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冷氫化流化床反應(yīng)系統(tǒng)與調(diào)控方法與流程

文檔序號:41851907發(fā)布日期:2025-05-09 18:11閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種冷氫化流化床反應(yīng)系統(tǒng),其特征在于,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷氫化流化床反應(yīng)系統(tǒng),其特征在于,還包括:

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷氫化流化床反應(yīng)系統(tǒng),其特征在于,還包括:

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷氫化流化床反應(yīng)系統(tǒng),其特征在于,還包括:

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的冷氫化流化床反應(yīng)系統(tǒng),其特征在于,在線粉塵濃度檢測儀為插入式安裝。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的冷氫化流化床反應(yīng)系統(tǒng),其特征在于,還包括:

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的冷氫化流化床反應(yīng)系統(tǒng),其特征在于,還包括:

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的冷氫化流化床反應(yīng)系統(tǒng),其特征在于,還包括:報警器,壓力檢測器將檢測到的壓力值發(fā)送給控制器,當(dāng)壓力值大于預(yù)設(shè)壓力值,則控制器控制報警器報警。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷氫化流化床反應(yīng)系統(tǒng),其特征在于,還包括:

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的冷氫化流化床反應(yīng)系統(tǒng),其特征在于,外置除塵裝置為旋風(fēng)分離器、過濾式除塵器、文丘里除塵器、濕法洗滌除塵器中的任意一種。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的冷氫化流化床反應(yīng)系統(tǒng),其特征在于,還包括:

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的冷氫化流化床反應(yīng)系統(tǒng),其特征在于,還包括:

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷氫化流化床反應(yīng)系統(tǒng),其特征在于,還包括:

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷氫化流化床反應(yīng)系統(tǒng),其特征在于,進氣元件的進氣方向反向于內(nèi)置旋風(fēng)分離器內(nèi)的內(nèi)置旋風(fēng)旋流方向且向上傾斜,向上垂直傾斜角度為0°~75°,水平方向逆向與內(nèi)置旋風(fēng)分離器內(nèi)壁切線夾角為15°~90°。

15.一種使用權(quán)利要求1~14任意一項所述的冷氫化流化床反應(yīng)系統(tǒng)的調(diào)控方法,其特征在于,包括以下步驟:

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的調(diào)控方法,其特征在于,使用權(quán)利要求4中所述的冷氫化流化床反應(yīng)系統(tǒng),所述的調(diào)控方法還包括以下步驟:

17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的調(diào)控方法,其特征在于,使用權(quán)利要求12中所述的冷氫化流化床反應(yīng)系統(tǒng),所述的調(diào)控方法還包括以下步驟:


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種冷氫化流化床反應(yīng)系統(tǒng)與調(diào)控方法,該系統(tǒng)包括:流化床反應(yīng)器,包括流化床反應(yīng)器本體、設(shè)置于流化床反應(yīng)器本體上的硅粉入口、混合氣入口、合成氣出口、管道貫穿孔;內(nèi)置旋風(fēng)分離器,設(shè)置于流化床內(nèi),內(nèi)置旋風(fēng)分離器的氣體出口與合成氣出口連接;進氣元件,與內(nèi)置旋風(fēng)分離器連接;進氣管道,貫穿管道貫穿孔與進氣元件連接;控制器,通過控制進氣元件控制其開閉以及調(diào)整氣流量,控制調(diào)整氣流量在預(yù)設(shè)流量范圍內(nèi),使得流化床反應(yīng)器內(nèi)的硅粉的粒徑在預(yù)設(shè)粒徑范圍內(nèi),硅粉的濃度在預(yù)設(shè)濃度范圍內(nèi)。本發(fā)明實現(xiàn)流化床反應(yīng)器內(nèi)失效硅粉穩(wěn)定可靠外排,保證系統(tǒng)穩(wěn)定并提高反應(yīng)轉(zhuǎn)化率,可實現(xiàn)流化床內(nèi)旋風(fēng)效率的有效判別及調(diào)控。

技術(shù)研發(fā)人員:張夢澤,郭芳,袁守明,范協(xié)誠,吳軍甫,寇興禹,劉飛,楊發(fā)
受保護的技術(shù)使用者:內(nèi)蒙古新特硅材料有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/5/8
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