信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法及磁盤的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及信息記錄介質(zhì)用玻璃基板及其制造方法、以及磁盤。本發(fā)明的目的在于提供更平滑的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法及磁盤的制造方法，制造信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的方法中包括使用含有膠態(tài)二氧化硅的漿料進(jìn)行拋光的工序。本發(fā)明涉及一種信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，依次包括使用含鈰拋光劑對玻璃進(jìn)行拋光的工序、使用加熱后的含有硫酸和過氧化氫水溶液的清洗液對玻璃進(jìn)行清洗的清洗工序以及使用含有膠態(tài)二氧化硅的漿料對玻璃主表面進(jìn)行拋光的工序，所述制造方法的特征在于，該漿料中含有直鏈飽和二元羧酸。
【專利說明】信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法及磁盤的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及信息記錄介質(zhì)用玻璃基板及磁盤的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在近年來的磁盤高容量化的趨勢中，作為有關(guān)玻璃基板的技術(shù)課題，有提高表面平滑性和減少玻璃表面的附著物的技術(shù)課題。涉及減少玻璃表面附著物的技術(shù)課題如下所述。即，作為殘留在玻璃基板上的異物，已知基于拋光速率高等理由適合用于玻璃拋光的氧化鈰磨粒會(huì)作為異物而殘留。
[0003]專利文獻(xiàn)I中公開了對包含鋁硅酸鹽玻璃的玻璃圓板經(jīng)由使用含有氧化鈰磨粒的漿料的拋光工序制造信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的方法，其中，接續(xù)在氧化鈰拋光工序后使用硫酸濃度為20質(zhì)量％以上且80質(zhì)量％以下、過氧化氫濃度為I質(zhì)量％以上且10質(zhì)量％以下的清洗液在50°C以上且100°C以下的液溫下對玻璃圓板進(jìn)行清洗。
[0004]另外，公開了如下內(nèi)容:作為最終拋光工序，典型地，使用調(diào)節(jié)成酸性的含有膠態(tài)二氧化硅的漿料(以下也稱為膠態(tài)二氧化硅漿料)進(jìn)行拋光，然后，為了減少膠態(tài)二氧化硅殘?jiān)褂脡A性水溶液(或堿性清洗液)進(jìn)行玻璃的清洗。
[0005]作為涉及提高表面平滑性的技術(shù)課題的解決手段，提出了下述玻璃基板用拋光液組合物，其含有一次粒子的平均粒徑為5?50nm的膠態(tài)二氧化硅和重量平均分子量為1000?5000的丙烯酸/磺酸共聚物且pH為0.5?5 (參考專利文獻(xiàn)2)。
[0006]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0007]專利文獻(xiàn)
[0008]專利文獻(xiàn)1:日本特開2011-18398號(hào)公報(bào)(權(quán)利要求書)
[0009]專利文獻(xiàn)2:日本特開2007-191696號(hào)公報(bào)(權(quán)利要求書)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0010]發(fā)明所要解決的問題
[0011]本發(fā)明人對上述添加有丙烯酸/磺酸共聚物的膠態(tài)二氧化硅漿料帶來的平滑性的改善效果進(jìn)行了驗(yàn)證，結(jié)果觀察到稍有改善。另一方面，該添加有丙烯酸/磺酸共聚物的膠態(tài)二氧化硅漿料的潤滑性提高，因此還可知拋光速率降低(記載在后述的[實(shí)施例1] 一項(xiàng)中)。由此認(rèn)為，添加有丙烯酸/磺酸共聚物的膠態(tài)二氧化硅漿料通過使拋光速率降低而使平滑性得到改善。
[0012]本發(fā)明鑒于上述問題而完成，其目的在于提供在不使拋光速率降低的情況下得到更平滑的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法和磁盤的制造方法，制造信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的方法中包括使用含有膠態(tài)二氧化硅的漿料對玻璃圓板進(jìn)行拋光的工序。
[0013]用于解決問題的手段
[0014]本發(fā)明人著眼于酸的螯合能力作為決定使用調(diào)節(jié)成酸性的膠態(tài)二氧化硅漿料對含有較多Al2O3的鋁硅酸鹽玻璃進(jìn)行拋光時(shí)的拋光速率和拋光面的因素，考察了將膠態(tài)二氧化硅漿料調(diào)節(jié)成酸性時(shí)的酸的種類，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，拋光面的粗糙方式因酸的種類而異。
[0015]對上述表面粗糙的原因進(jìn)行了考查，結(jié)果確認(rèn)，通過使用含有直鏈飽和二元羧酸的膠態(tài)二氧化硅漿料，不易使拋光面粗糙。直鏈飽和二元羧酸在末端具有羧酸且為直鏈，由此使螯合能力比支鏈狀或環(huán)狀的酸小，因此認(rèn)為，即使含有在膠態(tài)二氧化硅漿料中也不易使拋光面粗糙。由此發(fā)現(xiàn)，通過使用直鏈飽和二元羧酸作為膠態(tài)二氧化硅漿料的酸調(diào)節(jié)劑，在不使拋光速率降低的情況下改善平滑性，從而完成了本發(fā)明。
[0016]S卩，本發(fā)明如下所述。
[0017]1.一種玻璃基板的制造方法，包括使用含有膠態(tài)二氧化硅的漿料對玻璃主表面進(jìn)行拋光的工序，其中，該漿料中含有直鏈飽和二元羧酸。
[0018]2.一種信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，依次包括使用含鈰拋光劑對玻璃進(jìn)行拋光的工序、使用加熱后的含有硫酸和過氧化氫水溶液的清洗液對玻璃進(jìn)行清洗的清洗工序以及使用含有膠態(tài)二氧化硅的漿料對玻璃主表面進(jìn)行拋光的工序，所述制造方法的特征在于，該漿料中含有直鏈飽和二元羧酸。
[0019]3.如上述第I項(xiàng)或第2項(xiàng)所述的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，其中，所述玻璃為不含堿金屬氧化物或者含有以總量計(jì)小于4摩爾％的堿金屬氧化物的低堿鋁硅酸鹽玻璃，且Al2O3的含量為10摩爾％以上。
[0020]4.如上述第I?3項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，其中，所述低堿鋁硅酸鹽玻璃以摩爾百分率表示含有62?74%的Si02、7?18%的Al203、2?15%的B203、以總量計(jì)為8?21%的Mg0、Ca0、Sr0和BaO中的任意一種以上的成分，上述7種成分的總含量為95%以上，并且含有以總量計(jì)小于4%的Li20、Na2O和K2O中的任意一種以上的成分或不含這3種成分中的任意一種成分。
[0021]5.如上述第I?3項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法,其中，所述低堿鋁硅酸鹽玻璃以摩爾百分率表示含有67?72%的SiO2Ul?14%的A1203、0以上且小于 2% 的 B2O3、4 ?9% 的 Mg0、4 ?6% 的 Ca0、l ?6% 的 SrO,O ~ 5% 的 BaO，MgO、CaO、SrO和BaO的總含量為14?18%，上述7種成分的總含量為95%以上，并且含有以總量計(jì)小于4%的Li20、Na2O和K2O中的任意一種以上的成分或不含這3種成分中的任意一種成分。
[0022]6.如上述第I?5項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法,其中，所述含有膠態(tài)二氧化硅的漿料的PH為3以上且5以下。
[0023]7.如上述第I?6項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，其中，所述含有膠態(tài)二氧化硅的漿料中含有的直鏈飽和二元羧酸的直鏈的碳原子數(shù)為2?7。
[0024]8.如上述第I?7項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，其中，所述直鏈飽和二元羧酸為選自由琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸和壬二酸組成的組中的至少一種。
[0025]9.如上述第I?8項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法,其中，所述使用含有膠態(tài)二氧化硅的漿料對玻璃主表面進(jìn)行拋光的工序?yàn)榫珤伖夤ば?，之后包括使用堿性水溶液的清洗工序。
[0026]10.如上述第I?9項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法,其中，所述膠態(tài)二氧化硅的平均粒徑為10?50nm。
[0027]11.一種信息記錄介質(zhì)用玻璃基板,其通過上述第I?10項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的制造方法得到。
[0028]12.如上述第11項(xiàng)所述的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板，其中，信息記錄介質(zhì)為磁盤。
[0029]13.一種磁盤，其特征在于，在通過上述第I?10項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的制造方法得到的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的主表面上具有磁記錄層。
[0030]使用調(diào)節(jié)成酸性的膠態(tài)二氧化硅漿料對含有堿金屬氧化物(以下有時(shí)僅稱為堿)的玻璃進(jìn)行拋光時(shí)，存在玻璃表面粗糙的問題。認(rèn)為該現(xiàn)象是如下產(chǎn)生的。即，如圖1(a)?(C)所示，使用調(diào)節(jié)成酸性的膠態(tài)二氧化硅漿料對含有堿金屬氧化物的玻璃[圖1 (a)]進(jìn)行拋光時(shí)，水合氫離子通過浸析與玻璃中的堿金屬離子交換[圖1(b)]，使用膠態(tài)二氧化硅對該玻璃表面的浸析層進(jìn)行拋光，由此使玻璃表面粗糙[圖1 (C)]。
[0031]認(rèn)為以上述方式使用調(diào)節(jié)成酸性的膠態(tài)二氧化硅漿料對含有堿金屬氧化物的玻璃進(jìn)行拋光時(shí)決定拋光面的平滑性的因素為玻璃的堿量和膠態(tài)二氧化硅的尺寸。與此相對，認(rèn)為決定拋光速率的因素除了玻璃的堿量和膠態(tài)二氧化硅的尺寸以外還有膠態(tài)二氧化硅漿料的pH。這是因?yàn)?，認(rèn)為發(fā)生適度的浸析現(xiàn)象時(shí)玻璃表面軟化而使拋光速率提高。從該觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選的pH為3?5。
[0032]認(rèn)為在使用調(diào)節(jié)成酸性的膠態(tài)二氧化硅漿料對含有較多Al2O3的玻璃、典型地是Al2O3含量為4摩爾％以上的玻璃進(jìn)行拋光的情況下，決定拋光面的平滑性的因素也是玻璃的Al2O3量和膠態(tài)二氧化硅的尺寸。另外，在玻璃含有堿的情況下，如前所述堿量也包括在決定拋光面的平滑性的因素中。
[0033]如圖2(a)?(C)所示，鋁硅酸鹽玻璃中的Al2O3量增多時(shí)，玻璃的耐酸性變差，如果膠態(tài)二氧化硅漿料中的酸為螯合作用大的酸，則會(huì)螯合鋁離子[圖2(b)]。通過使用膠態(tài)二氧化硅對該玻璃表面的浸析層進(jìn)行拋光，會(huì)使玻璃表面粗糙[圖2(c)]。因此，使用調(diào)節(jié)成酸性的膠態(tài)二氧化硅漿料進(jìn)行鋁硅酸鹽玻璃的最終拋光時(shí)，有時(shí)會(huì)使表面粗糙。另外，該圖表不的是玻璃含有堿的情況，但在玻璃不含堿或含有極少量、典型地為小于4摩爾％的堿的情況下也是同樣。
[0034]決定含有較多Al2O3的玻璃的拋光速率的因素為玻璃的Al2O3量、膠態(tài)二氧化硅的尺寸和膠態(tài)二氧化硅漿料的PH，在還含有堿的情況下，認(rèn)為堿量也包括在該因素中。
[0035]本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，作為決定使用調(diào)節(jié)成酸性的膠態(tài)二氧化硅漿料對含有較多Al2O3的鋁硅酸鹽玻璃進(jìn)行拋光時(shí)的拋光面的因素，除了前面說明過的因素以外，膠態(tài)二氧化硅漿料中的酸的螯合能力是特別重要的，從而完成了本發(fā)明。即，作為決定拋光面的因素，可以列舉玻璃的堿量或Al2O3量和膠態(tài)二氧化硅的尺寸，除了這些因素以外，酸的螯合能力是特別重要的，認(rèn)為這是因?yàn)?，通過螯合效應(yīng)將鋁離子取出，由此破壞了玻璃的網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)，從而產(chǎn)生玻璃表面的硬度降低和表面粗糙。
[0036]另外，如后述的實(shí)驗(yàn)例I的圖3所示，將玻璃浸潰到酸性水溶液中時(shí)，玻璃表面的硬度降低，因此認(rèn)為酸性水溶液對鋁硅酸鹽玻璃具有蝕刻性，可能會(huì)進(jìn)一步使表面粗糙。
[0037]發(fā)明效果
[0038]根據(jù)本發(fā)明，能夠在不降低拋光速率的情況下得到平滑性高的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板。另外，能夠得到能充分應(yīng)對今后要求的高記錄容量化的磁盤用玻璃基板。
【專利附圖】

【附圖說明】[0039]圖1(a)?(C)表示使用調(diào)節(jié)成酸性的膠態(tài)二氧化硅漿料對通用的含堿的玻璃進(jìn)行拋光時(shí)的玻璃表面的模式圖。
[0040]圖2 (a)?(C)表示使用調(diào)節(jié)成酸性的膠態(tài)二氧化硅漿料對含有較多Al2O3的鋁硅酸鹽玻璃進(jìn)行拋光時(shí)的玻璃表面的模式圖。
[0041]圖3表示將玻璃板浸潰到pH為2的HNO3水溶液或pH為11的NaOH水溶液中來考察表面位移(nm)與硬度(GPa)的相關(guān)性而得到的結(jié)果。
[0042]圖4 (a)?(h)表示將玻璃基板浸潰到含酸水溶液中后使用AFM測定I μ mX I μ m的Ra而得到的結(jié)果。
[0043]圖5(a)?(h)表示將玻璃基板浸潰到含酸水溶液中后再浸潰到含堿水溶液中、使用AFM測定I μ mX I μ m的Ra而得到的結(jié)果。
[0044]圖6(a)?(e)表示使用含酸的膠態(tài)二氧化硅漿料對玻璃基板進(jìn)行拋光后利用堿性清洗液進(jìn)行擦洗、測定Ra而得到的結(jié)果。
【具體實(shí)施方式】
[0045]本發(fā)明涉及一種玻璃基板的制造方法，包括使用含有膠態(tài)二氧化硅的漿料對玻璃主表面進(jìn)行拋光的工序，其中，該漿料中含有直鏈飽和二元羧酸。
[0046](玻璃板)
[0047]玻璃板的制造方法沒有特別限定，可以應(yīng)用各種方法。例如，將通常使用的各成分的原料進(jìn)行調(diào)配以達(dá)到目標(biāo)組成，將其在玻璃熔窯中加熱熔融。通過鼓泡、攪拌或添加澄清劑等使玻璃均質(zhì)化，利用公知的浮法、加壓法、熔融法或下拉法等方法成形為預(yù)定厚度的平板玻璃，退火后根據(jù)需要進(jìn)行磨削、拋光等加工，然后，制成預(yù)定尺寸、形狀的玻璃基板。作為成形法，特別優(yōu)選適合大量生產(chǎn)的浮法。另外，還優(yōu)選浮法以外的連續(xù)成形法，例如熔融法、下拉法。
[0048]本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板只要是用于信息記錄介質(zhì)的玻璃基板則沒有特別限定，典型地用于磁盤。以下以磁盤用玻璃基板為例進(jìn)行說明，但本發(fā)明不限定于該例。
[0049]首先，從包含玻璃的玻璃板上切下玻璃圓板。該玻璃典型地為鋁硅酸鹽玻璃，其Al2O3含量通常為4摩爾％以上。通常認(rèn)為Al2O3是玻璃的必要成分，其理由如下。S卩，為了改善磁盤在高速旋轉(zhuǎn)時(shí)的振動(dòng)特性或強(qiáng)度，需要使用考慮到楊氏模量、比模量、比重、熱膨脹系數(shù)、損傷難易度或斷裂韌性等各特性的、適當(dāng)玻璃組成的玻璃基板。為了達(dá)到這些機(jī)械特性，Al2O3是有效的成分。
[0050]作為高溫成膜等中使用的玻璃，優(yōu)選作為不含堿金屬氧化物或者含有以總量計(jì)小于4摩爾％的堿金屬氧化物的低堿鋁硅酸鹽玻璃、且Al2O3的含量為4摩爾％以上的玻璃。
[0051]如上所述，鋁硅酸鹽玻璃中的Al2O3的含量為4摩爾％以上時(shí)，玻璃的耐酸性變差，水合氫離子與玻璃中的堿離子交換，鋁離子被酸螯合，使用膠態(tài)二氧化硅拋光時(shí)，可能會(huì)使玻璃表面粗糙。本發(fā)明中，包括使用含有螯合能力小的直鏈飽和二元羧酸的膠態(tài)二氧化硅漿料對玻璃主表面進(jìn)行拋光的工序，由此，即使在玻璃中的Al2O3的含量為10摩爾％以上的情況下，也能夠防止拋光面粗糙。
[0052]作為玻璃，具體而言，可以列舉例如下述玻璃I?3。[0053](玻璃I)
[0054]以摩爾％ 表示，含有 55 ?75% 的 Si02、5 ?17% 的 A1203、0 ?27% 的 Li20+Na20+K20、O?20%的MgO+CaO+SrO+BaO、并且這些成分的含量的合計(jì)為90%以上的鋁硅酸鹽玻璃。
[0055](玻璃2)
[0056]以摩爾百分率表示，含有62?74%的Si02、7?18%的Al203、2?15%的B203、以總量計(jì)為8?21%的MgO、CaO、SrO和BaO中的任意一種以上的成分、上述7種成分的總含量為95%以上、并且含有以總量計(jì)小于4%的Li20、Na2O和K2O中的任意一種以上的成分或不含這3種成分中的任意一種成分的低堿招娃酸鹽玻璃。
[0057](玻璃3)
[0058]以摩爾百分率表示，含有67?72%的Si02、ll?14%的A1203、0以上且小于2%的B2O3、4 ?9% 的 MgO、4 ?6% 的 CaO、I ?6% 的 SrO,O ~ 5% 的 BaO、且 MgO、CaO、SrO 和 BaO 的總含量為14?18%、上述7種成分的總含量為95%以上、并且含有以總量計(jì)小于4%的Li20、Na2O和K2O中的任意一種以上的成分或不含這3種成分中的任意一種成分的低堿鋁硅酸鹽玻璃。
[0059]以下對各玻璃組成進(jìn)行說明。另外，以下中，將“摩爾％”僅表示為“％”。
[0060](玻璃I)
[0061]SiO2是形成玻璃的骨架的成分，是必要成分。SiO2少于55%時(shí)，比重增大，玻璃容易產(chǎn)生損傷，失透溫度升高而使玻璃變得不穩(wěn)定，或者耐酸性降低。SiO2的含量優(yōu)選為60%以上，更優(yōu)選為61%以上，特別優(yōu)選為62%以上，最優(yōu)選為63%以上，典型地為64%以上。
[0062]但是，SiO2超過75%時(shí)，楊氏模量降低，比模量降低，熱膨脹系數(shù)減小，或者粘度過高而使玻璃難以熔化。SiO2的含量優(yōu)選為71%以下，更優(yōu)選為70%以下，最優(yōu)選為68%以下。SiO2少于63摩爾％時(shí)，耐酸性容易降低。
[0063]Al2O3是形成玻璃的骨架、提高楊氏模量、比模量、斷裂韌性的成分，是必要成分。少于5%時(shí)，楊氏模量降低，比模量降低，并且斷裂韌性降低。Al2O3的含量優(yōu)選為6%以上，更優(yōu)選為7%以上，典型地為8%以上。但是，Al2O3超過17%時(shí)，熱膨脹系數(shù)減小，粘度過高而使玻璃難以熔化，或者耐酸性降低。Al2O3的含量優(yōu)選為15%以下，更優(yōu)選為14%以下。Al2O3超過12.5%時(shí)，耐酸性容易降低。
[0064]如上所述，SiO2少且Al2O3多的玻璃的耐酸性降低。因此，(SiO2-Al2O3)減小時(shí)，玻璃的耐酸性顯著降低。另一方面，為了提高楊氏模量、比模量或斷裂韌性等機(jī)械特性，Al2O3多是有效的，機(jī)械特性優(yōu)良的玻璃有耐酸性低的傾向。(SiO2-Al2O3)典型地為48?62%。
[0065]MgO、CaO、SrO和BaO均不是必要成分，但是是改善玻璃的熔化性、增大熱膨脹系數(shù)的成分，可以在這4種成分的含量的合計(jì)R’0低于20%的范圍內(nèi)含有。超過20%時(shí)，比重增大或玻璃容易損傷。優(yōu)選為10%以下，更優(yōu)選為8%以下，最優(yōu)選為6%以下，典型地為4%以下。
[0066]另外，為了提高楊氏模量、比模量、比重、熱膨脹系數(shù)、損傷難易度或斷裂韌性等機(jī)械特性，需要使Si02+Al203+R20+R’ O為90%以上。少于90%時(shí)，該效果減小。優(yōu)選為93%以上，更優(yōu)選為95%以上，最優(yōu)選為97%以上。
[0067]玻璃I本質(zhì)上包含上述成分，但可以在不損害本發(fā)明的目的的范圍內(nèi)含有其他成分。[0068]例如，TiO2, ZrO2, Y2O3> Nb2O5, Ta2O5和La2O3具有提高楊氏模量、比模量或斷裂韌性的效果。在含有它們中的任意一種以上的成分的情況下，優(yōu)選以總量計(jì)為7%以下?？偭砍^7%時(shí)，可能使比重增大或玻璃變得容易損傷，更優(yōu)選少于5%，特別優(yōu)選少于4%，最優(yōu)選少于3% ο
[0069]B2O3具有改善玻璃的熔化性、減小比重、并且使玻璃不易損傷的效果。含有B2O3的情況下，優(yōu)選為3%以下。B2O3超過3%時(shí)，可能使楊氏模量降低、比模量降低或通過揮散使玻璃的品質(zhì)降低。B2O3的含量更優(yōu)選為2%以下，特別優(yōu)選為1%以下，最優(yōu)選為0.5%以下。
[0070]SO3> Cl、As203、Sb203、SnO2和CeO2具有使玻璃澄清的效果。在含有這些成分中的任意一種成分的情況下，優(yōu)選以總量計(jì)為2%以下。
[0071](玻璃2)
[0072]SiO2為必要成分。SiO2少于62%時(shí)，玻璃容易損傷，優(yōu)選為65%以上，超過74%時(shí)，熔化性降低而難以制造玻璃，優(yōu)選為69%以下。
[0073]Al2O3為必要成分。Al2O3少于7%時(shí)，耐熱性不足，玻璃容易分相，在對基板進(jìn)行加工、清洗后可能無法維持平滑的表面，或者玻璃可能容易損傷，優(yōu)選為9%以上，超過18%時(shí)，熔化性降低而難以制造玻璃，或者耐硫酸性等耐酸性降低，優(yōu)選為12%以下。
[0074]另外，為了使玻璃更不容易損傷，優(yōu)選SiO2與Al2O3的含量的合計(jì)為70%以上，更優(yōu)選為72%以上。
[0075]B2O3具有改善玻璃的熔化性的效果，為必要成分。B2O3少于2%時(shí)，玻璃的熔化性降低，優(yōu)選為7%以上，超過15%時(shí)，玻璃容易分相，在對基板進(jìn)行加工、清洗后無法維持平滑的表面，或者耐硫酸性等耐酸性降低，優(yōu)選為12%以下。
[0076]MgO、CaO、SrO和BaO是改善玻璃的熔化性的成分，必須含有其中任意一種以上的成分。這些成分的含量的合計(jì)R’ O少于8%時(shí)，玻璃的熔化性降低而難以制造玻璃，優(yōu)選為10%以上。另一方面，R’ O超過21%時(shí)，玻璃容易損傷，優(yōu)選為16%以下。
[0077]優(yōu)選含有這4種成分中MgO和CaO中的至少任意一種。MgO和CaO的含量的合計(jì)MgO+CaO少于3%時(shí)，玻璃的熔化可能變得困難或玻璃可能容易損傷。MgO+CaO超過18%時(shí)，可能使失透溫度增高而難以成形。
[0078]另外，在含有這4種成分中的SrO和/或BaO的情況下，它們的含量的合計(jì)SrO+BaO優(yōu)選為6%以下。SrO+BaO超過6%時(shí)，使用含有硫酸的清洗液時(shí)，SrO和/或BaO與硫酸反應(yīng)而生成難溶性的硫酸鹽，從而可能助長表面粗糙。
[0079]玻璃2本質(zhì)上包含上述7種成分，但可以在不損害本發(fā)明的目的的范圍內(nèi)含有以總量計(jì)為5%以下的其他成分。上述7種成分以外的成分的含量的合計(jì)超過5%時(shí)，玻璃容易損傷。以下，對上述7種成分以外的成分進(jìn)行例示性說明。
[0080]ZnO是發(fā)揮與MgO、CaO、SrO, BaO同樣的效果的成分，可以在5%以下的范圍內(nèi)含有。這種情況下，ZnO的含量與R’ O的合計(jì)優(yōu)選為8?21%，更優(yōu)選為10?16%。
[0081]Li2O, Na2O和K2O使耐熱性降低，因此，這3種成分的含量的合計(jì)R2O設(shè)定為0%或少于4%。從該觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選R2O為0%，但即使在R2O不為0%的情況下，也優(yōu)選少于1%。
[0082]V等原子序號(hào)比Ti大的元素的氧化物可能使玻璃容易損傷，因此，在含有這些氧化物的情況下，優(yōu)選將它們的含量的合計(jì)設(shè)定為3%以下，更優(yōu)選為2%以下，特別優(yōu)選為1%以下，最優(yōu)選為0.3%以下。[0083]SO3> F、Cl, As2O3> Sb203、SnO2等是作為澄清劑的代表性成分，典型地為以總量計(jì)少
于1%。
[0084](玻璃3)
[0085]SiO2為必要成分。SiO2少于67%時(shí)，玻璃容易損傷，超過72%時(shí)，熔化性降低而難以制造玻璃。
[0086]Al2O3為必要成分。Al2O3少于11%時(shí)，玻璃容易分相，對基板進(jìn)行加工、清洗后可能無法維持平滑的表面，或者玻璃可能容易損傷，超過14%時(shí)，耐硫酸性等耐酸性降低，或者熔化性降低而難以制造玻璃。
[0087]B2O3不是必要成分，但具有改善玻璃的熔化性的效果，可以在少于2%的范圍內(nèi)含有。B2O3為2%以上時(shí)，耐硫酸性等耐酸性或耐熱性可能降低。
[0088]MgO、CaO和SrO是改善玻璃的熔化性的成分，是必要成分。MgO、CaO、SrO的各含量分別少于4%、少于4%、少于1%時(shí)，熔化性降低。Mg0、Ca0、Sr0的各含量分別超過9%、超過6%、超過6%時(shí)，玻璃容易損傷。
[0089]BaO不是必要成分，但具有改善玻璃的熔化性的效果，可以在5%以下的范圍內(nèi)含有。BaO超過5%時(shí)，玻璃容易損傷。
[0090]R’0少于14%時(shí)，玻璃的熔化性降低而難以制造玻璃。另一方面，R’0超過18%時(shí)，
玻璃容易損傷。
[0091]另外，在含有BaO的情況下，優(yōu)選SrO+BaO為6%以下。SrO+BaO超過6%時(shí)，使用含有硫酸的清洗液時(shí)，SrO和BaO與硫酸反應(yīng)而生成難溶性的硫酸鹽，從而可能助長表面粗糖。
[0092]玻璃3本質(zhì)上包含上述7種成分，但可以在不損害本發(fā)明的目的的范圍內(nèi)含有以總量計(jì)為5%以下的其他成分。上述7種成分以外的成分的含量的合計(jì)超過5%時(shí)，玻璃容易損傷。以下，對上述7種成分以外的成分進(jìn)行例示性說明。
[0093]ZnO是發(fā)揮與MgO、CaO、SrO, BaO同樣的效果的成分，可以在5%以下的范圍內(nèi)含有。這種情況下，ZnO的含量與R’ O的合計(jì)優(yōu)選為8?21%，更優(yōu)選為10?16%。
[0094]Li2O, Na2O和K2O使退火點(diǎn)降低，因此，這3種成分的含量的合計(jì)R2O設(shè)定為0%或少于4%。從該觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選R2O為0%，但即使在R2O不為0%的情況下，也優(yōu)選少于1%。
[0095]V等原子序號(hào)比Ti大的元素的氧化物可能使玻璃容易損傷，因此，在含有這些氧化物的情況下，優(yōu)選將它們的含量的合計(jì)設(shè)定為3%以下，更優(yōu)選為2%以下，特別優(yōu)選為1%以下，最優(yōu)選為0.3%以下。
[0096]SO3> F、Cl、As203、Sb203、SnO2等是作為澄清劑的代表性成分，典型地為以總量計(jì)少
于1%。
[0097]玻璃板的比重優(yōu)選為2.60以下。超過2.60時(shí)，可能在磁盤驅(qū)動(dòng)器旋轉(zhuǎn)時(shí)施加電動(dòng)機(jī)負(fù)荷而使消耗功率增大或者使驅(qū)動(dòng)器旋轉(zhuǎn)變得不穩(wěn)定。優(yōu)選為2.55以下，更優(yōu)選為2.53以下，最優(yōu)選為2.52以下。
[0098]另外，玻璃板的-50?+70°C范圍內(nèi)的熱膨脹系數(shù)(平均線性膨脹系數(shù))優(yōu)選為60 X IO-V0C以上。小于60X 10_V°C時(shí)，與金屬制的驅(qū)動(dòng)器等其他構(gòu)件的熱膨脹系數(shù)之差增大，可能容易因溫度變動(dòng)時(shí)產(chǎn)生應(yīng)力而引起基板的破裂等。優(yōu)選為62X10_V°C以上，更優(yōu)選為65X1(TV°C以上，最優(yōu)選為70X1(TV°C以上。[0099]此外，玻璃板的楊氏模量優(yōu)選為80GPa以上，比模量優(yōu)選為32MNm/kg以上。楊氏模量小于80GPa或比模量小于32MNm/kg時(shí),在驅(qū)動(dòng)器旋轉(zhuǎn)中容易產(chǎn)生翅曲或彎曲,可能難以得到高記錄密度的信息記錄介質(zhì)。更優(yōu)選楊氏模量為81GPa以上且比模量為32.5MNm/kg以上。
[0100]包含上述典型例的玻璃的玻璃板容易成為楊氏模量、比模量、比重、熱膨脹系數(shù)、損傷難易度或斷裂韌性等各特性優(yōu)良的玻璃板。
[0101]典型地，本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法優(yōu)選包括:對玻璃圓板進(jìn)行研磨的研磨工序、使用氧化鈰磨粒對玻璃圓板進(jìn)行拋光的氧化鈰拋光工序、使用加熱后的含有硫酸和過氧化氫水溶液的清洗液對玻璃圓板進(jìn)行清洗的清洗工序、然后使用膠態(tài)二氧化硅漿料對玻璃圓板進(jìn)行拋光的二氧化硅拋光工序。
[0102](研磨工序)
[0103]本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法可以包括研磨工序。研磨工序中，在玻璃圓板的中央開出圓孔，并依此進(jìn)行倒角、主表面研磨、端面鏡面拋光。另外，將主表面研磨工序分為粗研磨工序和精研磨工序，可以在它們之間設(shè)置形狀加工工序(圓形玻璃板中央的開孔、倒角、端面拋光)。
[0104]另外，端面鏡面拋光中，可以將玻璃圓板層疊后對內(nèi)周端面進(jìn)行使用氧化鈰磨粒的刷式拋光并進(jìn)行蝕刻處理，也可以代替內(nèi)周端面的刷式拋光，通過噴霧法等在該蝕刻處理后的內(nèi)周端面上涂布例如含有聚硅氮烷化合物的溶液并進(jìn)行煅燒，從而在內(nèi)周端面上形成覆膜(保護(hù)覆膜)。
[0105]主表面研磨通常使用平均粒徑為6?8 μ m的氧化鋁磨粒或氧化鋁質(zhì)的磨粒進(jìn)行。研磨后的主表面通常被拋光20?40 μ m。另外，研磨可以使用在樹脂中埋入有金剛石磨粒的墊進(jìn)行利用固定磨粒的研磨。
[0106]這些加工中，在制造中央不具有圓孔的玻璃基板的情況下，當(dāng)然不需要進(jìn)行玻璃圓板中央的開孔和內(nèi)周端面的鏡面拋光。
[0107](氧化鈰拋光工序)
[0108]然后，使用含有氧化鈰磨粒的漿料對玻璃圓板的主表面進(jìn)行拋光。該主表面拋光工序使用氨基甲酸酯制拋光墊或仿麂皮墊進(jìn)行，例如，拋光至使用三維表面結(jié)構(gòu)分析裝置[例如ADE公司制造的Opt1-flat (商品名)]在波長范圍為λ < 5mm的條件下測定的起伏(Wa)為Inm以下。另外，由拋光引起的板厚的減少量(拋光量)典型地為5?15 μ m。
[0109]主表面拋光工序可以通過一次拋光進(jìn)行，也可以使用尺寸不同的氧化鈰磨粒進(jìn)行兩次以上的拋光。另外，氧化鈰磨?？梢詾楣难趸嬆チ?，通常除了氧化鈰以外還包含鑭等稀土金屬氧化物或氟等。
[0110]另外，本發(fā)明中的氧化鈰拋光工序包括以除去研磨工序中產(chǎn)生的損傷為目的的氧化鈰主表面拋光工序，但不限于此，如果在研磨工序后利用氧化鈰進(jìn)行端面鏡面拋光，則也將其包括在內(nèi)。
[0111](清洗工序)
[0112]接著，進(jìn)行玻璃圓板的清洗。該清洗工序中，進(jìn)行利用純水的浸潰工序，接著，進(jìn)行將其浸潰到硫酸與過氧化氫水溶液混合并加熱而得到的清洗液中的工序，最后進(jìn)行用純水沖洗的工序。另外，在該清洗工序之前，可以進(jìn)行使用酸性清洗劑或堿性清洗劑的預(yù)清洗工序。另外，利用純水的浸潰工序或沖洗工序中，可以并用超聲波清洗或進(jìn)行利用流水或噴淋水的清洗。
[0113]本發(fā)明的制造方法中，使用含鈰拋光劑對玻璃進(jìn)行拋光，使用加熱后的含有硫酸和過氧化氫水溶液的清洗液對玻璃進(jìn)行清洗而抑制含鈰拋光劑的殘留，然后，使用含有膠態(tài)二氧化硅的漿料對玻璃主表面進(jìn)行拋光，由此，能夠得到主表面上表面粗糙少的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板。
[0114]優(yōu)選清洗液中的硫酸濃度為20質(zhì)量％以上且80質(zhì)量％以下、過氧化氫濃度為I質(zhì)量％以上且10質(zhì)量％以下,更優(yōu)選硫酸濃度為50質(zhì)量％以上且80質(zhì)量％以下、過氧化氫濃度為3質(zhì)量％以上且10質(zhì)量％以下。通過使硫酸和過氧化氫的濃度為該下限以上，能夠防止氧化鈰磨粒不熔化而殘留。通過使硫酸和過氧化氫的濃度為該上限以下，能夠防止因上述鋁硅酸鹽玻璃的浸析而使表面粗糙變得顯著，即使進(jìn)行后述的精拋光也能夠容易得到目標(biāo)平坦性，并且能夠防止廣泛使用的樹脂制玻璃夾具發(fā)生氧化或分解，因此優(yōu)選。
[0115]另外，基于同樣的理由，優(yōu)選清洗液的液溫為50°C以上且100°C以下。另外，優(yōu)選浸潰時(shí)間為5分鐘以上且30分鐘以下。詳細(xì)而言，更優(yōu)選在如下條件下浸潰:在50°C以上且低于60°C的清洗液中浸潰25分鐘以上且30分鐘以下，在60°C以上且低于70°C的清洗液中浸潰15分鐘以上且30分鐘以下，在70°C以上且100°C以下的清洗液中浸潰5分鐘以上且30分鐘以下。
[0116](精拋光工序)
[0117]上述清洗工序中，由于使用硫酸，有時(shí)會(huì)產(chǎn)生浸析斑，再次對玻璃圓板的主表面進(jìn)行拋光而改善平坦性。另外，也有殘留在玻璃圓板的端面上的氧化鈰磨粒再次附著于主表面上的情況，該再次附著的磨粒也被除去。
[0118]精拋光工序中，通常使用含有膠態(tài)二氧化硅磨粒的漿料進(jìn)行最終拋光。精拋光工序中，通常使用含有平均粒徑為10?50nm的膠態(tài)二氧化硅磨粒的漿料進(jìn)行拋光。另外，可以在使用含有膠態(tài)二氧化硅磨粒的漿料的拋光之前或之后進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化。
[0119]利用含有膠態(tài)二氧化硅磨粒的漿料的拋光中，對于以水玻璃為原料的膠態(tài)二氧化硅而言，一般在中性范圍內(nèi)容易進(jìn)行凝膠化，因此，優(yōu)選在PH優(yōu)選I?6、更優(yōu)選2?5的條件下進(jìn)行。
[0120]作為用于調(diào)節(jié)成酸性的pH調(diào)節(jié)劑，使用至少一種以上的直鏈飽和二元羧酸。直鏈飽和二元羧酸的末端具有羧酸且為直鏈，由此使螯合能力比支鏈狀或環(huán)狀的酸小，因此即使含有在膠態(tài)二氧化硅漿料中也不易使拋光面粗糙，因此，能夠得到更平滑的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板。
[0121]作為直鏈飽和二元羧酸，優(yōu)選直鏈的碳原子數(shù)為7以下的直鏈飽和二元羧酸，更優(yōu)選直鏈的碳原子數(shù)為5以下的直鏈飽和二元羧酸。通過使碳原子數(shù)為7以下，使其易溶于水，因此優(yōu)選。另外，作為直鏈飽和二元羧酸，優(yōu)選直鏈的碳原子數(shù)為2以上的直鏈飽和二元羧酸。作為直鏈飽和二元羧酸，可以列舉例如琥珀酸(直鏈的碳原子數(shù)為2)、戊二酸(直鏈的碳原子數(shù)為3)、己二酸(直鏈的碳原子數(shù)為4)、庚二酸(直鏈的碳原子數(shù)為5)、辛二酸(直鏈的碳原子數(shù)為6)、壬二酸(直鏈的碳原子數(shù)為7)。這些酸可以單獨(dú)使用，也可以將多種進(jìn)行組合。這些酸的PKal為3.9?4.5，在將pH調(diào)節(jié)至3?5的情況下，能夠使?jié){料具有緩沖效果，作為PH范圍是優(yōu)選的。[0122]作為上述直鏈飽和二元羧酸以外的pH調(diào)節(jié)劑，如果是酸則優(yōu)選無機(jī)酸。作為無機(jī)酸，優(yōu)選鹽酸、硝酸或硫酸。特別優(yōu)選硝酸。硫酸與玻璃成分中使用的鍶或鈣結(jié)合而形成難溶于水的鹽，因此不優(yōu)選。另外，在鹽酸的情況下，有時(shí)電子器件怕氯，因此不優(yōu)選。
[0123]關(guān)于pH調(diào)節(jié)如下進(jìn)行。在pH為4以上的情況下，對于直鏈的碳原子數(shù)4以下的直鏈飽和二元羧酸而言，僅使用該酸就能夠進(jìn)行PH調(diào)節(jié)。對于直鏈的碳原子數(shù)5以上的直鏈飽和二元羧酸而言，如果pH為4以上,則僅使用該酸就能夠進(jìn)行pH調(diào)節(jié),但如果pH小于4，則優(yōu)選與硝酸組合來進(jìn)行pH調(diào)節(jié)。這種情況下，優(yōu)選相對于漿料加入I重量％以上的直鏈型飽和二元羧酸。這是為了具有作為緩沖液的功能所需要的。
[0124]拋光工具優(yōu)選為仿麂皮墊。優(yōu)選該仿麂皮墊具有發(fā)泡樹脂層，其肖氏A硬度為
20。以上且75。以下，密度為0.2~0.9g/cm3。
[0125]在精拋光工序之后，為了將膠態(tài)二氧化硅磨粒除去而進(jìn)行清洗。該清洗工序中，優(yōu)選使用堿性水溶液進(jìn)行清洗，并優(yōu)選進(jìn)行至少I次利用PH為10以上的堿性清洗劑的清洗。這樣，作為最終拋光工序，使用調(diào)節(jié)成酸性的膠態(tài)二氧化硅漿料進(jìn)行拋光，然后，使用堿性清洗液進(jìn)行玻璃的清洗，由此能夠減少膠態(tài)二氧化硅殘?jiān)?br> [0126]即，調(diào)節(jié)成酸性的膠態(tài)二氧化硅漿料中的膠態(tài)二氧化硅表面的硅烷醇基幾乎未解離而呈鈍化的狀態(tài)，因此，拋光中不會(huì)與玻璃基板強(qiáng)固地附著，在以該狀態(tài)用堿性水溶液進(jìn)行清洗的情況下，玻璃基板和膠態(tài)二氧化硅的?電位均為負(fù)值，認(rèn)為通過電位上的互斥使膠態(tài)二氧化硅難以殘留 在玻璃基板上。
[0127]對于清洗方法而言，可以浸潰玻璃圓板并施加超聲波振動(dòng)，也可以使用擦洗。另外，可以將兩者組合。此外，優(yōu)選在清洗前后進(jìn)行利用純水的浸潰工序或沖洗工序。
[0128]在最終的沖洗工序后，將玻璃圓板干燥，作為干燥方法，使用利用異丙醇蒸氣的干燥方法、旋轉(zhuǎn)干燥或真空干燥等。
[0129]通過上述一系列工序，得到高度平坦化的玻璃基板。對于在這種玻璃基板的主表面上形成磁記錄層而得到的磁盤而言，能夠進(jìn)行高密度記錄。
[0130]實(shí)施例
[0131]以下，對本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行具體說明，但本發(fā)明不限定于這些實(shí)施例。
[0132][實(shí)驗(yàn)例I]
[0133]將以摩爾％表示組成大致為 SiO2:64.5%、A1203: 12%,ZrO2:1.8%,Li2O:12.8%,Na2O:5.5%、K2O:3.4%的玻璃板浸潰在pH2的HNO3水溶液或pHll的NaOH水溶液中，考察表面位移(nm)與硬度(GPa)的相關(guān)性。將利用以下的測定條件測定得到的結(jié)果示于圖3中。
[0134]測定儀器:MTS公司 Nano Indenter G2000
[0135]測定壓頭:伯克維奇(Berkovich)壓頭
[0136]測定條件(參數(shù):條件)
[0137]允許試驗(yàn)開始的漂移值:0.600nm/s
[0138]最大壓入深度:200nm
[0139]連續(xù)剛性測定中使用的頻率:75Hz
[0140]連續(xù)剛性測定中使用的振幅值:lnm
[0141]應(yīng)變速度:0.051/s
[0142]測定次數(shù):對一個(gè)樣品進(jìn)行6個(gè)點(diǎn)的評(píng)價(jià)[0143]結(jié)果，如圖3所示，將玻璃浸潰在酸性水溶液中時(shí)，與將玻璃浸潰在堿性水溶液時(shí)相比，玻璃硬度降低。認(rèn)為這是因?yàn)?，玻璃表面的堿金屬成分因酸發(fā)生浸析而使玻璃表面軟化。另外可知，酸性水溶液對鋁硅酸鹽玻璃具有蝕刻性，可能會(huì)使表面進(jìn)一步粗糙。
[0144][實(shí)驗(yàn)例2]
[0145]從以摩爾％表示組成大致為 SiO2:64.5%、A1203: 12%,ZrO2:1.8%,Li2O:12.8%,Na2O:
5.5%,K2O:3.4%的玻璃板上切下50片外徑65mm、內(nèi)徑20mm、板厚0.635mm的環(huán)形玻璃圓板，
使用金剛石磨石對內(nèi)周面和外周面進(jìn)行磨削加工，使用氧化鋁磨粒對上下主表面實(shí)施第一磨削工序。
[0146]接著，對內(nèi)外周的端面進(jìn)行設(shè)置寬0.15mm、角度45°的倒角部的倒角加工。倒角加工后，使用含有粒徑為I?1.5μπιΦ的氧化鈰磨粒的漿料作為拋光材料，使用刷子作為拋光工具，通過刷式拋光對內(nèi)外周的端面進(jìn)行鏡面加工。拋光量以半徑方向的除去量計(jì)為30 μ m0
[0147]接著，對于第一磨削工序中磨削后的玻璃基板，使用第二固定磨粒工具和磨削液，利用雙面磨削裝置(浜井產(chǎn)業(yè)公司制造，產(chǎn)品名:16BF-4M5P)對玻璃基板的上下主平面進(jìn)行磨削(第二磨削工序)。作為第二固定磨粒工具，使用利用樹脂粘結(jié)劑粘結(jié)有平均粒徑為4μ m的金剛石磨粒的固定磨粒工具(3M公司制造,產(chǎn)品名:Trizact4ym AAl)。此時(shí)的拋光量為136 μ m。將磨削后的玻璃基板在浸潰于堿性洗劑溶液中的狀態(tài)下進(jìn)行超聲波清洗。
[0148]接著，使用含有平均粒徑0.8?I μ πιΦ的氧化鈰磨粒的漿料，使用仿麂皮墊作為拋光工具，利用雙面拋光裝置進(jìn)行上下主表面的拋光加工。拋光量在上下主表面的厚度方向上總計(jì)為25 μ m。玻璃圓板的主表面拋光后，作為預(yù)清洗，依次進(jìn)行利用純水的浸潰清洗、利用堿性清洗劑的超聲波清洗、利用純水的沖洗。
[0149]接著，以下述方式進(jìn)行清洗。將71.4%的硫酸、過氧化氫水溶液、7.7%的水溶液加熱至80°C,將玻璃放入其中進(jìn)行清洗。然后,用純水沖洗玻璃后,使用含有膠態(tài)二氧化硅磨粒的拋光漿料利用雙面磨削裝置(浜井產(chǎn)業(yè)公司制造，產(chǎn)品名:16BF-4M5P)對玻璃基板的上下主平面進(jìn)行拋光。拋光漿料使用相對于12.5L純水添加62.5g檸檬酸、充分?jǐn)嚢韬筇砑?.5L催化劑化成公司制造的膠態(tài)二氧化硅磨粒SI40并充分?jǐn)嚢瓒玫降膾伖鉂{料。此時(shí)的pH為4.0。關(guān)于拋光墊，使用肖氏A硬度為60°、密度為0.62g/cm3的仿麂皮墊。
[0150]然后,用純水進(jìn)行水洗后,實(shí)施利用堿性清洗液的超聲波清洗、利用堿性清洗液的擦洗、以及利用堿性清洗液的超聲波清洗，然后，用純水進(jìn)行沖洗，使用IPA干燥進(jìn)行干燥。使用AFM(SII f 7 f夕7 口 '7'—制造的SPA400)以I μ mX I μ m的范圍對該基板測定Ra，結(jié)果為 0.1llnnio
[0151][實(shí)驗(yàn)例3]
[0152]以下述方式進(jìn)行預(yù)測試驗(yàn)。將實(shí)驗(yàn)例2中得到的玻璃基板浸潰在下述水溶液中的同時(shí)進(jìn)行2小時(shí)超聲波照射。然后，使用AFM測定I μ mX I μ m的Ra。將其結(jié)果示于表I和圖4中。
[0153]表I
【權(quán)利要求】
1.一種信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，依次包括使用含鈰拋光劑對玻璃進(jìn)行拋光的工序、使用加熱后的含有硫酸和過氧化氫水溶液的清洗液對玻璃進(jìn)行清洗的清洗工序以及使用含有膠態(tài)二氧化硅的漿料對玻璃主表面進(jìn)行拋光的工序，所述制造方法的特征在于， 該漿料中含有直鏈飽和二元羧酸。
2.如權(quán)利要求1所述的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，其中，所述含有膠態(tài)二氧化硅的漿料的pH為3以上且5以下。
3.如權(quán)利要求1或2所述的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，其中，所述含有膠態(tài)二氧化硅的漿料中含有的直鏈飽和二元羧酸的直鏈的碳原子數(shù)為2?7。
4.如權(quán)利要求1?3中任一項(xiàng)所述的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，其中，所述直鏈飽和二元羧酸為選自由琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸和壬二酸組成的組中的至少一種。
5.如權(quán)利要求1?4中任一項(xiàng)所述的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，其中，所述使用含有膠態(tài)二氧化硅的漿料對玻璃主表面進(jìn)行拋光的工序?yàn)榫珤伖夤ば?，之后包括使用堿性水溶液的清洗工序。
6.如權(quán)利要求1?5中任一項(xiàng)所述的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，其中，所述膠態(tài)二氧化硅的平均粒徑為10?50nm。
7.一種信息記錄介質(zhì)用玻璃基板，其通過權(quán)利要求1?6中任一項(xiàng)所述的制造方法得到。
8.如權(quán)利要求7所述的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板，其中，信息記錄介質(zhì)為磁盤。
9.一種磁盤，其特征在于，在通過權(quán)利要求1?6中任一項(xiàng)所述的制造方法得到的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的主表面上具有磁記錄層。
【文檔編號(hào)】G11B5/73GK103680525SQ201310403706
【公開日】2014年3月26日 申請日期:2013年9月6日 優(yōu)先權(quán)日:2012年9月6日
【發(fā)明者】宮谷克明 申請人:旭硝子株式會(huì)社