組成物滴在大型玻璃基板上30秒后，再以協(xié)和界面科學(xué)股份有限公司制CA-VP150型接觸角計(jì)，SessileDrop Method的測定方式測定角度，單位為度。
實(shí)施例及比較例的說明為更清楚地說明本發(fā)明前述以及其它技術(shù)內(nèi)容、特點(diǎn)與功效，以下再以實(shí)施例及比較例說明。但本發(fā)明各實(shí)施例主要是以制作穿透式TFT-LCD的制造方法來作說明，但本發(fā)明的范圍不應(yīng)僅限于制作穿透式TFT-LCD，凡所有使用本發(fā)明制造方法而得的液晶顯示器，均可得到相同的效果。
制備例[正型光阻劑制備例]依下述配方合成正型光阻劑I-1，I-2，I-3

a Cresol novolac，meta∶para＝50∶50，Mw＝5230b Cresol novolac，meta∶para＝70∶30，Mw＝2180(B-1) 2，3，4-三羥基二苯甲酮與1，2-萘醌二疊氮-5-磺酸的酯化物，酯化率＝83％(B-2) 2，3，4，4’-四羥基二苯甲酮與1，2-萘醌二疊氮-5-磺酸的酯化物，酯化率＝87.5％PGMEA 丙二醇甲醚醋酸酯(propylene glycol methyl ether acetate)γ-butyrolactone丁內(nèi)酯界面活性劑-1商品名弗洛多FC-430(住友3M制)界面活性劑-2商品名SF-8427(Toray Dow Corning Silicon制)[黑色光阻劑制備例]依下述配方合成黑色光阻劑II-1，II-2，II-3

MAA甲基丙烯酸單體(methacrylic acid)BzMA 甲基丙烯酸苯甲酯單體(benzyl methacrylate)MA 丙烯酸甲酯單體(methyl acrylate)DPHA 二季戊四醇六丙烯酸酯(dipentaerythritol hexaacrylate)C-12-芐基-2-N，N-二甲胺-1-(4-嗎福啉代苯基)-1-丁酮(2-benzyl-2-N，N-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-1-butanone)C-24，4’-雙(二乙胺)二苯甲酮(4，4’-bis(diethylamino)benzophenone)C-32，2’-雙(2-氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基二咪唑(2，2’-bis(2-chlorophenyl)-4，4’，5，5’-tetraphenylbiimidazole)[紅色光阻劑制備例]依下述配方合成紅色光阻劑III-1，III-2，III-3，III-4，III-5，III-6，III-7

DPM一縮二丙二醇甲醚(dipropylene glycol methyl ether)[間隙體用感旋光性樹脂組成物制備例]依下述配方合成間隙體用感旋光性樹脂組成物IV-1，IV-2，IV-3

GMA 甲基丙烯酸環(huán)氧丙酯單體(glycidyl methacrylate)TBMA 甲基丙烯酸三級丁酯單體(tert-butyl methacrylate)SM 苯乙烯單體(styrene monomer)Diglyme 二甘醇二甲醚(diethylene glycol dimethyl ether)[實(shí)施例.1]將主要組成為酚醛清漆樹脂及NQD感光劑的正型光阻劑I-1(動態(tài)表面張力為29.5dyne/cm，接觸角為19.3度)，以泵連續(xù)泵入涂布幅寬為1100mm的狹長模頭23，經(jīng)由狹長模頭的出料口231流出至位于支持體21上的玻璃基板22，上述玻璃基板的厚度為0.7mm，尺寸為960mm×1100mm，而正型光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，相對于狹長模頭23的基板移動速度為100mm/sec，在本實(shí)施例采用狹長模頭固定，而基板以100mm/sec的速度移動。上述正型光阻劑的固形分為10.0％，濕涂膜24的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為1.5μm，L1/L2＝10，狹長模頭的出料口與基板的頂面221間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察并無涂布線形殘痕，基板邊緣膜厚也無偏厚或偏薄，基板面內(nèi)涂布的均勻性佳。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為碳黑分散于丙烯酸系樹脂的黑色光阻劑II-1(動態(tài)表面張力為30.3dyne/cm，接觸角為16.1度)涂布于基板上(樹脂制黑色矩陣用)，該黑色光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，固形分為13.3％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝7.5，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100m，預(yù)烤后經(jīng)觀察亦無涂布線形殘痕，基板邊緣膜厚也無偏厚或偏薄，基板面內(nèi)涂布均勻性佳。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為CI254系紅色顏料分散于丙烯酸系樹脂的紅色光阻劑III-1(動態(tài)表面張力為29.8 dyne/cm，接觸角為15.5度，彩色濾光片用)涂布于基板上，紅色光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，固形分為13.3％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝7.5，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100m，預(yù)烤后經(jīng)觀察亦無涂布線形殘痕，基板邊緣膜厚也無偏厚或偏薄，基板面內(nèi)涂布均勻性佳。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為CI36系綠色顏料分散于丙烯酸系樹脂的綠色光阻劑(其余成份同III-1，動態(tài)表面張力為31.1 dyne/cm，接觸角為15.3度，彩色濾光片用)涂布于基板上，綠色光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，綠色光阻劑的固形分為13.3％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝7.5，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察無涂布線形殘痕，基板邊緣膜厚也無偏厚或偏薄，基板面內(nèi)涂布均勻性佳。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為CI15:6系藍(lán)色顏料分散于丙烯酸系樹脂的藍(lán)色光阻劑(其余成份同III-1，動態(tài)表面張力為30.6dyne/cm，接觸角為15.6度，彩色濾光片用)涂布于基板上，藍(lán)色光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，藍(lán)色光阻劑的固形分為13.3％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝7.5，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察也無涂布線形殘痕，基板邊緣膜厚也無偏厚或偏薄，基板面內(nèi)涂布均勻性亦佳。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，但基板的頂面設(shè)有一厚度為0.15μm的透明導(dǎo)電膜(ITO)全膜，將主要組成為丙烯酸系樹脂的間隙體用感旋光性樹脂組成物IV-1(動態(tài)表面張力為28.2dyne/cm，接觸角為15.6度)涂布于基板上，間隙體組成物的吐出速率為1768μl/sec，間隙體組成物的固形分為26.7％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為4.0μm，L1/L2＝3.75，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察無涂布線形殘痕，基板邊緣膜厚也無偏厚或偏薄，基板面內(nèi)涂布均勻性佳。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，且基板上具有一厚度為0.15μm的ITO全膜，將主要組成為酚醛清漆樹脂及NQD感光劑的正型光阻劑(溶劑改為PGMEA 1412重量份，γ-butyrolactone 141重量份，其余成份同I-1，動態(tài)表面張力為30.2dyne/cm，接觸角為17.1度)涂布于基板上，正型光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，正型光阻劑的固形分為8.0％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為1.2μm，L1/L2＝12.5，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察無涂布線形殘痕，基板邊緣膜厚也無偏厚或偏薄，基板面內(nèi)涂布均勻性佳。

同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，但基板上具有一層厚度為0.15μm鉬全膜，將主要組成為酚醛清漆樹脂及NQD感光劑的正型光阻劑(成份同I-1，動態(tài)表面張力為29.5dyne/cm，接觸角為19.4度)涂布于基板上，正型光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，正型光阻劑的固形分為10.0％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為1.5μm，L1/L2＝10，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察無涂布線形殘痕，基板邊緣膜厚無偏厚或偏薄，基板面內(nèi)涂布均勻性佳。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為CI254紅色顏料分散于丙烯酸系樹脂的紅色光阻劑(溶劑改為PGMEA1184重量份，γ-butyrolactone 184重量份，其余成份同III-1，動態(tài)表面張力為31.2dyne/cm，接觸角為22.8度，彩色濾光片用)涂布于基板上，紅色光阻劑的吐出速率為1162μl/sec，紅色光阻劑的固形分為20.0％，濕涂膜的膜厚L1為10μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝5，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察無涂布線形殘痕，基板邊緣膜厚也無偏厚或偏薄，基板面內(nèi)涂布均勻性佳。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸也相同于實(shí)施例1，將主要組成為CI254紅色顏料分散于丙烯酸系樹脂的紅色光阻劑(溶劑改為PGMEA2664重量份，γ-butyrolactone 414重量份，其余成份同III-1，動態(tài)表面張力為30.7dyne/cm，接觸角為14.2度，彩色濾光片用)涂布于基板上，紅色光阻劑的吐出速率為2350μl/sec，紅色光阻劑的固形分為10.0％，濕涂膜的膜厚L1為20μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝10，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察無涂布線形殘痕，基板邊緣膜厚也無偏厚或偏薄，基板面內(nèi)涂布均勻性佳。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為CI254紅色顏料分散于丙烯酸系樹脂的紅色光阻劑(成份同III-1，動態(tài)表面張力為29.2 dyne/cm，接觸角為15.4度，彩色濾光片用)涂布于基板上，紅色光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，紅色光阻劑的固形分為13.3％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，狹長模頭與基板的相對速度為55mm/sec，L1/L2＝7.5，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察無涂布線形殘痕，基板邊緣膜厚也無偏厚或偏薄，基板面內(nèi)涂布均勻性佳。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為CI254紅色顏料分散于丙烯酸系樹脂的紅色光阻劑(成份同III-1，動態(tài)表面張力為29.8dyne/cm，接觸角為15.5度，彩色濾光片用)涂布于基板上，紅色光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，紅色光阻劑的固形分為13.3％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝7.5，狹長模頭與基板的相對速度為115mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察并無涂布線形殘痕，基板邊緣膜厚也無偏厚或偏薄，基板面內(nèi)涂布均勻性佳。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為CI254紅色顏料分散于丙烯酸系樹脂的紅色光阻劑(成份同III-1，動態(tài)表面張力為30.4dyne/cm，接觸角為15.3度，彩色濾光片用)涂布于基板上，紅色光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，紅色光阻劑的固形分為13.3％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝7.5，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為60μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察無涂布線形殘痕，基板邊緣膜厚也無偏厚或偏薄，基板面內(nèi)涂布均勻性佳。

同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為CI254紅色顏料分散于丙烯酸系樹脂的紅色光阻劑(成份同III-1，動態(tài)表面張力為29.5dyne/cm，接觸角為15.6度，彩色濾光片用)涂布于基板上，紅色光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，紅色光阻劑的固形分為13.3％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝7.5，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為180μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察無涂布線形殘痕，基板邊緣膜厚也無偏厚或偏薄。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為CI254紅色顏料分散于丙烯酸系樹脂的紅色光阻劑III-2(動態(tài)表面張力為31.8dyne/cm，接觸角為15.8度，彩色濾光片用)涂布于基板上，紅色光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，固形分為13.3％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝7.5，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察亦無涂布線形殘痕，基板邊緣膜厚也無偏厚或偏薄，基板面內(nèi)涂布均勻性佳。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為CI254紅色顏料分散于丙烯酸系樹脂的紅色光阻劑III-3(動態(tài)表面張力為29.2dyne/cm，接觸角為15.5度，彩色濾光片用)涂布于基板上，紅色光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，固形分為13.3％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝7.5，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100m，預(yù)烤后經(jīng)觀察亦無涂布線形殘痕，基板邊緣膜厚也無偏厚或偏薄，基板面內(nèi)涂布均勻性佳。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為CI254紅色顏料分散于丙烯酸系樹脂的紅色光阻劑III-4(動態(tài)表面張力為31.5 dyne/cm，接觸角為15.7度，彩色濾光片用)涂布于基板上，紅色光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，固形分為13.3％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝7.5，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100m，預(yù)烤后經(jīng)觀察亦無涂布線形殘痕，基板邊緣膜厚也無偏厚或偏薄，基板面內(nèi)涂布均勻性佳。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為CI254紅色顏料分散于丙烯酸系樹脂的紅色光阻(溶劑改為PGMEA 600重量份，γ-butyrolactone 94重量份，其余成份同III-1，動態(tài)表面張力為30.2dyne/cm，接觸角為33.8度，彩色濾光片用)劑涂布于基板上，紅色光阻劑的吐出速率為700μl/sec，紅色光阻劑的固形分為33.0％，濕涂膜的膜厚L1為6μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝3，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察，基板面內(nèi)涂布均勻性不佳，有涂布線形殘痕，基板邊緣膜厚也有偏厚的現(xiàn)象。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為CI254紅色顏料分散于丙烯酸系樹脂的紅色光阻劑(溶劑改為PGMEA4989重量份，γ-butyrolactone 776重量份，其余成份同III-1，動態(tài)表面張力為30.7dyne/cm，接觸角為14.2度，彩色濾光片用)涂布于基板上，紅色光阻劑的吐出速率為3502μl/sec，紅色光阻劑的固形分為5.6％，濕涂膜的膜厚L1為36μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝18，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察，基板面內(nèi)涂布均勻性不佳。
同實(shí)施例1的操作條件，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為CI254紅色系顏料分散于丙烯酸系樹脂的紅色光阻劑(成份同III-1，動態(tài)表面張力為29.8dyne/cm，接觸角為15.3度，彩色濾光片用)涂布于基板上，紅色光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，紅色光阻劑的固形分為13.3％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝7.5，狹長模頭與基板的相對速度為140mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察，基板面內(nèi)涂布均勻性不佳。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為CI254紅色系顏料分散于丙烯酸系樹脂的紅色光阻劑(成份同III-1，動態(tài)表面張力為30.5dyne/cm，接觸角為15.5度，彩色濾光片用)涂布于基板上，紅色光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，紅色光阻劑的固形分為13.3％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝7.5，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為40μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察有涂布線形殘痕。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為CI254紅色系顏料分散于丙烯酸系樹脂的紅色光阻劑(成份同III-1，動態(tài)表面張力為29.6dyne/cm，接觸角為15.3度，彩色濾光片用)涂布于基板上，紅色光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，紅色光阻劑的固形分為13.3％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝7.5，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為250μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察基板邊緣膜厚有偏厚的現(xiàn)象。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為酚醛清漆樹脂及NQD感光劑的正型光阻劑(溶劑改為PGMEA 364重量份，γ-butyrolactone 41重量份，其余成份同I-1，動態(tài)表面張力為30.8dyne/cm，接觸角為20.1度)涂布于基板上，正型光阻劑的吐出速率為700μl/sec，正型光阻劑的固形分為25％，濕涂膜的膜厚L1為6μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為1.5μm，L1/L2＝4，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察有涂布線形殘痕，基板邊緣的膜厚亦有偏厚的現(xiàn)象。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為碳黑分散于丙烯酸系樹脂的黑色光阻劑(溶劑改為PGMEA 593重量份，γ-butyrolactone 92重量份，其余成份同II-1，動態(tài)表面張力為3 1.1dyne/cm，接觸角為33.5度，樹脂制黑色矩陣用)涂布于基板上，黑色光阻劑的吐出速率為700μl/sec，黑色光阻劑的固形分為33.3％，濕涂膜的膜厚L1為6μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝3，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察，基板面內(nèi)涂布均勻性不佳，有涂布線形殘痕，基板邊緣膜厚亦有偏厚的現(xiàn)象。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為丙烯酸系樹脂的間隙體組成物(溶劑改為diglyme 290重量份，γ-butyrolactone 33重量份，其余成份同IV-1，動態(tài)表面張力為31.2 dyne/cm，接觸角為18.9度)涂布于基板上，間隙體用感旋光性樹脂組成物的吐出速率為1180μl/sec，間隙體組成物的固形分為40.0％，濕涂膜的膜厚L1為10μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為3.5μm，L1/L2＝2.8，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察有涂布線形殘痕，以及基板邊緣膜厚偏厚等現(xiàn)象。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為CI254紅色顏料分散于丙烯酸系樹脂的紅色光阻劑III-5(動態(tài)表面張力為30.6dyne/cm，接觸角為28.3度，彩色濾光片用)涂布于基板上，紅色光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，固形分為13.3％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝7.5，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察，基板面內(nèi)涂布均勻性不佳。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為CI254紅色顏料分散于丙烯酸系樹脂的紅色光阻劑III-6(動態(tài)表面張力為37.7dyne/cm，接觸角為15.4度，彩色濾光片用)涂布于基板上，紅色光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，固形分為13.3％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝7.5，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察，基板面內(nèi)涂布均勻性不佳。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為CI254紅色顏料分散于丙烯酸系樹脂的紅色光阻劑III-7(動態(tài)表面張力為19.8dyne/cm，接觸角為15.3度，彩色濾光片用)涂布于基板上，紅色光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，固形分為13.3％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝7.5，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察，基板邊緣膜厚有偏厚的現(xiàn)象。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為碳黑分散于丙烯酸系樹脂的黑色光阻劑II-2(動態(tài)表面張力為29.7dyne/cm，接觸角為28.1度)涂布于基板上(樹脂制黑色矩陣用)，該黑色光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，固形分為13.3％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝7.5，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察，基板面內(nèi)涂布均勻性不佳。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板尺寸亦相同于實(shí)施例1，將主要組成為碳黑分散于丙烯酸系樹脂的黑色光阻劑II-3(動態(tài)表面張力為37.5dyne/cm，接觸角為15.8度，樹脂制黑色矩陣用)涂布于基板上，該黑色光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，固形分為13.3％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為2.0μm，L1/L2＝7.5，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100m，預(yù)烤后經(jīng)觀察，基板面內(nèi)涂布均勻性不佳。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，但基板的頂面設(shè)有一厚度為0.15μm的透明導(dǎo)電膜(ITO)全膜，將主要組成為丙烯酸系樹脂的間隙體用感旋光性樹脂組成物IV-2(動態(tài)表面張力為32.3 dyne/cm，接觸角為27.2度)涂布于基板上，間隙體組成物的吐出速率為1768μl/sec，間隙體組成物的固形分為26.7％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為4.0μm，L1/L2＝3.75，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察，基板面內(nèi)涂布均勻性不佳。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，但基板的頂面設(shè)有一厚度為0.15μm的透明導(dǎo)電膜(ITO)全膜，將主要組成為丙烯酸系樹脂的間隙體用感旋光性樹脂組成物IV-3(動態(tài)表面張力為38.1dyne/cm，接觸角為15.4度)涂布于基板上，間隙體組成物的吐出速率為1768l/sec，間隙體組成物的固形分為26.7％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為4.0μm，L1/L2＝3.75，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察，基板面內(nèi)涂布均勻性不佳。

同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，且基板上具有一厚度為0.15μm的ITO全膜，將主要組成為酚醛清漆樹脂及NQD感光劑的正型光阻劑I-2(動態(tài)表面張力為31.9dyne/cm，接觸角為28.5度)涂布于基板上，正型光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，正型光阻劑的固形分為10.0％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為1.5μm，L1/L2＝10，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察，基板面內(nèi)涂布均勻性不佳。
同實(shí)施例1的操作，玻璃基板的尺寸亦相同于實(shí)施例1，且基板上具有一厚度為0.15μm的ITO全膜，將主要組成為酚醛清漆樹脂及NQD感光劑的正型光阻劑I-3(動態(tài)表面張力為37.7dyne/cm，接觸角為19.6度)涂布于基板上，正型光阻劑的吐出速率為1768μl/sec，正型光阻劑的固形分為10.0％，濕涂膜的膜厚L1為15μm，預(yù)烤后的預(yù)烤涂膜的膜厚L2為1.5μm，L1/L2＝10，狹長模頭與基板的相對速度為100mm/sec，狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離為100μm，預(yù)烤后經(jīng)觀察，基板面內(nèi)涂布均勻性不佳。
發(fā)明效果由本發(fā)明各實(shí)施例及比較例的說明可知，若采用本發(fā)明的制造方法，在基板上涂布感旋光性樹脂組成物，可改善利用「回轉(zhuǎn)涂布」加工方式所產(chǎn)生的面內(nèi)涂布均勻性不佳、基板邊緣膜厚偏厚或偏薄，以及涂布線形殘痕等不良現(xiàn)象，以提高面板成品良率。
但以上所述，僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，當(dāng)不能以此限定本發(fā)明實(shí)施的范圍，即凡依本發(fā)明申請專利范圍及發(fā)明說明書內(nèi)容所作的簡單的等效變化與修飾，皆應(yīng)仍屬本發(fā)明專利涵蓋的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種液晶顯示器的制造方法，其特征在于該制造方法首先以一流延涂布機(jī)將動態(tài)表面張力介于25～35dyne/cm之間的感旋光性樹脂組成物經(jīng)由狹長模頭涂布在至少一邊的邊長大于800mm的基板上，以形成一膜厚L1的濕涂膜，然后對濕涂膜進(jìn)行預(yù)烤以蒸發(fā)溶媒，并形成一膜厚L2的預(yù)烤涂膜；其中膜厚L1大于8μm，但小于25μm，且膜厚L1/膜厚L2＝3.2～15間，該基板及狹長模頭間并以50～120mm/sec的相對速度移動，且上述感旋光性樹脂組成物與基板的接觸角介于8～25度之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述液晶顯示器的制造方法，其特征在于，該狹長模頭的一出料口與基板的一頂面間的距離在50～200μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述液晶顯示器的制造方法，其特征在于，濕涂膜的膜厚L1介于8～20μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述液晶顯示器的制造方法，其特征在于，濕涂膜的膜厚L1介于10～20μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述液晶顯示器的制造方法，其特征在于，膜厚L1/膜厚L2＝3.5～10。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述液晶顯示器的制造方法，其特征在于，膜厚L1/膜厚L2＝4～8。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述液晶顯示器的制造方法，其特征在于，該基板及狹長模頭間的相對速度為60～110mm/sec。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述液晶顯示器的制造方法，其特征在于，該狹長模頭的出料口與基板的頂面間的距離在60～180μm。
全文摘要
一種液晶顯示器的制造方法，該方法通過加工條件的配合來提高光阻材料的利用率，同時加快生產(chǎn)速度、降低制造成本，并具有較佳涂布均勻性。本發(fā)明的制造方法首先以一流延涂布機(jī)將動態(tài)表面張力介于25～35dyne/cm之間的感旋光性樹脂組成物經(jīng)由狹長模頭涂布在至少一邊的邊長大于800mm的基板上，以形成一膜厚L
文檔編號B05D1/30GK1583287SQ0315515
公開日2005年2月23日 申請日期2003年8月22日 優(yōu)先權(quán)日2003年8月22日
發(fā)明者盛培華, 李俊賢, 施俊安, 林伯宣, 許博義 申請人:奇美實(shí)業(yè)股份有限公司