用于解析離子源進(jìn)樣裝置的真空蓋板結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種用于解析離子源進(jìn)樣裝置的真空蓋板結(jié)構(gòu)，包括蓋板，樣品蓋板，蓋板包括檢測孔，樣品放置孔，樣品蓋板活動(dòng)安裝在樣品放置孔處且位于蓋板的上表面，蓋板的與樣品放置孔對應(yīng)的下表面處有一凹槽，凹槽側(cè)壁上有貫通蓋板內(nèi)部且向外開口在蓋板的側(cè)壁上的凹槽真空聯(lián)通孔；本實(shí)用新型通過舉靶機(jī)構(gòu)和頂靶機(jī)構(gòu)的運(yùn)動(dòng)使得蓋板上的凹槽與靶槽平臺(tái)形成封閉腔室并由真空系統(tǒng)抽真空，以形成過渡真空腔室，可以有效地使得樣品進(jìn)行一個(gè)動(dòng)態(tài)的樣品對于真空度的適應(yīng)過程，操作更加靈活和便捷。
【專利說明】
用于解析離子源進(jìn)樣裝置的真空蓋板結(jié)構(gòu)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型型涉及基質(zhì)輔助激光解析(MALDI)離子源技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種用于解析離子源進(jìn)樣裝置的真空蓋板結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]在基質(zhì)輔助激光解析離子源進(jìn)行的固態(tài)樣品解析過程中，樣品在常壓下形成固體，經(jīng)過進(jìn)樣系統(tǒng)，由常壓進(jìn)入真空系統(tǒng)，并需進(jìn)行精確定位，以實(shí)現(xiàn)樣品在一個(gè)微小的區(qū)域內(nèi)解析，在極短的時(shí)間間隔，激光對樣品提供高的能量，對它們進(jìn)行極快的加熱，這樣可以避免熱敏感的化合物加熱分解，基質(zhì)分子能有效地吸收激光的能量，并間接地傳給樣品分子，從而得到電離，也就實(shí)現(xiàn)了離子進(jìn)入質(zhì)量分析器，完成進(jìn)樣。
[0003]基質(zhì)輔助激光解析(MALDI)離子源進(jìn)樣裝置在真空中進(jìn)樣有著至關(guān)重要的作用，由于待測樣品(多為生物樣品)不能直接從常壓環(huán)境中立即轉(zhuǎn)變?yōu)楦哒婵窄h(huán)境，因此進(jìn)樣裝置需要保證樣品從常壓環(huán)境進(jìn)入到高真空環(huán)境的過程中逐漸適應(yīng)高真空環(huán)境，不會(huì)對樣品產(chǎn)生破壞以致影響解析結(jié)果，因此需要尋找一種能夠先進(jìn)行一種低真空過度，進(jìn)而進(jìn)入高真空的設(shè)備。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]有鑒于此，需要克服現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷中的至少一個(gè)，本實(shí)用新型提供了一種用于解析離子源進(jìn)樣裝置的真空蓋板結(jié)構(gòu)，包括蓋板，樣品蓋板，所述蓋板包括檢測孔，樣品放置孔，所述樣品蓋板活動(dòng)安裝在所述樣品放置孔處且位于所述蓋板的上表面;所述蓋板的與所述樣品放置孔對應(yīng)的下表面處有一凹槽，所述凹槽側(cè)壁上有貫通所述蓋板內(nèi)部且向外開口在所述蓋板的側(cè)壁上的凹槽真空聯(lián)通孔。
[0005]本實(shí)用新型用于一種解析離子源進(jìn)樣裝置，該裝置包括內(nèi)部具有腔室的中空部件，安裝在所述中空部件內(nèi)部的Y向平臺(tái)和安裝在所述Y向平臺(tái)上的X向平臺(tái)，放置在安裝在所述X向平臺(tái)上的靶槽平臺(tái)上的靶槽，安裝在實(shí)時(shí)中空部件內(nèi)部且與所述X向平臺(tái)正向相對的頂靶機(jī)構(gòu)和舉靶機(jī)構(gòu)，以及安裝在所述中空部件頂部的蓋板;所述蓋板上設(shè)置有檢測孔及所述樣品放置孔，所述樣品放置孔處設(shè)置有樣品蓋板;所述X向平臺(tái)具有固定安裝的第一擋塊和第二擋塊，所述頂靶機(jī)構(gòu)具有與所述第一擋塊動(dòng)態(tài)接觸的頂靶接觸部件，所述舉靶機(jī)構(gòu)具有與所述第二擋塊動(dòng)態(tài)接觸的舉靶接觸部件，所述舉靶接觸部件具有舉靶接觸前部和舉靶接觸后部，所述第二擋塊在進(jìn)靶過程中與所述舉靶接觸前部動(dòng)態(tài)接觸且在退靶過程中與所述舉靶接觸后部動(dòng)態(tài)接觸;所述舉靶機(jī)構(gòu)具有舉靶平臺(tái)，所述舉靶平臺(tái)在進(jìn)靶過程中向上托舉所述靶槽且在退靶過程中向下放下所述靶槽及將靶槽放置在所述X向平臺(tái)上的靶槽平臺(tái)上;所述頂靶機(jī)構(gòu)具有頂靶部件，所述頂靶部件在進(jìn)靶過程中向上頂起所述靶槽且在退靶過程中向下運(yùn)動(dòng)放松所述靶槽。
[0006]在操作過程中，在進(jìn)靶位時(shí)，X向平臺(tái)和Y向平臺(tái)推動(dòng)所述靶槽至預(yù)定位置過程中，所述第二擋塊與所述舉靶接觸部件的所述舉靶接觸前部接觸，推動(dòng)所述舉靶機(jī)構(gòu)中的所述舉靶平臺(tái)向上托起所述靶槽，當(dāng)X向平臺(tái)和Y向平臺(tái)繼續(xù)運(yùn)動(dòng)時(shí)，進(jìn)一步使得所述第一擋塊與所述頂靶接觸部件接觸，使得所述頂靶機(jī)構(gòu)的所述頂靶部件向上頂起所述靶槽，以使所述靶槽向上和所述蓋板緊密接觸，此時(shí)將樣品放入所述靶槽，關(guān)閉所述樣品蓋板，此時(shí)，所述靶槽與所述蓋板以及所述樣品蓋板形成已第一密封腔室，其具有相應(yīng)的抽真空通孔，如此，可以對此腔室進(jìn)行低真空處理，而整個(gè)腔室中也同步進(jìn)行高真空處理;待達(dá)到預(yù)定要求后，進(jìn)行退靶位時(shí)，X向平臺(tái)和Y向平臺(tái)向后運(yùn)動(dòng)，所述頂靶接觸部件具有回彈力，因此會(huì)頂住所述第一擋塊一同運(yùn)動(dòng)，所述頂靶部件下落，所述靶槽隨著下落至上述舉靶平臺(tái)上，所述第二擋塊隨之后退并與所述舉靶接觸前部脫離進(jìn)而帶動(dòng)所述舉靶接觸后部，使得所述舉靶平臺(tái)帶動(dòng)所述靶槽運(yùn)動(dòng)至所述X向平臺(tái)的所述靶槽平臺(tái)上，之后，X向平臺(tái)和Y向平臺(tái)運(yùn)動(dòng)至所述蓋板上的所述檢測孔位置，由此可以進(jìn)行解析處理。
[0007]根據(jù)本專利【背景技術(shù)】中對現(xiàn)有技術(shù)所述，由于在相應(yīng)解析過程中，樣品若快速進(jìn)入高真空環(huán)境下，必定會(huì)對樣品本身造成一定的破壞，如此對檢測結(jié)果也必然存在很大誤差;而本實(shí)用新型公開的用于解析離子源進(jìn)樣裝置的真空蓋板結(jié)構(gòu)，通過利用舉靶機(jī)構(gòu)和頂靶機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)使得具有凹槽的蓋板和靶槽平臺(tái)以及靶槽形成一個(gè)動(dòng)態(tài)過渡低真空腔室，可以有效地使得樣品進(jìn)行一個(gè)動(dòng)態(tài)的樣品對于真空度的適應(yīng)過程，操作更加靈活和便捷。
[0008]另外，根據(jù)本實(shí)用新型公開的用于解析離子源進(jìn)樣裝置的真空蓋板結(jié)構(gòu)還具有如下附加技術(shù)特征:
[0009]進(jìn)一步地，所述真空蓋板結(jié)構(gòu)還包括靶槽平臺(tái)，所述靶槽平臺(tái)活動(dòng)與所述凹槽形成封閉腔室，所述靶槽平臺(tái)的形狀與所述凹槽形狀一致，以保證兩者結(jié)合緊密，在密封部件的配合下達(dá)到密封效果。
[0010]進(jìn)一步地，所述樣品蓋板與所述蓋板通過聯(lián)接部件聯(lián)接。
[0011]更進(jìn)一步地，所述聯(lián)接部件為開合合頁。
[0012]進(jìn)一步地，所述樣品蓋板和所述蓋板具有密封結(jié)構(gòu)。
[0013]更進(jìn)一步地，所述密封結(jié)構(gòu)中有密封部件。
[0014]更進(jìn)一步地，所述密封部件為O型圈或X型圈或方形圈。
[0015]更進(jìn)一步地，所述密封部件為橡膠件。
[0016]為了進(jìn)一步說明本實(shí)用新型在該裝置的作用，做了進(jìn)一步的描述:
[0017]同時(shí)，所述第一擋塊為一個(gè)，所述第二擋塊為兩個(gè)且位于第一擋塊的兩側(cè)，所述頂靶接觸部件為一個(gè)且在進(jìn)靶過程和退靶過程中與所述第一擋塊動(dòng)態(tài)接觸，所述舉靶接觸部件為兩個(gè)且與所述第二擋塊一一對應(yīng)并動(dòng)態(tài)接觸。
[0018]此處的動(dòng)態(tài)接觸指的是非固定接觸，其可隨著相互之間的運(yùn)動(dòng)或處于不同的狀態(tài)位時(shí)，處于接觸或非接觸狀態(tài)。
[0019]同時(shí)，所述蓋板具有凹槽，所述凹槽與所述靶槽動(dòng)態(tài)接觸且與所述樣品蓋板形成密封腔室，所述凹槽中有聯(lián)通真空設(shè)備的凹槽真空聯(lián)通孔。
[0020]在所述凹槽中存在所述凹槽真空聯(lián)通孔，可以使得低真空處理更加方便。
[0021 ]同時(shí)，所述舉靶機(jī)構(gòu)還具有托塊，所述頂靶機(jī)構(gòu)安裝在所述托塊上。
[0022]同時(shí)，所述舉靶機(jī)構(gòu)具有定位桿，安裝在所述頂靶機(jī)構(gòu)的滑動(dòng)部件安裝在所述定位桿上且可上下運(yùn)動(dòng)。
[0023]同時(shí)，所述舉靶接觸部件具有軸承的可轉(zhuǎn)動(dòng)部件，所述舉靶接觸部件為滾柱結(jié)構(gòu)。
[0024]同時(shí)，所述頂靶部件具有軸承的可轉(zhuǎn)動(dòng)部件，所述頂靶接觸部件為滾柱結(jié)構(gòu)，滾動(dòng)運(yùn)動(dòng)可以更加使得整體運(yùn)動(dòng)順滑，所述滾柱結(jié)構(gòu)的外表面使用彈性體作為接觸部位，如此可以使得運(yùn)動(dòng)更加具有緩沖性。
[0025]同時(shí)，所述靶槽平臺(tái)上具有定位裝置，所述定位裝置位三個(gè)定位柱。
[0026]同時(shí)，所述X向平臺(tái)或所述Y向平臺(tái)包括動(dòng)力源和絲杠結(jié)構(gòu)以及線性滑軌滑塊，所述動(dòng)力源為電機(jī)。
[0027]同時(shí)，所述進(jìn)樣裝置還包括真空系統(tǒng)，所述凹槽中有聯(lián)通真空設(shè)備的凹槽真空聯(lián)通孔，所述真空系統(tǒng)包括分子栗和機(jī)械栗，所述分子栗與所述腔室相聯(lián)，所述機(jī)械栗與所述分子栗相聯(lián)且與所述凹槽真空聯(lián)通孔相聯(lián)。
[0028]同時(shí)，所述舉靶機(jī)構(gòu)中的所述舉靶平臺(tái)與舉靶第一連桿上端轉(zhuǎn)動(dòng)相聯(lián)，所述舉靶第一連桿下端與所述托塊轉(zhuǎn)動(dòng)鏈接，且通過舉靶第二連桿與所述舉靶接觸部件位于所述舉靶接觸前部和所述舉靶接觸后部與所述舉靶接觸部件和位于所述舉靶機(jī)構(gòu)下部的托塊的轉(zhuǎn)動(dòng)鏈接處之間且形成四連桿結(jié)構(gòu)。
[0029]同時(shí)，所述頂靶機(jī)構(gòu)還包括底座，所述底座和所述舉靶機(jī)構(gòu)固定聯(lián)接;頂靶第一連桿，所述頂靶第一連桿下端與所述底座相聯(lián);頂靶滑動(dòng)部件，所述頂靶滑動(dòng)部件與安裝在所述頂靶機(jī)構(gòu)上的定位桿且可上下移動(dòng);頂靶第二連桿，所述頂靶第二連桿頂端與所述頂靶滑動(dòng)部件頂端鏈接，底端安裝所述頂靶接觸部件，中部與所述頂靶第一連桿中部鏈接;頂靶第三連桿，頂靶第四連桿，所述頂靶第三連桿的兩端分別與所述頂靶第一連桿的頂端和所述頂靶第四連桿的一端鏈接;所述頂靶第四連桿一端與所述頂靶滑動(dòng)部件的頂端及所述頂靶第二連桿的頂端共同鏈接。
[0030]本實(shí)用新型附加的方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本實(shí)用新型的實(shí)踐了解到。
【附圖說明】
[0031]本實(shí)用新型的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從下面結(jié)合附圖對實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中:
[0032]圖1用于解析離子源進(jìn)樣裝置的真空蓋板結(jié)構(gòu)整體示意圖；
[0033]圖2用于解析離子源進(jìn)樣裝置的真空蓋板結(jié)構(gòu)(隱藏蓋板)整體示意圖；
[0034]圖3用于解析離子源進(jìn)樣裝置的真空蓋板結(jié)構(gòu)(無中空部件且為頂靶機(jī)構(gòu)和舉靶機(jī)構(gòu)頂起和舉起靶槽平臺(tái)狀態(tài)時(shí))整體示意圖；
[0035]圖4頂靶機(jī)構(gòu)與舉靶機(jī)構(gòu)一體示意圖；
[0036]圖5X向平臺(tái)示意圖；
[0037]圖6Y向平臺(tái)示意圖；
[0038]圖7頂靶機(jī)構(gòu)示意圖；
[0039]圖8舉靶機(jī)構(gòu)示意圖；
[0040]圖9蓋板不意圖；
[0041 ] 圖中，100中空部件，200 X向平臺(tái)，201靶槽平臺(tái)，202第一擋塊203第二擋塊，204定位裝置，300 Y向平臺(tái)，400舉靶機(jī)構(gòu)，401舉靶平臺(tái)，402舉靶接觸部件，4021舉靶接觸前部，4022舉靶接觸后部，403定位桿，404托塊，405舉靶第一連桿，406舉靶第二連桿，500頂靶機(jī)構(gòu)，501頂靶部件，502頂靶接觸部件，503頂靶滑動(dòng)部件，504底座，505頂靶第一連桿，506頂靶第二連桿，507頂靶第三連桿，508頂靶第四連桿，600蓋板，601檢測孔，602樣品蓋板，603樣品放置孔，604凹槽，605凹槽真空聯(lián)通孔。
【具體實(shí)施方式】
[0042]下面詳細(xì)描述本實(shí)用新型的實(shí)施例，所述實(shí)施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，僅用于解釋本實(shí)用新型，而不能解釋為對本實(shí)用新型的限制。
[0043]在本實(shí)用新型的描述中，需要理解的是，術(shù)語“上”、“下”、“底”、“頂”、“前”、“后”、“內(nèi)”、“外”、“橫”、“豎”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本實(shí)用新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本實(shí)用新型的限制。
[0044]在本實(shí)用新型的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“聯(lián)接”、“連通”、“相連”、“連接”、“配合”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，一體地連接，也可以是可拆卸連接;可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通;可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連；“配合”可以是面與面的配合，也可以是點(diǎn)與面或線與面的配合，也包括孔軸的配合，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語在本實(shí)用新型中的具體含義。
[0045]本實(shí)用新型的實(shí)用新型構(gòu)思如下，如圖1-9所示，通過利用舉靶機(jī)構(gòu)400和頂靶機(jī)構(gòu)500運(yùn)動(dòng)使得具有凹槽604的蓋板600和靶槽平臺(tái)201以及靶槽形成一個(gè)動(dòng)態(tài)過渡低真空腔室，可以有效地使得樣品進(jìn)行一個(gè)動(dòng)態(tài)的樣品對于真空度的適應(yīng)過程，操作更加靈活和便捷。
[0046]根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例，如圖9所示，一種用于解析離子源進(jìn)樣裝置的真空蓋板結(jié)構(gòu)，包括蓋板600，樣品蓋板602，所述蓋板600包括檢測孔601，樣品放置孔603，所述樣品蓋板602活動(dòng)安裝在所述樣品放置孔603處且位于所述蓋板600的上表面;所述蓋板600的與所述樣品放置孔603對應(yīng)的下表面處有一凹槽604，所述凹槽604側(cè)壁上有貫通所述蓋板600內(nèi)部且向外開口在所述蓋板600的側(cè)壁上的凹槽真空聯(lián)通孔605。
[0047]本實(shí)用新型用于一種解析離子源進(jìn)樣裝置，該裝置包括內(nèi)部具有腔室的中空部件100，安裝在所述中空部件100內(nèi)部的Y向平臺(tái)300和安裝在所述Y向平臺(tái)300上的X向平臺(tái)200，放置在安裝在所述X向平臺(tái)200上的靶槽平臺(tái)201上的靶槽，安裝在所述中空部件100內(nèi)部且與所述X向平臺(tái)200正向相對的頂靶機(jī)構(gòu)500和舉靶機(jī)構(gòu)400，以及安裝在所述中空部件100頂部的蓋板600;所述蓋板600上設(shè)置有檢測孔601及所述樣品放置孔603，所述樣品放置孔603處設(shè)置有樣品蓋板602;所述X向平臺(tái)200具有固定安裝的第一擋塊202和第二擋塊203，所述頂靶機(jī)構(gòu)500具有與所述第一擋塊202動(dòng)態(tài)接觸的頂靶接觸部件502，所述舉靶機(jī)構(gòu)400具有與所述第二擋塊203動(dòng)態(tài)接觸的舉靶接觸部件402，所述舉靶接觸部件402具有舉靶接觸前部4021和舉靶接觸后部4022，所述第二擋塊203在進(jìn)靶過程中與所述舉靶接觸前部4021動(dòng)態(tài)接觸且在退靶過程中與所述舉靶接觸后部4022動(dòng)態(tài)接觸;所述舉靶機(jī)構(gòu)400具有舉靶平臺(tái)401，所述舉靶平臺(tái)401在進(jìn)靶過程中向上托舉所述靶槽平臺(tái)201且在退靶過程中向下放下所述靶槽平臺(tái)201及將靶槽放置在所述X向平臺(tái)200上的靶槽平臺(tái)201上;所述頂靶機(jī)構(gòu)500具有頂靶部件501，所述頂靶部件501在進(jìn)靶過程中向上頂起所述靶槽平臺(tái)201且在退靶過程中向下運(yùn)動(dòng)放松所述靶槽平臺(tái)201。
[0048]在操作過程中，在進(jìn)靶位時(shí)，X向平臺(tái)200和Y向平臺(tái)300推動(dòng)所述靶槽平臺(tái)401至預(yù)定位置過程中，所述第二擋塊203與所述舉靶接觸部件402的所述舉靶接觸前部4021接觸，推動(dòng)所述舉革G機(jī)構(gòu)400中的所述舉革El平臺(tái)401向上托起所述革El槽平臺(tái)401，當(dāng)X向平臺(tái)200和Y向平臺(tái)300繼續(xù)運(yùn)動(dòng)時(shí)，進(jìn)一步使得所述第一擋塊202與所述頂靶接觸部件502接觸，使得所述頂革G機(jī)構(gòu)500的所述頂革El部件501向上頂起所述革El槽平臺(tái)201，以使所述革El槽平臺(tái)201向上和所述蓋板600緊密接觸，此時(shí)將樣品放入所述靶槽平臺(tái)201中的靶槽中，關(guān)閉所述樣品蓋板602，此時(shí)，所述靶槽平臺(tái)201與所述蓋板600以及所述樣品蓋板602形成第一密封腔室，其具有相應(yīng)的抽真空通孔605，如此，可以對此腔室進(jìn)行低真空處理，而整個(gè)腔室中也同步進(jìn)行高真空處理，如圖1-3所示;待達(dá)到預(yù)定要求后，進(jìn)行退靶位時(shí)，X向平臺(tái)200和Y向平臺(tái)300向后運(yùn)動(dòng)，所述頂靶接觸部件502具有回彈力，因此會(huì)頂住所述第一擋塊202—同運(yùn)動(dòng)，所述頂靶部件501下落，所述靶槽平臺(tái)201隨著下落至所述舉靶平臺(tái)401上，所述第二擋塊203隨之后退并與所述舉靶接觸前部4021脫離進(jìn)而帶動(dòng)所述舉靶接觸后部4022，使得所述舉靶平臺(tái)401帶動(dòng)所述革El槽平臺(tái)201運(yùn)動(dòng)至所述X向平臺(tái)200的所述革El槽平臺(tái)上201，之后，X向平臺(tái)200和Y向平臺(tái)300運(yùn)動(dòng)至所述蓋板600上的所述檢測孔601位置，由此可以進(jìn)行解析處理。
[0049]另外，根據(jù)本實(shí)用新型公開的用于解析離子源進(jìn)樣裝置的真空蓋板結(jié)構(gòu)還具有如下附加技術(shù)特征:
[0050]根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述真空蓋板結(jié)構(gòu)還包括靶槽平臺(tái)201，所述靶槽平臺(tái)201活動(dòng)與所述凹槽604形成封閉腔室，所述靶槽平臺(tái)201的形狀與所述凹槽604形狀一致，以保證兩者結(jié)合緊密，在密封部件的配合下達(dá)到密封效果，如圖2、9所示。
[0051]根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述樣品蓋板602與所述蓋板600通過聯(lián)接部件聯(lián)接，如圖2、9所示。
[0052 ]更進(jìn)一步地，所述聯(lián)接部件為開合合頁，如圖2、9所示。
[0053]根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述樣品蓋板602和所述蓋板600具有密封結(jié)構(gòu)。
[0054]更進(jìn)一步地，所述密封結(jié)構(gòu)中有密封部件。
[0055]更進(jìn)一步地，所述密封部件為O型圈或X型圈或方形圈。
[0056]更進(jìn)一步地，所述密封部件為橡膠件。
[0057]為了進(jìn)一步說明本實(shí)用新型在該裝置的作用，做了進(jìn)一步的描述:
[0058]同時(shí)，所述第一擋塊202為一個(gè)，所述第二擋塊203為兩個(gè)且位于第一擋塊202的兩偵U，所述頂靶接觸部件502為一個(gè)且在進(jìn)靶過程和退靶過程中與所述第一擋塊202動(dòng)態(tài)接觸，所述舉靶接觸部件402為兩個(gè)且與所述第二擋塊203——對應(yīng)并動(dòng)態(tài)接觸，如圖4、5、7、8所示。
[0059]此處的動(dòng)態(tài)接觸指的是非固定接觸，其可隨著相互之間的運(yùn)動(dòng)或處于不同的狀態(tài)位時(shí)，處于接觸或非接觸狀態(tài)。
[0060]同時(shí)，所述蓋板600具有凹槽604，所述凹槽604與所述靶槽平臺(tái)201動(dòng)態(tài)接觸且與所述樣品蓋板602形成密封腔室，所述凹槽604中有聯(lián)通真空設(shè)備的凹槽真空聯(lián)通孔605，如圖9所示。
[0061]在所述凹槽604中存在所述凹槽真空聯(lián)通孔605，可以使得低真空處理更加方便。
[0062]同時(shí)，所述舉靶機(jī)構(gòu)400還具有托塊404，所述頂靶機(jī)構(gòu)500安裝在所述托塊404上，如圖4、7、8所示。
[0063]同時(shí)，所述舉靶機(jī)構(gòu)400具有定位桿403，安裝在所述頂靶機(jī)構(gòu)500的頂靶滑動(dòng)部件503安裝在所述定位桿403上且可上下運(yùn)動(dòng)，如圖4、8所示。
[0064]同時(shí)，所述舉靶接觸部件402具有軸承的可轉(zhuǎn)動(dòng)部件，所述舉靶接觸部件402為滾柱結(jié)構(gòu)，如圖8所示。
[0065]同時(shí)，所述頂靶部件500具有軸承的可轉(zhuǎn)動(dòng)部件，所述頂靶接觸部件502為滾柱結(jié)構(gòu)，如圖7所示，滾動(dòng)運(yùn)動(dòng)可以更加使得整體運(yùn)動(dòng)順滑，所述滾柱結(jié)構(gòu)的外表面使用彈性體作為接觸部位，如此可以使得運(yùn)動(dòng)更加具有緩沖性。
[0066]同時(shí)，所述靶槽平臺(tái)201上具有定位裝置204，所述定位裝置204為三個(gè)定位柱，如圖5所示。
[0067]同時(shí)，所述X向平臺(tái)200或所述Y向平臺(tái)300包括動(dòng)力源和絲杠結(jié)構(gòu)以及線性滑軌滑塊，所述動(dòng)力源為電機(jī)。
[0068]同時(shí)，所述進(jìn)樣裝置還包括真空系統(tǒng)，所述凹槽604中有聯(lián)通真空設(shè)備的凹槽真空聯(lián)通孔605，所述真空系統(tǒng)包括分子栗和機(jī)械栗，所述分子栗與所述腔室相聯(lián)，所述機(jī)械栗與所述分子栗相聯(lián)且與所述凹槽真空聯(lián)通孔605相聯(lián)。
[0069]同時(shí)，所述舉靶機(jī)構(gòu)400中的所述舉靶平臺(tái)401與舉靶第一連桿405上端轉(zhuǎn)動(dòng)相聯(lián)，所述舉靶第一連桿405下端與所述托塊404轉(zhuǎn)動(dòng)鏈接，且通過舉靶第二連桿406與所述舉靶接觸部件402位于所述舉靶接觸前部4021和所述舉靶接觸后部4022與所述舉靶接觸部件402和位于所述舉靶機(jī)構(gòu)400下部的托塊404的轉(zhuǎn)動(dòng)鏈接處之間且形成四連桿結(jié)構(gòu)，如圖8所不O
[0070]同時(shí)，所述頂靶機(jī)構(gòu)500還包括底座504，所述底座504和所述舉靶機(jī)構(gòu)500固定聯(lián)接;頂靶第一連桿506，所述頂靶第一連桿506下端與所述底座504相聯(lián);頂靶滑動(dòng)部件503，所述頂靶滑動(dòng)部件503與安裝在所述頂靶機(jī)構(gòu)500上的定位桿403且可上下移動(dòng);頂靶第二連桿506，所述頂靶第二連桿506頂端與所述頂靶滑動(dòng)部件503頂端鏈接，底端安裝所述頂靶接觸部件502，中部與所述頂靶第一連桿505中部鏈接；頂靶第三連桿507，頂靶第四連桿508，所述頂靶第三連桿507的兩端分別與所述頂靶第一連桿505的頂端和所述頂靶第四連桿508的一端鏈接;所述頂靶第四連桿508—端與所述頂靶滑動(dòng)部件503的頂端及所述頂靶第二連桿506的頂端共同鏈接。
[0071 ]任何提及“一個(gè)實(shí)施例”、“實(shí)施例”、“示意性實(shí)施例”等意指結(jié)合該實(shí)施例描述的具體構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點(diǎn)包含于本實(shí)用新型的至少一個(gè)實(shí)施例中。在本說明書各處的該示意性表述不一定指的是相同的實(shí)施例。而且，當(dāng)結(jié)合任何實(shí)施例描述具體構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點(diǎn)時(shí)，所主張的是，結(jié)合其他的實(shí)施例實(shí)現(xiàn)這樣的構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點(diǎn)均落在本領(lǐng)域技術(shù)人員的范圍之內(nèi)。
[0072]盡管參照本實(shí)用新型的多個(gè)示意性實(shí)施例對本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行了詳細(xì)的描述，但是必須理解，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以設(shè)計(jì)出多種其他的改進(jìn)和實(shí)施例，這些改進(jìn)和實(shí)施例將落在本實(shí)用新型原理的精神和范圍之內(nèi)。具體而言，在前述公開、附圖以及權(quán)利要求的范圍之內(nèi)，可以在零部件和/或者從屬組合布局的布置方面作出合理的變型和改進(jìn)，而不會(huì)脫離本實(shí)用新型的精神。除了零部件和/或布局方面的變型和改進(jìn)，其范圍由所附權(quán)利要求及其等同物限定。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于解析離子源進(jìn)樣裝置的真空蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括蓋板，樣品蓋板； 所述蓋板包括檢測孔，樣品放置孔，所述樣品蓋板活動(dòng)安裝在所述樣品放置孔處且位于所述蓋板的上表面； 所述蓋板與所述樣品放置孔對應(yīng)的下表面處有一凹槽，所述凹槽側(cè)壁上有貫通所述蓋板內(nèi)部且向外開口在所述蓋板的側(cè)壁上的凹槽真空聯(lián)通孔。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于解析離子源進(jìn)樣裝置的真空蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述真空蓋板結(jié)構(gòu)還包括靶槽平臺(tái)，所述靶槽平臺(tái)活動(dòng)與所述凹槽形成封閉腔室。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于解析離子源進(jìn)樣裝置的真空蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述樣品蓋板與所述蓋板通過聯(lián)接部件聯(lián)接。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于解析離子源進(jìn)樣裝置的真空蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述聯(lián)接部件為開合合頁。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于解析離子源進(jìn)樣裝置的真空蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述樣品蓋板和所述蓋板具有密封結(jié)構(gòu)。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于解析離子源進(jìn)樣裝置的真空蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述密封結(jié)構(gòu)中有密封部件。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于解析離子源進(jìn)樣裝置的真空蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述密封部件為O型圈或X型圈或方形圈。8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于解析離子源進(jìn)樣裝置的真空蓋板結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述密封部件為橡膠件。
【文檔編號】H01J49/04GK205692798SQ201620556869
【公開日】2016年11月16日
【申請日】2016年6月12日 公開號201620556869.9, CN 201620556869, CN 205692798 U, CN 205692798U, CN-U-205692798, CN201620556869, CN201620556869.9, CN205692798 U, CN205692798U
【發(fā)明人】劉召貴, 徐鵬登, 周立
【申請人】江蘇天瑞儀器股份有限公司