技術(shù)特征：

1.一種三維形狀檢查裝置，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三維形狀檢查裝置，其中，還包括：

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三維形狀檢查裝置，其中，

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的三維形狀檢查裝置，其中，還包括：

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的三維形狀檢查裝置，其中，

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的三維形狀檢查裝置，其中，還包括：

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的三維形狀檢查裝置，其中，

8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的三維形狀檢查裝置，其中，還包括：

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的三維形狀檢查裝置，其中，

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的三維形狀檢查裝置，其中，

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的三維形狀檢查裝置，其中，

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的三維形狀檢查裝置，其中，

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的三維形狀檢查裝置，其中，

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三維形狀檢查裝置，其中，

15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三維形狀檢查裝置，其中，

16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三維形狀檢查裝置，其中，

17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三維形狀檢查裝置，其中，

18.一種三維形狀檢查方法，包括：

19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的三維形狀檢查方法，其中，

20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的三維形狀檢查方法，其中，

技術(shù)總結(jié)
代表性實(shí)施例的三維形狀檢查裝置包括：光照射部，所述光照射部包括光源及被配置為對(duì)從所述光源接收的光進(jìn)行調(diào)制的空間光調(diào)制器，從而將具有多個(gè)焦點(diǎn)的多個(gè)光向下照射到測(cè)量對(duì)象的表面上；光學(xué)系統(tǒng)，所述光學(xué)系統(tǒng)使所述被調(diào)制的各個(gè)光根據(jù)色差按多個(gè)波長以互不相同折射率折射，從而在上下方向上形成使按波長折射的光聚焦的測(cè)量區(qū)間；光分路器，所述光分路器使所述測(cè)量對(duì)象反射的光中的一部分光透過，并使所述測(cè)量對(duì)象反射的光中的另一部分光反射；第一檢測(cè)部，所述第一檢測(cè)部檢測(cè)從所述光分路器透過的光的波長信息；及第二檢測(cè)部，所述第二檢測(cè)部檢測(cè)從所述光分路器反射的光的波長信息；其中，作為所述第一檢測(cè)部和所述第二檢測(cè)部中任一個(gè)的濾光檢測(cè)部包括阻擋特定波長以上光的濾光部而檢測(cè)未達(dá)所述特定波長的光的信息。

技術(shù)研發(fā)人員：崔亨守,姜仁圣,全文營
受保護(hù)的技術(shù)使用者：株式會(huì)社高迎科技
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/8