本公開(kāi)實(shí)施例涉及蝕刻退錫設(shè)備控制的，更具體地，涉及一種控制蝕刻退錫設(shè)備處理物料的運(yùn)行系統(tǒng)、方法和控制器。

背景技術(shù)：

1、隨著科技的快速發(fā)展，線(xiàn)路板的應(yīng)用場(chǎng)景愈發(fā)增大，并且，線(xiàn)路板的生產(chǎn)趨于人工智能化。目前，為了能夠提升線(xiàn)路板的生產(chǎn)效率，通?？梢耘渲靡晃g刻退錫設(shè)備對(duì)線(xiàn)路板進(jìn)行蝕刻和退錫的處理。對(duì)于一些定制化電路板，可以先通過(guò)蝕刻設(shè)備對(duì)線(xiàn)路板噴灑蝕刻液，以完成線(xiàn)路板的蝕刻流程，再通過(guò)退錫設(shè)備對(duì)蝕刻完成的線(xiàn)路板噴灑退錫液，以完成線(xiàn)路板的退錫流程。但一些定制化或者異形的線(xiàn)路板本身的外形并不規(guī)則，使得這些線(xiàn)路板上需要蝕刻處理以及退錫處理的區(qū)域不同，進(jìn)而為了對(duì)這些線(xiàn)路板上的所有區(qū)域都進(jìn)行相應(yīng)處理，則需要蝕刻退錫設(shè)備加大噴灑的規(guī)?；蛘呒哟髧姙⒌膹?qiáng)度，這使得蝕刻退錫設(shè)備噴灑的蝕刻液和退錫液的需求較大，蝕刻退錫設(shè)備蝕刻退錫的效率較低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本公開(kāi)實(shí)施例的一個(gè)目的是提供一種控制蝕刻退錫設(shè)備處理物料的運(yùn)行的新的技術(shù)方案。

2、根據(jù)本公開(kāi)的第一方面，提供了一種控制蝕刻退錫設(shè)備處理物料的運(yùn)行系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括蝕刻退錫設(shè)備、控制器和圖像采集裝置，所述控制器分別與所述蝕刻退錫設(shè)備和所述圖像采集裝置通信連接，所述圖像采集裝置用于在物料進(jìn)入所述蝕刻退錫設(shè)備之前采集關(guān)于所述物料的圖像信息，所述蝕刻退錫設(shè)備配置蝕刻液管道和退錫液管道，所述蝕刻液管道用于對(duì)多個(gè)蝕刻區(qū)域噴灑蝕刻液，所述退錫液管道用于對(duì)多個(gè)退錫區(qū)域噴灑退錫液；

3、所述控制器被設(shè)置為：接收所述圖像采集裝置輸出的關(guān)于目標(biāo)物料的目標(biāo)圖像信息；通過(guò)預(yù)置的圖像庫(kù)，確定與所述目標(biāo)圖像信息中的目標(biāo)物料匹配的目標(biāo)物料模型；根據(jù)所述目標(biāo)物料模型的物料特征與所述目標(biāo)圖像信息中的目標(biāo)物料的對(duì)應(yīng)關(guān)系，確定所述目標(biāo)物料的位置信息；根據(jù)所述位置信息和所述物料特征，先控制所述蝕刻液管道對(duì)第一蝕刻區(qū)域噴灑蝕刻液，再控制所述退錫液管道對(duì)第一蝕刻區(qū)域噴灑退錫液。

4、可選地，所述系統(tǒng)還包括位姿調(diào)節(jié)裝置，所述位姿調(diào)節(jié)裝置與所述控制器通信連接，所述位姿調(diào)節(jié)裝置用于調(diào)整所述物料位姿以實(shí)現(xiàn)所述物料與所述物料的前進(jìn)方向平行；

5、所述控制器還被配置為：控制所述位姿調(diào)節(jié)裝置調(diào)整所述目標(biāo)物料位姿以實(shí)現(xiàn)所述目標(biāo)物料與所述物料的前進(jìn)方向平行；在接收到所述位姿調(diào)節(jié)裝置反饋的反作用力信號(hào)時(shí)，獲取所述位姿調(diào)節(jié)裝置的位置參數(shù)信息；根據(jù)所述位置參數(shù)信息，控制所述位姿調(diào)節(jié)裝置將所述目標(biāo)物料移動(dòng)至設(shè)定位置；其中，所述設(shè)定位置與所述蝕刻退錫設(shè)備的邊緣相關(guān)。

6、可選地，所述控制器還被設(shè)置為：根據(jù)所述位置信息所反映的所述目標(biāo)物料的橫向區(qū)間和縱向區(qū)間，確定多個(gè)蝕刻區(qū)域和多個(gè)退錫區(qū)域中所述目標(biāo)物料經(jīng)過(guò)的第二蝕刻區(qū)域和第二退錫區(qū)域；根據(jù)所述物料特征所反映的目標(biāo)物料在所述第二蝕刻區(qū)域和所述第二退錫區(qū)域的處理面積，從所述第二蝕刻區(qū)域和所述第二退錫區(qū)域中，篩選出第一蝕刻區(qū)域和第一退錫區(qū)域。

7、可選地，所述蝕刻液管道配置有多個(gè)蝕刻液閥門(mén)，所述蝕刻液閥門(mén)用于控制對(duì)應(yīng)的蝕刻區(qū)域噴灑蝕刻液；所述退錫液管道配置有多個(gè)退錫液閥門(mén)，所述退錫液閥門(mén)用于控制對(duì)應(yīng)的退錫區(qū)域噴灑退錫液；

8、所述控制器還被設(shè)置為：根據(jù)所述位置信息和所述物料特征，先控制第一蝕刻區(qū)域的蝕刻液閥門(mén)打開(kāi)，以實(shí)現(xiàn)控制所述第一蝕刻區(qū)域噴灑蝕刻液，再控制第一退錫區(qū)域的退錫液閥門(mén)打開(kāi)，以實(shí)現(xiàn)控制所述第一退錫區(qū)域噴灑退錫液。

9、根據(jù)本公開(kāi)的第二方面，還提供了一種控制蝕刻退錫設(shè)備處理物料的運(yùn)行方法，所述方法的執(zhí)行主體為第一方面所述的控制器，所述控制器分別與蝕刻退錫設(shè)備和圖像采集裝置通信連接，所述圖像采集裝置用于在物料進(jìn)入所述蝕刻退錫設(shè)備之前采集關(guān)于所述物料的圖像信息，所述蝕刻退錫設(shè)備配置蝕刻液管道和退錫液管道，所述蝕刻液管道用于對(duì)多個(gè)蝕刻區(qū)域噴灑蝕刻液，所述退錫液管道用于對(duì)多個(gè)退錫區(qū)域噴灑退錫液，所述方法包括：

10、接收所述圖像采集裝置輸出的關(guān)于目標(biāo)物料的目標(biāo)圖像信息；

11、通過(guò)預(yù)置的圖像庫(kù)，確定與所述目標(biāo)圖像信息中的目標(biāo)物料匹配的目標(biāo)物料模型；

12、根據(jù)所述目標(biāo)物料模型的物料特征與所述目標(biāo)圖像信息中的目標(biāo)物料的對(duì)應(yīng)關(guān)系，確定所述目標(biāo)物料的位置信息；

13、根據(jù)所述位置信息和所述物料特征，先控制所述蝕刻液管道對(duì)第一蝕刻區(qū)域噴灑蝕刻液，再控制所述退錫液管道對(duì)第一蝕刻區(qū)域噴灑退錫液。

14、可選地，所述系統(tǒng)還包括位姿調(diào)節(jié)裝置，所述位姿調(diào)節(jié)裝置與所述控制器通信連接，所述位姿調(diào)節(jié)裝置用于調(diào)整所述物料位姿以實(shí)現(xiàn)所述物料與所述物料的前進(jìn)方向平行；所述接收所述圖像采集裝置輸出的關(guān)于目標(biāo)物料的目標(biāo)圖像信息之前，所述方法還包括：

15、控制所述位姿調(diào)節(jié)裝置調(diào)整所述目標(biāo)物料位姿以實(shí)現(xiàn)所述目標(biāo)物料與所述物料的前進(jìn)方向平行；

16、在接收到所述位姿調(diào)節(jié)裝置反饋的反作用力信號(hào)時(shí)，獲取所述位姿調(diào)節(jié)裝置的位置參數(shù)信息；

17、根據(jù)所述位置參數(shù)信息，控制所述位姿調(diào)節(jié)裝置將所述目標(biāo)物料移動(dòng)至設(shè)定位置；其中，所述設(shè)定位置與所述蝕刻退錫設(shè)備的邊緣相關(guān)。

18、可選地，所述根據(jù)所述位置信息和所述物料特征，先控制所述蝕刻液管道對(duì)第一蝕刻區(qū)域噴灑蝕刻液，再控制所述退錫液管道對(duì)第一蝕刻區(qū)域噴灑退錫液，包括：

19、根據(jù)所述位置信息所反映的所述目標(biāo)物料的橫向區(qū)間和縱向區(qū)間，確定多個(gè)蝕刻區(qū)域和多個(gè)退錫區(qū)域中所述目標(biāo)物料經(jīng)過(guò)的第二蝕刻區(qū)域和第二退錫區(qū)域；

20、根據(jù)所述物料特征所反映的目標(biāo)物料在所述第二蝕刻區(qū)域和所述第二退錫區(qū)域的處理面積，從所述第二蝕刻區(qū)域和所述第二退錫區(qū)域中，篩選出第一蝕刻區(qū)域和第一退錫區(qū)域。

21、可選地，所述蝕刻液管道配置有多個(gè)蝕刻液閥門(mén)，所述蝕刻液閥門(mén)用于控制對(duì)應(yīng)的蝕刻區(qū)域噴灑蝕刻液；所述退錫液管道配置有多個(gè)退錫液閥門(mén)，所述退錫液閥門(mén)用于控制對(duì)應(yīng)的退錫區(qū)域噴灑退錫液；所述根據(jù)所述位置信息和所述物料特征，先控制所述蝕刻液管道對(duì)第一蝕刻區(qū)域噴灑蝕刻液，再控制所述退錫液管道對(duì)第一蝕刻區(qū)域噴灑退錫液，包括：

22、根據(jù)所述位置信息和所述物料特征，先控制第一蝕刻區(qū)域的蝕刻液閥門(mén)打開(kāi)，以實(shí)現(xiàn)控制所述第一蝕刻區(qū)域噴灑蝕刻液，再控制第一退錫區(qū)域的退錫液閥門(mén)打開(kāi)，以實(shí)現(xiàn)控制所述第一退錫區(qū)域噴灑退錫液。

23、可選地，所述通過(guò)預(yù)置的圖像庫(kù)，確定與所述目標(biāo)圖像信息中的目標(biāo)物料匹配的目標(biāo)物料模型，包括：

24、確定所述目標(biāo)圖像信息中符合第一設(shè)定形狀的第一區(qū)域以及所述第一區(qū)域的第一位置；

25、根據(jù)所述第一區(qū)域的數(shù)量及所述第一位置，從所述預(yù)置的圖像庫(kù)中，篩選出匹配的目標(biāo)物料模型；

26、在所述目標(biāo)物料模型關(guān)聯(lián)了正反面區(qū)別標(biāo)識(shí)的情況下，確定所述目標(biāo)圖像信息中符合第二設(shè)定形狀的第二區(qū)域以及所述第二區(qū)域的第二位置；

27、根據(jù)所述第二區(qū)域的數(shù)量及所述第二位置，確定所述目標(biāo)圖像信息中展示的目標(biāo)物料的第一面對(duì)應(yīng)于所述目標(biāo)物料模型的第二面。

28、根據(jù)本公開(kāi)的第三方面，還提供了一種控制蝕刻退錫設(shè)備處理物料的運(yùn)行裝置，所述裝置包括：

29、信息接收模塊，用于接收所述圖像采集裝置輸出的關(guān)于目標(biāo)物料的目標(biāo)圖像信息；

30、模型確定模塊，用于通過(guò)預(yù)置的圖像庫(kù)，確定與所述目標(biāo)圖像信息中的目標(biāo)物料匹配的目標(biāo)物料模型；

31、信息確定模塊，用于根據(jù)所述目標(biāo)物料模型的物料特征與所述目標(biāo)圖像信息中的目標(biāo)物料的對(duì)應(yīng)關(guān)系，確定所述目標(biāo)物料的位置信息；

32、管道控制模塊，用于根據(jù)所述位置信息和所述物料特征，先控制所述蝕刻液管道對(duì)第一蝕刻區(qū)域噴灑蝕刻液，再控制所述退錫液管道對(duì)第一蝕刻區(qū)域噴灑退錫液。

33、根據(jù)本公開(kāi)的第四方面，還提供了一種控制器，包括存儲(chǔ)器和處理器，所述存儲(chǔ)器用于存儲(chǔ)計(jì)算機(jī)程序；所述處理器用于執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序，以實(shí)現(xiàn)根據(jù)本公開(kāi)第二方面所述的方法。

34、根據(jù)本公開(kāi)的第五方面，還提供了一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，所述計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)上存儲(chǔ)計(jì)算機(jī)程序，所述計(jì)算機(jī)程序在被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)根據(jù)本公開(kāi)的第二方面所述的方法。

35、根據(jù)本公開(kāi)的第六方面，還提供了一種計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，包括計(jì)算機(jī)程序，所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)根據(jù)本公開(kāi)的第二方面所述的方法。

36、本公開(kāi)實(shí)施例的一個(gè)有益效果在于，本發(fā)明提供的控制蝕刻退錫設(shè)備處理物料的運(yùn)行系統(tǒng)的控制器能夠獲取關(guān)于目標(biāo)物料的目標(biāo)圖像信息，并從圖像庫(kù)中篩選出匹配的目標(biāo)物料模型。根據(jù)目標(biāo)物料的位置信息和物料特征，控制蝕刻液管道對(duì)第一蝕刻區(qū)域噴灑蝕刻液和控制退錫液管道對(duì)第一退錫區(qū)域噴灑退錫液，通過(guò)從圖像庫(kù)中識(shí)別目標(biāo)物料對(duì)應(yīng)的物料模型，并結(jié)合該目標(biāo)物料的位置信息和物料特征，能夠有效控制蝕刻液管道和退錫液管道針對(duì)性地對(duì)目標(biāo)物料進(jìn)行處理，無(wú)需蝕刻退錫設(shè)備加大噴灑的規(guī)?；蛘呒哟髧姙⒌膹?qiáng)度，有效減少了蝕刻液和退錫液的消耗量，提升了蝕刻退錫設(shè)備的工作效率，從而降低了線(xiàn)路板的加工成本。

37、通過(guò)以下參照附圖對(duì)本公開(kāi)的示例性實(shí)施例的詳細(xì)描述，本公開(kāi)實(shí)施例的其它特征及其優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得清楚。

38、附圖說(shuō)明

39、被結(jié)合在說(shuō)明書(shū)中并構(gòu)成說(shuō)明書(shū)的一部分的附圖示出了本公開(kāi)的實(shí)施例，并且連同其說(shuō)明一起用于解釋本公開(kāi)實(shí)施例的原理。

40、圖1是根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的控制蝕刻退錫設(shè)備處理物料的運(yùn)行系統(tǒng)的組成結(jié)構(gòu)示意圖；

41、圖2是根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的蝕刻退錫設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；

42、圖3是根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的多個(gè)蝕刻區(qū)域和多個(gè)退錫區(qū)域的示意圖；

43、圖4是根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的控制蝕刻退錫設(shè)備處理物料的運(yùn)行方法的流程示意圖；

44、圖5是根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的控制蝕刻退錫設(shè)備處理物料的運(yùn)行裝置的方框原理圖；

45、圖6是根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的電子設(shè)備的硬件結(jié)構(gòu)示意圖。