技術(shù)特征：

1.基于可調(diào)fabry-perot諧振腔的moems加速度敏感單元制備方法，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于可調(diào)fabry-perot諧振腔的moems加速度敏感單元制備方法，其特征在于，空腔厚度的確定步驟為：

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于可調(diào)fabry-perot諧振腔的moems加速度敏感單元制備方法，其特征在于，上布拉格層、下布拉格層中各膜層的厚度由公式確定，公式中h是各膜層的厚度，λ是入射光波長，n是各膜層的折射率。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于可調(diào)fabry-perot諧振腔的moems加速度敏感單元制備方法，其特征在于，襯底為硅晶圓、氮化鎵晶圓、砷化鎵晶圓或碳化硅晶圓。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于可調(diào)fabry-perot諧振腔的moems加速度敏感單元制備方法，其特征在于，犧牲層的材料為磷酸鹽玻璃、硼磷硅酸鹽玻璃或氧化硅。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任意一項所述的基于可調(diào)fabry-perot諧振腔的moems加速度敏感單元制備方法，其特征在于，步驟12中沉積的金屬為鋁、金、銀或銅。

7.基于可調(diào)fabry-perot諧振腔的moems加速度敏感單元，采用權(quán)利要求1-6任意一項所述的基于可調(diào)fabry-perot諧振腔的moems加速度敏感單元制備方法制備，其特征在于，包括：

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基于可調(diào)fabry-perot諧振腔的moems加速度敏感單元，其特征在于，彈性梁的形狀為一字形、l形或u形。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及微電子機械系統(tǒng)領(lǐng)域，為了提高工藝適用性并降低成本，提供了基于可調(diào)Fabry?Perot諧振腔的MOEMS加速度敏感單元及其制備方法，該制備方法基于表面犧牲層工藝進行，包括：在襯底上沉積下布拉格層、犧牲層、上布拉格層、質(zhì)量塊層和電極層，并采用光刻和刻蝕工藝制備絕緣槽、可動鏡、彈性梁、支撐框架、質(zhì)量塊和上下電極，最后采用濕法腐蝕或氣態(tài)氟化氫腐蝕工藝去除犧牲層，對整體結(jié)構(gòu)進行釋放，形成可調(diào)Fabry?Perot諧振腔；上述方式與廣泛使用的CMOS工藝兼容，工藝適用性更強，成本更低。

技術(shù)研發(fā)人員：李明,閆曉劍,夏維高
受保護的技術(shù)使用者：四川智遠樂享軟件有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/8