本技術(shù)涉及鍍膜設(shè)備，具體為一種蒸發(fā)源的防附著組件。

背景技術(shù)：

1、真空鍍膜技術(shù)在新材料、新能源、冶金化工及航空航天等領(lǐng)域占據(jù)越來(lái)越重要的位置。

2、真空鍍膜技術(shù)在使用時(shí)會(huì)采用到飽和蒸汽壓環(huán)境模式，對(duì)鍍膜原料進(jìn)行鍍膜處理，而由于采用蒸汽調(diào)整壓力環(huán)境情況達(dá)到不同的鍍膜效果，其中的蒸汽在使用時(shí)遇到較低溫度時(shí)會(huì)出現(xiàn)凝結(jié)情況，導(dǎo)致蒸發(fā)源內(nèi)部出現(xiàn)水滴，影響設(shè)備的正常鍍膜情況出現(xiàn)，影響鍍膜材料的成品品質(zhì)和設(shè)備的使用效果，導(dǎo)致設(shè)備在使用時(shí)存在一定的局限性，以及設(shè)備的實(shí)用性和適用性較低，為此，本實(shí)用新型提出一種新型解決方案。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種蒸發(fā)源的防附著組件，以解決上述背景技術(shù)中提出的問(wèn)題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：一種蒸發(fā)源的防附著組件，包括：

3、蒸發(fā)源本體；

4、防附著機(jī)構(gòu)，防附著機(jī)構(gòu)設(shè)置于蒸發(fā)源本體內(nèi)部，用于對(duì)靠近蒸發(fā)源本體內(nèi)壁的蒸汽進(jìn)行處理，減少蒸汽附著于蒸發(fā)源本體內(nèi)壁；

5、防附著機(jī)構(gòu)包括：

6、安裝腔，安裝腔開(kāi)設(shè)于蒸發(fā)源本體內(nèi)壁靠近中部，安裝腔內(nèi)部和蒸發(fā)源本體內(nèi)部之間相連通，安裝腔內(nèi)部和蒸發(fā)源本體內(nèi)部之間設(shè)置有加熱金屬筒，加熱金屬筒外表面設(shè)置有加熱線圈，加熱線圈安裝于安裝腔內(nèi)部。

7、優(yōu)選的，所述蒸發(fā)源本體內(nèi)部靠近頂端和底端均設(shè)置有安裝座和氣孔座，安裝座底端和蒸發(fā)源本體之間固定連接，氣孔座頂端和蒸發(fā)源本體之間活動(dòng)連接，安裝座頂端設(shè)置有放置板，放置板和安裝座之間設(shè)置有限位件，限位件用于確保放置板安裝穩(wěn)定性。

8、優(yōu)選的，所述限位件包括；

9、多個(gè)定位銷(xiāo)和定位孔，每個(gè)定位銷(xiāo)和定位孔之間相適配，每個(gè)定位銷(xiāo)頂端固定連接于放置板底端，每個(gè)定位孔均開(kāi)設(shè)于安裝座頂端。

10、優(yōu)選的，所述安裝座圓弧形表面開(kāi)設(shè)有多個(gè)貫穿內(nèi)部的貫穿氣孔，每個(gè)貫穿氣孔用于連通安裝座頂端和蒸發(fā)源本體內(nèi)部。

11、優(yōu)選的，所述氣孔座頂端開(kāi)設(shè)有多個(gè)貫穿底端的連通氣孔，每個(gè)連通氣孔之間相連通，氣孔座頂端設(shè)置有鎖緊調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，鎖緊調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)用于對(duì)氣孔座和蒸發(fā)源之間進(jìn)行快速的壓緊連接。

12、優(yōu)選的，所述鎖緊調(diào)節(jié)件包括：

13、螺紋筒和連接螺紋槽，連接螺紋槽開(kāi)設(shè)于蒸發(fā)源本體內(nèi)壁靠近底端，螺紋筒外表面螺接于螺紋槽內(nèi)壁，螺紋筒頂端固定連接有多個(gè)墊塊，每個(gè)墊塊頂端均活動(dòng)連接于氣孔座底端，螺紋筒外表面底端固定連接有六角旋轉(zhuǎn)塊，六角旋轉(zhuǎn)塊底端和螺紋筒內(nèi)部相連通。

14、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：

15、該蒸發(fā)源的防附著組件，通過(guò)設(shè)置的防附著機(jī)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)了設(shè)備在使用時(shí)可以對(duì)設(shè)備內(nèi)部的蒸汽進(jìn)行良好的控制，減少蒸汽和低于自身的物件進(jìn)行接觸，當(dāng)出現(xiàn)水滴附著于加熱金屬筒表面時(shí)，可以對(duì)其進(jìn)行快速的霧化，再次形成蒸汽，確保設(shè)備在使用時(shí)可以減少設(shè)備受到水滴影響導(dǎo)致的鍍膜效果不佳的情況出現(xiàn)，減少對(duì)鍍膜原料的影響，減少設(shè)備的使用局限性，增加設(shè)備的實(shí)用性和適用性。

技術(shù)特征：

1.一種蒸發(fā)源的防附著組件，其特征在于：包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種蒸發(fā)源的防附著組件，其特征在于：所述蒸發(fā)源本體（1）內(nèi)部靠近頂端和底端均設(shè)置有安裝座（2）和氣孔座（11），安裝座（2）底端和蒸發(fā)源本體（1）之間固定連接，氣孔座（11）頂端和蒸發(fā)源本體（1）之間活動(dòng)連接，安裝座（2）頂端設(shè)置有放置板（5），放置板（5）和安裝座（2）之間設(shè)置有限位件，限位件用于確保放置板（5）安裝穩(wěn)定性。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種蒸發(fā)源的防附著組件，其特征在于：所述限位件包括；

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種蒸發(fā)源的防附著組件，其特征在于：所述安裝座（2）圓弧形表面開(kāi)設(shè)有多個(gè)貫穿內(nèi)部的貫穿氣孔（15），每個(gè)貫穿氣孔（15）用于連通安裝座（2）頂端和蒸發(fā)源本體（1）內(nèi)部。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種蒸發(fā)源的防附著組件，其特征在于：所述氣孔座（11）頂端開(kāi)設(shè)有多個(gè)貫穿底端的連通氣孔（12），每個(gè)連通氣孔（12）之間相連通，氣孔座（11）頂端設(shè)置有鎖緊調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，鎖緊調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)用于對(duì)氣孔座（11）和蒸發(fā)源之間進(jìn)行快速的壓緊連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種蒸發(fā)源的防附著組件，其特征在于：所述鎖緊調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括：

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開(kāi)了一種蒸發(fā)源的防附著組件，涉及鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。包括蒸發(fā)源本體，防附著機(jī)構(gòu)，防附著機(jī)構(gòu)設(shè)置于蒸發(fā)源本體內(nèi)部，用于對(duì)靠近蒸發(fā)源本體內(nèi)壁的蒸汽進(jìn)行處理，減少蒸汽附著于蒸發(fā)源本體內(nèi)壁，防附著機(jī)構(gòu)包括安裝腔。本技術(shù)通過(guò)設(shè)置的防附著機(jī)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)了設(shè)備在使用時(shí)可以對(duì)設(shè)備內(nèi)部的蒸汽進(jìn)行良好的控制，減少蒸汽和低于自身的物件進(jìn)行接觸，當(dāng)出現(xiàn)水滴附著于加熱金屬筒表面時(shí)，可以對(duì)其進(jìn)行快速的霧化，再次形成蒸汽，確保設(shè)備在使用時(shí)可以減少設(shè)備受到水滴影響導(dǎo)致的鍍膜效果不佳的情況出現(xiàn)，減少對(duì)鍍膜原料的影響，減少設(shè)備的使用局限性，增加設(shè)備的實(shí)用性和適用性。

技術(shù)研發(fā)人員：李劍飛,劉華林,郝文濤,王超
受保護(hù)的技術(shù)使用者：蒙城繁楓真空科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240729
技術(shù)公布日：2025/5/8