本發(fā)明涉及含硅鋁合金用除垢劑和含硅鋁合金的除垢方法。

背景技術：

1、專利文獻1公開了在含硅鋁合金的陽極氧化處理方法和鍍敷方法中，使用包含無機酸和氟化物的除垢劑，進行除垢處理。

2、現(xiàn)有技術文獻

3、專利文獻

4、專利文獻1：日本特開2016-125100

技術實現(xiàn)思路

1、發(fā)明所要解決的技術問題

2、本發(fā)明的目的在于提供新型的除垢劑。

3、用于解決技術問題的技術方案

4、本發(fā)明的發(fā)明人進行了深入研究，結果開發(fā)了如下技術：通過在含有堿性化合物和硅酸鹽且不含氟化物的除垢劑中浸漬含硅鋁合金，能夠良好地除去含硅鋁合金的污垢(smut)。

5、即，本發(fā)明包括如下的含硅鋁合金用除垢劑和含硅鋁合金的除垢方法。

6、項1.

7、一種除垢劑，其是含硅鋁合金用除垢劑，含有堿性化合物和硅酸鹽。

8、項2.

9、如上述項1所述的除垢劑，其中，上述堿性化合物為選自下述化合物中的至少1種堿性化合物：選自鋰、鈉、鉀、銣和銫中的堿金屬的氫氧化物；以及選自四甲基氫氧化銨(tmah)、四乙基氫氧化銨(teah)、四丙基氫氧化銨(tpaoh)、四丁基氫氧化銨(tbaoh)、乙二胺鄰苯二酚(edp)、氫氧化銨(nh4oh)和肼中的銨化合物。

10、項3.

11、如上述項1或2所述的除垢劑，其中，上述硅酸鹽為選自硅酸鋰、硅酸鈉和硅酸鉀中的至少1種硅酸鹽。

12、項4.

13、如上述項1～3中任一項所述的除垢劑，其還含有過硫酸鹽。

14、項5.

15、如上述項4所述的除垢劑，其中，上述過硫酸鹽為選自過硫酸鈉、過硫酸鉀、過硫酸銨以及由過硫酸氫鉀、硫酸氫鉀和硫酸鉀形成的復鹽中的至少1種過硫酸鹽。

16、項6.

17、如上述項1～5中任一項所述的除垢劑，其中，在上述除垢劑中含有1.0質(zhì)量％～20.0質(zhì)量％的上述堿性化合物。

18、項7.

19、如上述項1～6中任一項所述的除垢劑，其中，在使用硅酸鈉和/或硅酸鉀作為上述硅酸鹽時，在上述除垢劑中含有20.0質(zhì)量％～38.0質(zhì)量％的sio2、6.5質(zhì)量％～19.0質(zhì)量％的na2o和/或k2o。

20、項8.

21、如上述項1～6中任一項所述的除垢劑，其中，在使用硅酸鋰作為上述硅酸鹽時，在上述除垢劑中含有20.0質(zhì)量％～22.0質(zhì)量％的sio2、1.3質(zhì)量％～3.1質(zhì)量％的li2o。

22、項9.

23、如上述項4～8中任一項所述的除垢劑，其中，在上述除垢劑中含有0.1質(zhì)量％～10.0質(zhì)量％的上述過硫酸鹽。

24、項10.

25、一種除垢方法，其是含硅鋁合金的除垢方法，其包括：

26、(1)在含有堿性化合物和硅酸鹽除垢劑中浸漬含硅鋁合金的工序。

27、項11.

28、如上述項10所述的除垢方法，其中，上述除垢劑還含有過硫酸鹽。

29、發(fā)明的效果

30、本發(fā)明能夠提供新型的除垢劑。

1.一種除垢劑，其是含硅鋁合金用除垢劑，所述除垢劑的特征在于：

2.如權利要求1所述的除垢劑，其特征在于：

3.如權利要求1或2所述的除垢劑，其特征在于：

4.如權利要求1～3中任一項所述的除垢劑，其特征在于：

5.如權利要求4所述的除垢劑，其特征在于：

6.如權利要求1～5中任一項所述的除垢劑，其特征在于：

7.如權利要求1～6中任一項所述的除垢劑，其特征在于：

8.如權利要求1～6中任一項所述的除垢劑，其特征在于：

9.如權利要求4～8中任一項所述的除垢劑，其特征在于：

10.一種除垢方法，其是含硅鋁合金的除垢方法，其特征在于，包括：

11.如權利要求10所述的除垢方法，其特征在于：